JP2000292669A - 支持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡便な構成でありながらも、複数の支持部位
にて均等な支持力で被支持物を支持できる支持装置で、
被支持物の姿勢を維持することが容易であり、被支持物
の姿勢を制限するための補助的手段を省略することがで
きる支持装置を得る。 【解決手段】 被支持物５に当接して下方から支持する
当接部材２を複数備えた第１支持手段と、前記第１支持
手段の当接部材２を下方から支持する保持部材３を複数
備えた第２支持手段と、前記第２支持手段の保持部材３
を下方から保持する基台１と、第１支持手段および第２
支持手段の連係する領域を複数に分割、独立させるよう
に前記連係領域を制限する連係制御手段４とを具備す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学素子の光学性
能検査装置や形状測定装置等に具備される支持装置で、
測定時に被支持物の変形を軽減できる支持装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、光学素子には極めて高精度の加工
精度が要求されるようになり、特に縮小投影型露光装置
に搭載される縮小投影光学素子においては、最も高精度
な加工精度が要求されるものの一つとなっている。この
ような縮小投影光学素子の加工形状精度を測定する場合
には、測定手段と縮小投影光学素子との相対的な位置決
めが極めて重要な役割を持ち、被測定物である光学素子
を測定手段の所定の測定位置に正確にかつ、被測定物を
変形させずに保持するための支持装置が必要となる。

【０００３】被測定物である被支持物が例えば投影レン
ズ等の光学素子の場合には、一般的に、上記の支持装置
としてレンズ周辺部を支持する構造の、具体的には枠状
基台の３等分割位置に回転自在に固定された部材に各々
二つずつ支持部材が設けられてなる支持装置が広く用い
られている。該支持装置は、被支持物を前記支持部材に
よって６ヶ所の接触点で支持しており、該６ヶ所の接触
点での応力が各回転自在構造により均等化され、縮小投
影光学素子等の被支持物との接触支持点において生じる
被支持物の変形量が平均して全体的に軽減されるような
構成となっている。

【０００４】また、縮小投影型露光装置と縮小投影光学
素子との相対的な位置決めを行うような場合には、被支
持物である縮小投影光学素子と接触する枠状基台の支持
部位を、縮小投影光学素子の形状に倣って極めて高い形
状精度で加工することにより、縮小投影光学素子の支持
部における変形量が微小となるような状態で支持する装
置を用いることもあった。

【０００５】さらに、反射鏡のように支持位置を特に限
定する必要のない光学素子について形状精度測定を行う
場合に用いられる支持装置としては、鏡の裏面で平面的
に支持する構造の装置がある。小口径のものであれば、
鏡裏面の全面をフェルトなどで平均に支持することもあ
るが、ある程度の大きさ以上の口径を持つ被支持物用に
は、鏡裏面の３ヶ所、６ヶ所、９ヶ所、１８ヶ所、…と
多点で接触支持し、各接触支持点における荷重や応力を
平均化する機構を持つ支持装置が用いられていた。

【０００６】ところが、上記の様な接触点を利用して複
数の接触点で被支持物を支持する方式の装置において
は、接触部位に生じる応力の均等化が比較的良好に実現
できるものの、さらに被支持物の変形量を軽減するため
には、被支持物との接触支持点数を増すことが必要とな
る。しかし、非常に多数の接触支持点を各々所定間隔で
基台上に形成することは実施が難しく、また、これら接
触支持点への荷重・応力を平均化するための機構も大型
化してしまい、構成が複雑で大きな空間も必要となり実
用的ではないといった問題点があった。

【０００７】また、被支持物の形状に倣って加工された
支持部位を持つ上記支持装置においては、被支持物の変
形量を軽減できる程度は、被支持物と接触する支持部位
の加工精度に依存し、局部的な接触区域における相互の
変形や、被支持物を載置する過程において接触により発
生する相互の変形を軽減しにくく、縮小投影光学素子の
持っている本来の光学性能が損なわれる恐れがあった。
また、被支持物ごとにその形状にあった形状に支持部位
を加工するためには多大な時間と労力を費やし、コスト
的に非常に問題があった。

【０００８】そこで、特開平７―２４８４４１号公報で
は、図３に示すような被支持物に当接する当接部材を複
数備えた第１支持手段１２と、該第１支持手段１２が前
記被支持物の荷重を均等に受けられるように基台１１と
前記第１支持手段１２の間に複数の保持部材を配置した
第２の支持手段１３とからなる簡便な構成でありながら
も、複数の支持部位にて均等な支持力で被支持物を支持
できる支持装置が開示されている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
発明では、被支持物を均等な支持力で支持できるもの
の、例えば光学素子の形状測定を行う場合に、測定装置
の測定手段に対して、被測定物すなわち被支持物を所定
の測定時間にわたって、所望の姿勢を保持することがで
きずに、計測精度に重大な影響を及ぼすといった問題が
あった。つまり上記発明では被支持物を載置する過程で
の第１支持手段１２を構成する当接部材と第２支持手段
１３を構成する保持部材および基台１１が相互に接触す
る部位において摩擦応力が発生するために、各支持部位
での支持力は該摩擦応力を含んで見かけ上均等になって
いる。その結果、被支持物を載置した後に装置本体の測
定環境（例えば温度、湿度等）が変わることよって、当
接部材や保持部材および基台が熱変形して前記摩擦応力
が変化し、支持力の均衡が崩れて、被支持物の初期の支
持姿勢が崩れるといった問題があった。この支持姿勢を
維持するためには、被支持物を載置した後で、被支持物
に軽い荷重をかけて、当接部材や保持部材等の摩擦応力
の分布をできるだけ均一に制御する補助的手段を併用し
て、支持姿勢を補正しなければならず、それでも補正は
十分ではないという問題もあった。

【００１０】本発明は、かかる上記課題を解決し、簡便
な構成で複数の支持部位にて均等な支持力で被支持物を
支持できる支持装置で、被支持物の姿勢を維持すること
が容易であり、被支持物の姿勢を制限するための補助的
手段を省略することができる支持装置を得ることを目的
とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、本発明者は当接部材や保持部材および
基台が相互に接触することによって、被支持物の荷重に
対応して発生する摩擦応力に着目し、該摩擦応力を低減
することにより被支持物の載置初期の支持姿勢を維持で
きることを見出した。

【００１２】請求項１に記載の発明に係る支持装置で
は、第１支持手段および第２支持手段の連係する領域を
複数に分割し、該分割された連係領域の相互における前
記第１支持手段および第２支持手段の連係を断ち、各連
係領域が独立するように前記連係領域を制限する連係制
御手段を具備することを特徴としている。また、請求項
２に記載の発明に係わる支持装置では、請求項１に記載
の支持装置において、基台が円形枠状であり、移動制御
手段として前記枠状基台の周上に設けられた溝状凹部を
備え、第２支持手段の保持部材が該溝状凹部底面上に配
置されたことを特徴としている。

【００１３】また、請求項３に記載の発明に係わる支持
装置では、請求項１あるいは請求項２に記載の支持装置
において、連係領域が３分割されていることを特徴とし
ている。また、請求項４に記載の発明に係わる支持装置
では、請求項１から請求項３のいずれかに記載の支持装
置において、連係領域が均等に分割されていることを特
徴としている。

【００１４】また、請求項５に記載の発明に係わる支持
装置では、請求項１から請求項４のいずれかに記載の支
持装置において、連係制御手段が、前記移動制御手段に
設けられた隔壁であることを特徴としている。また、請
求項６に記載の発明に係わる支持装置では、請求項１か
ら請求項４のいずれかに記載の支持装置において、連係
制御手段が、前記第２支持手段を構成する保持部材の一
部を固定した固定部材からなることを特徴としている。

【００１５】また、請求項７に記載の発明に係わる支持
装置では、請求項６に記載の固定部材の形状が保持部材
の形状とは異なる形状例えば、円柱、円錐、多角柱、多
角錐等であることを特徴としている。 (作用)請求項１に記載の発明では、第１支持手段の複数
の当接部材を被支持物に当接して下方から支持し、第２
支持手段の複数の保持部材が第１支持手段の当接部材を
下方から支持し、この第２支持手段の保持部材を下方か
ら基台部が保持する支持装置であり、第２支持手段の保
持部材は、基台上を移動制御手段によってあらかじめ定
められた制限範囲内を横方向へ移動可能となっており、
該移動制御手段の長手方向においてはあらかじめ連係制
御手段によって分割された連係領域内に制限されて移動
可能となっている。さらに、当接部材と保持部材は連係
制御手段により分割され、あらかじめ定められた連係領
域内で、互いに接触し該接触部位において互いに生じる
相互反力の方向が被支持物の荷重方向に対して傾斜する
ものであり、当接部材のうち被支持物からの荷重を受け
た当接部材の変位により該当接部材と接する保持部材に
生じた横方向の力が、被支持物の荷重を受けていない当
接部材を支持する保持部材に付加されるよう前記各々の
保持部材が互いに連係するように配設されている。

【００１６】このような荷重、応力の分散、均等化は複
数の連係領域においてそれぞれ独立に行なわれ、最終的
には、各々の連係領域において、すべての保持部材の横
方向への力が均衡した状態で、第１支持手段の全ての当
接部材が均等な支持力で被支持物を支持する。ここで、
第１支持手段を構成する当接部材と第２支持手段を構成
する保持部材および基台が相互に接触することにより発
生する前記摩擦応力は、第１支持手段および第２支持手
段の連結領域を分割、独立させて制限したことにより著
しく低減することができ、被支持物の荷重に対応する摩
擦応力は無視できる程度となった。したがって、各当接
部材による接触支持点に掛かる応力、支持力は、独立し
た複数の領域において均等となり、どこかの接触支持点
で荷重が偏って被支持物に局所的に大きな変形量が生じ
ることなく、変形量は全体的に均等な極めて小さいもの
となる。

【００１７】また、被支持物の載置に際しては、その被
支持物の形状に応じて複数の連係領域内で当接部材が流
動的に移動し、被支持物に安定した状態で当接、停止す
るので、従来のように被支持物を載置した後で作用する
環境変化の影響による被支持物の支持姿勢の経時変化を
生じる恐れがなく、支持姿勢を制限する補助的手段を用
いる必要もない。

【００１８】したがって、本発明の支持装置によれば、
初期の被支持物の姿勢を長期にわたって容易に維持する
ことができる。例えば、図１及び図２に示す実施の形態
のように、連係領域を３つの独立した領域として、球面
を支持した場合には、被支持球面の姿勢を制限するため
の補助手段を省略しても、被支持物の姿勢を一つに制
限、維持可能となる。

【００１９】また、請求項２に記載の発明は、円形枠状
の基台に移動制御手段として枠状基台の周上に溝状凹部
を複数備え、この溝状凹部内をその底面に沿って第２支
持手段の保持部材が移動するよう構成したものである。
このような構成においては、第１支持手段の当接部材に
よる接触支持部位が複数枠上基台の周上に存在すること
になるので、本発明の支持装置によれば、縮小投影光学
素子など中心部付近では光が透過可能な状態のまま支持
したい光学素子を、その周辺部のみで変形量が極めて小
さい状態で支持することができる。

【００２０】また、請求項３に記載の本発明は、連係領
域を３分割したために各連係領域において第１支持手段
と第２支持手段および基台の相互接触による摩擦応力を
著しく低減することができ、縮小投影光学素子など円盤
形状の被支持物を３ヶ所の支持部位で支持できるため安
定した支持姿勢を得ることができる。また、請求項４に
記載の発明は、連係領域を均等に分割したために各連係
領域における被支持物の荷重・応力の分散が均等化さ
れ、被支持物を安定した支持姿勢で維持することができ
る。

【００２１】また、請求項５に記載の発明は、連係制御
手段を移動制御手段に設けられた隔壁で構成したため
に、被支持物の大きさや形状に応じて連係領域の大きさ
や形状を任意に設定することができる。また、請求項６
に記載の発明は、連係制御手段が第２支持手段を構成す
る保持部材の一部を固定した固定部材からなるため、固
定部材の固定位置を任意に設定して、連係領域の大きさ
を任意に設定できる。

【００２２】また、請求項７に記載の発明は、固定部材
の形状を保持部材の形状とは異なる形状例えば円柱、円
錐、多角柱、多角錐等とすることにより、容易に固定部
材を固定することができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な実施の形
態について添付図面を用いて詳細に説明する。図１は本
発明の実施形態に係わる支持装置の平面図である。また
図２は、被支持物であるレンズ５を載置した状態の断面
図である。本実施形態の支持装置は、円形の枠状基台１
の基台部と、鋼球の当接部材２からなる第１支持手段
と、当接部材２よりも径の小さい鋼球の保持部材３から
なる第２支持手段と枠状基台１の周上で均等に３分割し
て形成された溝状凹部１ａの移動制御手段と、該移動制
御手段を均等に隔てている三つの隔壁の連係制御手段４
とからなっている。

【００２４】本支持装置は、上記の通り枠状基台１の周
上に溝状凹部１ａが均等に３ヶ所形成されており、この
溝状凹部１ａの底部に第１支持手段である球体の当接部
材２を支持する第２支持手段である球体の保持部材３が
円弧状に配置されて、三つの連係領域を持っている。こ
こでは、溝状凹部１ａは、保持部材３の可動範囲を制限
する移動制御手段となり、当接部材２の移動案内ともな
っている。各連係領域における当接部材２は、互いに隣
接する２つの保持部材３との各接触点と溝状凹部１ａの
側面との接触点とによって支持されている。

【００２５】ここで、被支持物であるレンズ５が本支持
装置に載置される際には、独立した三つの連係領域で、
まずそれぞれの第１支持手段の当接部材２のうち、レン
ズ５の荷重を受けた当接部材２は、荷重方向ヘ変位する
とともに、その荷重を下方で接触する二つの保持部材３
との接触点を相対移動させつつ接触部位から保持部材３
へ荷重方向に対して斜め方向の荷重分力として与える。
各保持部材３は、与えられた荷重分力と、溝状凹部１ａ
の底面と側壁面からの抗力とによって横方向の移動力を
持ち、互いに隣接する保持部材３同士でそれが支持する
当接部材２を介して力を伝達し合い、最終的には各連係
領域におけるすべての保持部材３の横方向の力が均衡し
た状態でかつ、独立した三つの連係領域のすべての当接
部材２がレンズ５に当接し、均等な支持力でレンズ５を
支持する安定状態となる。

【００２６】ここで、三ヶ所の連係領域では、全当接部
材２のレンズ５との接触支持部位における応力は均等化
されており、荷重・応力の偏りによるレンズ５の局所的
に大きな変形は生じることなく、変形量は均等で極めて
小さいものである。また、被支持物載置時における荷重
・応力の均等化を促進するために、振動発生手段（不図
示）を設けて基台に振動を与えても良い。

【００２７】溝状凹部１ａの幅や高さなどの形状は、用
いる当接部材２、保持部材３の形状、大きさに応じて設
定すれば良いが、枠状基台内周の側壁部にテーパー部１
ｂを設けるなど、被支持物を載置する際に、当接部材以
外の部分に被支持物が接触することがないよう設計する
必要がある。また、枠状基台１の周上で、第１支持手段
と第２支持手段の連係を制限し独立した３領域に分割す
る連係制御手段は、本実施形態の隔壁だけによらず、枠
状基台１の周上に形成された移動制御手段溝状凹部１ａ
に配置された保持部材３のうち、相対的に１２０°の角
度関係にある３個の保持部材を溝状凹部１ａの底面に固
定することによっても構成される。さらに、固定部材で
ある保持部材３の直径と概略同じ高さをもつ円柱や円
錐、さらには三角柱や四角柱等の多角柱、三角錐や四角
錐等の多角錐を固定部材として用いても良い。

【００２８】当接部材はより小型で多数であるほど接触
支持部位における被支持物の変形量は小さくなるが、用
いる当接部材の形状、大きさ、数、材質およびこれに対
応した保持部材の形状、大きさ、数等は、被支持物に応
じて許容されるあるいは要求される変形量の程度や、部
材の入手や製造し易さ、コスト等を考慮して適宜選択す
れば良い。例えば、縮小投影光学素子の支持装置では、
許容される変位量は数十ｎｍである。具体的には、口径
が１００〜４００ｍｍのレンズならば、半径１ｍｍ程度
の球体の当接部材２が数百個からなる第１支持手段が妥
当な構成である。当接部材の材質としては、本実施形態
では鋼製を用いたが、これに限定されることはなく、ル
ビー製、セラミックス製などを用いることができる。

【００２９】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、広い空
間を必要とせず、簡便な構成でありながらも、被支持物
を複数の接触支持点において均等な支持力で極めて変形
量の小さい状態で支持することができる。また、より被
支持物の変形量を軽減するために当接部材による接触支
持部位を容易に増加させることができる。さらに、被支
持物の変形量の軽減の程度が基台の加工形状精度に制限
されにくく、被支持物と当接部材との接触部位に生じる
応力を複数の接触部位の間で均等化することにより、接
触部位における相互の変形や、被支持物載置過程での接
触に伴う相互の変形を軽減することができる。さらにま
た、連係領域を分割することにより被支持物の載置後に
装置本体に作用する外力や、被支持物と基台の熱変形の
影響により被支持物と当接部材との接触部位に生じる局
部的な変形を軽減することができ、初期の被支持物の姿
勢を長期にわたって容易に維持できると同時に、被支持
物の姿勢を制限するための補助的手段を省略することが
できる。

【００３０】また、被支持物が、縮小投影光学素子のよ
うに、周辺部でのみ支持されるべき光学部材であって
も、本発明の支持装置によれば、簡単な構造でありなが
ら、複数の接触支持部位において均等な支持力で極めて
変形量が小さい状態で支持することができると同時に、
被支持物の姿勢を維持することが容易であり、被支持物
の姿勢を制限するための補助的手段を省略することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施の形態による支持装置の構成
を示す平面図。

【図２】本発明に係る実施の形態による支持装置の構成
を示す断面図。

【図３】従来の支持装置の構成を示す平面図。

【符号の説明】

１，１１：基台 １ａ：基台凹部 ２，１２：当接部材（第１支持手段） ３，１３：保持部材（第２支持手段） ４，：隔壁（連係制御手段） ５：被支持物

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被支持物に当接して下方から支持する当
   接部材を複数備えた第１支持手段と、前記第１支持手段
   の当接部材を下方から支持する保持部材を複数備えた第
   ２支持手段と、前記第２支持手段の保持部材を下方から
   保持する基台と、を具備し、前記第２支持手段は、前記
   保持部材を基台上で横方向へ移動可能に構成するととも
   に、その可動範囲をあらかじめ定めた範囲に制限する移
   動制御手段を備えており、前記当接部材と前記保持部材
   とは、互いに接触し、当該接触部位において互いの部材
   に生じる相互反力の方向が当接部材が支持する被支持物
   の荷重方向に対して傾斜するように配置され、前記当接
   部材のうち被支持物からの荷重を受けた当接部材の変位
   により該当接部と接する保持部材に生じた横方向の力
   が、被支持物の荷重を受けていない当接部材を支持する
   保持部材に付加されるよう前記各々の保持部材が互いに
   連係するように配設され、被支持物を載置した際に、前
   記被支持物に当接してその荷重を受ける当接部材からの
   前記荷重による斜め方向の分力によって該当接部材と当
   接する保持部材に横方向への分力が付加され、これによ
   り横方向へ移動される該保持部材に連係された他の保持
   部材に横方向の力が付加され、該他の保持部材に支持さ
   れ前記被支持物に当接していなかった当接部材が押し上
   げられて前記被支持物に当接し、すべての保持部材の横
   方向への力が均衡した状態で、前記第１支持手段のすべ
   ての当接部材が均等な支持力で前記被支持物を保持する
   支持装置において、前記第１支持手段および第２支持手
   段の連係する領域を複数に分割し、該分割された連係領
   域の相互における前記第１支持手段および第２支持手段
   の連係を断ち、各連係領域が独立するように前記連係領
   域を制限する連係制御手段を具備することを特徴とする
   支持装置。
2. 【請求項２】 前記基台が円形枠状であり、前記移動制
   御手段として前記枠状基台の周上に設けられた溝状凹部
   を備え、前記第２支持手段の保持部材は、該溝状凹部底
   面上に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の支
   持装置。
3. 【請求項３】 前記連係領域が３分割されていることを
   特徴とする請求項１あるいは請求項２に記載の支持装
   置。
4. 【請求項４】 前記連係領域が均等に分割されているこ
   とを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載
   の支持装置。
5. 【請求項５】 前記連係制御手段が、前記移動制御手段
   に設けられた隔壁であることを特徴とする請求項１から
   請求項４のいずれかに記載の支持装置。
6. 【請求項６】 前記連係制御手段が、前記第２支持手段
   を構成する保持部材の一部を固定した固定部材からなる
   ことを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記
   載の支持装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の固定部材の形状が保持
   部材の形状とは異なる形状例えば、円柱、円錐、多角
   柱、多角錐等であることを特徴とする支持装置。