JPH09283398A

JPH09283398A - 試料台、反射鏡保持装置及び露光装置

Info

Publication number: JPH09283398A
Application number: JP8615896A
Authority: JP
Inventors: Toshiya Otomo; 俊弥大友
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-04-09
Filing date: 1996-04-09
Publication date: 1997-10-31

Abstract

(57)【要約】【課題】反射鏡の変形を軽減できる反射鏡保持機構を
提供する。【解決手段】本発明によれば、反射鏡（１１２）と反
射鏡保持機構（１１８）との間に高剛性部材（２００）
が介装される。その結果、接触部に生じる反力（２０
４）が分散し、反射鏡の変形量（傾き）が軽減され、反
射鏡の面精度の向上が図れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハやＬＣＤ基
板などの感光基板（以下、基板と称する。）やフォトマ
スクやレチクル（以下、レチクルと称する。）などの試
料を載置する試料台に係り、特に、該試料台の位置を光
学的に計測するための反射鏡の保持装置に係り、さらに
は該試料台または該反射鏡保持装置を備えた露光装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体やＬＣＤ基板などを製造する際の
リソグラフィ工程で使用される露光装置では、レチクル
上に形成された回路パターンの像を基板上に高精度で重
ね合わせ露光するために、レチクルや基板を高精度に位
置合わせ（アライメント）する必要がある。そして、ア
ライメントに際して、移動ステージ上に載置されたレチ
クルや基板の位置を高精度に測定するために、レーザ干
渉計などの光学的な位置測定装置が設けられている。レ
ーザ干渉計は、レーザ光源より移動ステージ上に固定さ
れた反射鏡（移動鏡）に対して光ビームを照射し、その
反射光の干渉現象を利用して、移動ステージの位置（レ
ーザ干渉計からの距離）を高精度に知ることができるも
のである。従って、レーザ干渉計などの光学的な位置測
定装置を使用する場合には、位置測定対象物に取り付け
られる光ビーム反射部材（反射鏡）の反射面を高精度に
位置決めする必要がある。

【０００３】図７には、移動ステージ上に反射鏡を保持
するための従来の反射鏡保持機構１０が示されている。
図７に示すように、レチクルや基板を載置する移動ステ
ージＳＴの縁部には、反射鏡１２を垂直（重力）方向
（Ｚ方向）に保持するための底面保持部材１４が形成さ
れている。この底面保持部材１４の保持面には、図８に
示すように３つの微小突起１６（１６ａ〜１６ｃ）が形
成されている。３つの微小突起１６（１６ａ〜１６ｃ）
は、微小突起１６ａを頂点する２等辺三角形を構成する
ように配されており、後述するように、反射鏡１２は、
これらの３つの微小突起１６（１６ａ〜１６ｃ）により
３点支持される。

【０００４】また同縁部には、反射鏡１２を水平方向
（Ｘ方向）に保持するための２つの前面保持部材１８
（１８ａ、１８ｂ）が取り付けられている。そして、図
９に示すように、その前面保持部材１８の反射鏡１２側
には、半球状接触部２０が取り付けられている。なお前
面保持部材１８ａ、１８ｂは同様の構造を有しており、
以下では、前面保持部材１８として一般的な説明を行
い、個別部材ごとの説明は省略する。

【０００５】さらに同縁部には、２つの前面保持部材１
８（１８ａ、１８ｂ）と反射鏡１２を介して対向するよ
うに２つの与圧部材２２（２２ａ、２２ｂ）が取り付け
られている。図９に示すように、与圧部材２２は、コイ
ルバネ２４により反射鏡１２方向に押圧される半球状押
圧部材２６を備えている。なお、与圧部材２２ａ、２２
ｂも同様の構造を有しており、以下では、与圧部材２２
として一般的な説明を行い、個別部材ごとの説明は省略
する。そして、図９に示すように、前面保持部材１８の
半球状接触部２０と与圧部材２２の半球状押圧部材２６
と反射鏡１２との２つの接触点２０ａ、２６ａは同軸を
成すように配置される。また与圧部材２２は、反射鏡１
２を垂直方向（Ｚ方向）下方に押圧する板バネ２８を備
えている。

【０００６】上記のように構成された反射鏡保持機構１
０に反射鏡１２を位置決めする際には、まず反射鏡１２
を底面保持部材１４と前面保持部材１８ａ、１８ｂに押
し当てて位置決めする。そして、垂直方向に関しては、
図９に示すように、微小突起１６ａの直上と微小突起１
６ｂ、１６ｃの中間点の直上に対して反射鏡１２を介し
て板バネ２８（接触点２８ａ）により与圧をかける。ま
た水平方向に関しては、図９に示すように、前面保持部
材１８の半球状接触部２０の球面接触点２０ａと与圧部
材２２の半球状押圧部材２６の球面接触点２０ｂに対し
て移動鏡１２を介してコイルバネ２４で与圧をかける。
そして、各与圧作用点の同軸度に関しては、反射鏡１２
の反射面１２ａの面精度を良くするように位置及び寸法
管理が成されている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のような従来の反
射鏡保持構造１０では、反射鏡１２と各保持部材（例え
ば、底面保持部材１４、前面保持部材１８、与圧部材２
２など）との接触点（例えば、底面保持部材１４の微小
突起１６ａ〜１６ｃ、前面保持部材１８の半球状接触部
２０の球面接触点２０ａ、与圧部材２２の半球状押圧部
材２６の球面接触点２６ａ、与圧部材２２の板バネ２８
の接触点２８ａなど）が微小領域であるため、与圧部材
２２のコイルバネ２４や板バネ２８のバネ力などによ
り、各与圧作用点に作用する反力が反射鏡１２の微小領
域に作用して、接触点付近の変形が大きくなる。その結
果、取り付けた反射鏡１２が接触点付近の変形により傾
き、反射面１２ａに所望の面精度が得られないという問
題があった。

【０００８】本発明は、上記のような従来の問題点に鑑
みてなされたものであり、光学的位置測定装置に使用さ
れる反射鏡の材質を変更することなく、反射鏡保持機構
から受ける反力により反射鏡の接触点付近に生じる変形
に起因する反射鏡の面精度の劣化や個体差の発生を未然
にかつ効果的に防止することが可能な、新規かつ改良さ
れた反射鏡の保持機構、さらにはその保持機構を備えた
試料台や露光装置を提供することを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、まず、光ビームを反射する平面（１１２
ａ）を備えた反射部材（１１２）をその平面が球面状の
接触部（１２０）に当接するように押圧して保持する試
料台（ＳＴ）に適用される。そして、本発明の第１の観
点によれば、その試料台（ＳＴ）は、反射部材（１１
２）の平面と接触部（１２０）との間に、その平面をな
す材料よりも高い剛性を有する剛性部材（２００）を設
けて、その剛性部材（２００）と接触部（１２０）と
を、例えば面接触、点接触、円弧接触、または球面接触
させている。なお、かかる試料台（ＳＴ）は、例えば、
マスク上のパターンの像で感光基板を露光する装置に設
けられ、マスクや感光基板を載置するために使用され
る。

【００１０】さらに、本発明は、光ビームを反射する平
面（１１２ａ）を備えた反射鏡（１１２）をその平面が
接触部（２００）に当接するように押圧して保持する装
置にも適用される。そして、本発明の第２の観点によれ
ば、その反射鏡（１１２）の保持装置（１００）は、反
射鏡（１１２）の上記平面と接触部（１２０）との間
に、その平面をなす材料よりも高い剛性を有する剛性部
材（２００）を挟んで接触部（１２０）と同軸上に配置
される押圧部材（１２６）を介して反射鏡（１１２）を
与圧で固定する与圧部材（１２２）を設けている。な
お、接触部（１２０）と押圧部材（１２６）とを共に球
面状に構成しても良い。さらに、上記反射鏡（１１２）
の保持装置（１００）において、反射鏡（１１２）は、
物体を載置して２次元移動するステージ（ＳＴ）上に、
そのステージ（ＳＴ）の移動方向にほぼ沿って延びた反
射平面の少なくとも２箇所で接触部に当接して固定され
ることが好ましい。

【００１１】さらに、本発明は、マスク上のパターンの
像で露光される感光基板を保持して移動する基板ステー
ジ（ＳＴ）と、その基板ステージ（ＳＴ）上の反射鏡
（１１２）に光ビームを投射してその位置を測定する干
渉計と、その反射鏡（１１２）をその反射面（１１２
ａ）が接触部に当接するように押圧して保持する部材
（１００）とを備えた露光装置に適用される。そして、
本発明の第３の観点によれば、上記露光装置において、
反射鏡（１１２）の反射面と保持部材（１００）の接触
部との間に、その反射面よりも高い剛性を有する剛性部
材（２００）を設けている。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら、
本発明装置を、露光装置の移動ステージに実装される反
射鏡保持機構に適用した実施の一形態について詳細に説
明する。図１には、レチクル上に形成された回路パター
ンの像を基板上に投影露光する露光装置において、レチ
クルや基板などの試料を載置して２次元移動可能な試料
台、すなわち移動ステージＳＴの一部が示されている。
図１の例では、反射鏡１１２は、本反射鏡保持機構１０
０により、移動ステージＳＴの縁部において、その一方
の移動方向（Ｙ方向）にほぼ沿って延びるように、高精
度に位置決めされかつ固定されている。この反射鏡１１
２は、ＹＺ平面に略平行であり、かつＹ方向に延びた略
矩形の反射面１１２ａを有している。反射鏡１１２は、
例えば、ゼロデュアなどから成り、その反射面１１２ａ
は、例えば、アルミニウムなどから成っている。この反
射鏡１１２は、不図示の光学的位置測定装置（いわゆる
レーザ干渉計）の一部をなしている。レーザ干渉計は、
反射面１１２ａに対して、不図示のレーザ光源より光ビ
ームを照射し、その反射光の干渉現象により、Ｘ方向に
関する移動ステージＳＴの位置（レーザ光源からの距
離）を高精度に測定することができる。図示は省略して
いるが、移動ステージＳＴには、ＸＺ平面に略平行であ
り、かつＸ方向に延びた略矩形の反射面を有する反射鏡
も設けられており、その反射面に別のレーザ干渉計より
光ビームを照射してＹ方向に関する移動ステージＳＴの
位置を測定することができる。

【００１３】以上のように、移動ステージＳＴは、２系
統（Ｘ方向またはＹ方向）の光学的位置測定装置を備え
ることにより、その位置座標を高精度に測定できる。そ
して、移動ステージＳＴの位置測定を高精度かつ安定的
に行うためには、反射鏡１１２の反射面１１２ａがレー
ザ光源（不図示）に対して高い面精度を有するように、
反射鏡１１２を移動ステージＳＴに位置決めし、固定す
る必要がある。そのための本実施の形態にかかる反射鏡
保持機構１００について、以下に説明する。

【００１４】図１に示すように、反射鏡保持機構１００
は、反射鏡１１２を水平方向（Ｘ方向）及び垂直方向
（Ｚ方向）に対して高精度に位置決めする必要がある。
水平方向保持機構として、反射鏡保持機構１００は、前
部保持部材１１８（１１８ａ、１１８ｂ）と与圧部材１
２２（１２２Ａ、１２２Ｂ）の半球状押圧部材１２６
（コイルバネ１２４）を備えている。また垂直方向保持
機構として、反射鏡保持機構１００は、図２に示す底部
保持部材１１４（微小突起１１６）と与圧部材１２２
（１２２Ａ１２２Ｂ）の板バネ１２８を備えている。

【００１５】まず、垂直方向保持機構をなす底面保持部
材１１４について説明する。底面保持部材は１１４は、
図２に示す如く、保持される反射鏡１１２の底面とほぼ
同形状の保持面１１４ａを備えている。この保持面１１
４ａは、反射鏡１１２の位置決めをし易いように、移動
ステージＳＴよりも若干嵩高に構成されている。この保
持面１１４ａには、３つの微小突起１１６（１１６ａ〜
１１６ｃ）が形成されている。これらの微小突起１１６
（１１６ａ〜１１６ｃは）、微小突起１１６ａを頂点と
し微小突起１１６ｂ、１１６ｃ間を底辺とする二等辺三
角形を成すように配置される。このように３点で反射鏡
１１２を保持する構成としたのは、面で反射鏡１１２を
保持する場合にはそれぞれの接触面の面精度を向上させ
る必要があり、従って、最小の面積で略矩形の反射鏡１
１２の底面を安定的かつ容易に保持するためには、本実
施の態様のように３点支持が最適だからである。しか
し、本発明はかかる例に限定されず、反射鏡１１２を４
点以上の点で支持したり、面で支持する構成を採用する
ことも可能である。また本実施の態様の場合、微小突起
１１６（１１６ａ〜１１６ｃ）は、後述するように、前
部保持部材１１８（１１８ａ、１１８ｂ）及び与圧部材
１２２（１２２Ａ、１２２Ｂ）に対応する位置に配置さ
れるので、前部保持部材１１８及び与圧部材１２２の設
置個数に応じて、微小突起１１６の個数も調整する必要
がある。

【００１６】次に、水平保持機構をなす前部保持部材１
１８（１１８ａ、１１８ｂ）について説明する。前部保
持部材１１８（１１８ａ、１１８ｂ）は、図３に示すよ
うに、アルミニウムやステンレスなどから成る略Ｌ字状
断面を有する部材であり、その背の部分１１８ｄの上部
が移動ステージＳＴの上面から張り出すように、その足
の部分１１８ｅが移動ステージＳＴの反射鏡取り付け縁
部の前方に取り付けられている。さらに、前部保持部材
１１８の背の部分１１８ｄの内側（反射鏡１１２取り付
け側）には、半球状接触部１２０が取り付けられてい
る。この半球状接触部１２０は、一般に、ステンレスな
どから成り、反射鏡１１２の反射面１１２ａよりも高い
剛性を有している。かかる半球状接触部１２０の設置位
置及び寸法管理については後述する。

【００１７】次に、水平保持機構及び垂直保持機構の一
部を成す与圧部材１２２について説明する。この与圧部
材１２２は、移動ステージＳＴに固定されて、コイルバ
ネ１２４を収納する基部１２２ａと、反射鏡１１２に対
向するように立設されて板バネ１２８の位置決めを行う
壁部１２２ｂとを備えている。水平方向保持機構を成す
コイルバネ１２４は、前記基部１２２ａに形成された孔
１２２ｃ内に、半球状押圧部材１２６をその先端が反射
鏡１１２に当接するように挿入した後、その反対端に与
圧を加えるように挿入され、その後、底板１２２ｄを螺
子１２２ｅにより止めることにより、基部１２２ａ内に
収容される。この結果、半球状押圧部材１２６はコイル
バネ１２４により押圧されて、後述するように、接触点
１２６ａにおいて反射鏡１１２の裏面に接触する。この
半球状押圧部材１２６の設置位置及び寸法管理について
は後述する。また、前記基部１２２ａには板バネ１２８
の一端１２８ａが螺子１２２ｆなどの固定手段により固
定されている。板バネ１２８は固定端１２８ａから与圧
部材１２２の壁部１２２ｂに沿った立ち上がり部１２８
ｂを備え、壁部１２２ｂによりその高さ位置が規定され
て下方に屈曲する屈曲部１２８ｃを備え、屈曲部１２８
ｃに形成された接触部１２８ｄにおいて、反射鏡１１２
の上面に接触する。この板バネ１２８の設置位置及び寸
法管理についても後述する。

【００１８】次に、以上のように構成された反射鏡保持
機構１００に反射鏡１１２を位置決めし固定する動作に
ついて説明する。まず、反射鏡１１２を底面保持部材１
１４の微小突起１１６（１１６ａ〜１１６ｃ）上に載置
した後、反射鏡１１２を前面保持部材１１８の半球状接
触部１２０に対して、例えばセラミック板から成る板状
の高剛性部材２００を介して位置決めする。反射鏡１１
２を高剛性部材２００を介して前面保持部材１１８の半
球状接触部１２０に当接させた後、与圧部材１２２の基
部１２２ａに半球状押圧部材１２６とコイルバネ１２４
とを順次挿入し、底板１２２ｄで蓋をして螺子１２２ｅ
で固定することにより、半球状押圧部材１２６で反射鏡
１１２を押圧し、水平方向に位置決めすることができ
る。なお、水平方向に関する前面保持部材１１８の半球
状接触部１２０と与圧部材１２２の半球状押圧部材１２
６との位置決め（同軸度）は、半球状接触部１２０と高
剛性部材２００との接触点２００ａと半球状押圧部材１
２６と反射鏡１１２との接触点１２６ａとを結ぶ直線
が、底面保持部材１１４の微小突起１１６ａの直上また
は微小突起１１６ｂ、１１６ｃの直上を通り、かつその
直線が反射鏡１１２の反射面１１２ａの垂線を成すよう
に寸法及び位置を管理する。

【００１９】次いで、板バネ１２８を与圧部材１２２の
基部１２２ａに螺子１２２ｆにより固定し、板バネ１２
８で反射鏡１１２を底面保持部材１１４の微小突起１１
６（１１６ａ〜１１６ｃ）上に押圧することにより、垂
直方向の位置決め及び保持が行われる。なお、垂直方向
に関する与圧部材１２２の板バネ１２８と底面保持部材
１１４の微小突起１１６（１１６ａ〜１１６ｃ）との位
置決め（同軸度）は、板バネ１２８と反射鏡１１２との
接触部１２８ｄが微小突起１１６ａの直上、または微小
突起１１６ｂと微小突起１１６ｃとの中点の直上に位置
するように寸法及び位置を管理する。

【００２０】以上のように、本実施の形態によれば、反
射鏡１１２を反射鏡保持機構１００に取り付けるに際し
て、反射鏡１１２と前面保持部材１１８の半球状接触部
１２０との間に高剛性部材２００が介装される。この
点、従来の装置では、図９に示すように、高剛性部材２
００を介さずに、反射鏡１２の接触面よりも高い剛性を
有する半球状接触部２０が直接当接されていたので、接
触点２０ａに生じる反力により接触面に変形が生じ、そ
れが反射鏡１２の反射面１２ａの面精度を劣化させてい
た。しかし、本実施の形態によれば、半球状接触部１２
０と反射鏡１１２との間に高剛性部材２００が介装さ
れ、半球状接触部１２０と高剛性部材２００との接触点
２００ａに発生する反力２０２が、高剛性部材２００と
反射鏡１１２との接触面２００ｂにおいて分布荷重２０
４として作用するので、反射鏡１１２に発生する保持部
材接触点での変形量（傾き）が軽減され、その結果、反
射鏡１１２の反射面１１２ａの面精度を向上させること
ができる。

【００２１】なお上記実施の形態では、セラミックなど
から成る剛性部材を反射鏡１１２の反射面１１２ａ側と
前面保持部材１１８との間にのみ介装したが、これは、
反射鏡１１２の反射面１１２ａ側が最も高い面精度を要
求されるからであり、本発明はかかる例に限定されるも
のではない。本発明によれば、反射鏡との保持部材との
他の接触部、例えば、与圧部材１２２の半球状押圧部材
１２６と反射鏡１１２との間、与圧部材１２２の板バネ
１２８と反射鏡１１２との間、あるいは底面保持部材１
１４の微小突起１１６（１１６ａ〜１１６ｃ）と反射鏡
１１２との間に、それぞれ高剛性部材を介装することに
より、その接触部に生じる反力を分散させ、その接触部
に生じる変形量（傾き）を軽減することができる。

【００２２】また、図３に示す例では、反射鏡１１２の
反射面１１２ａ側と前面保持部材１１８との間に介装さ
れる高剛性部材２００として板状のセラミック部材を使
用しているが、本発明はかかる例に限定されず、各種形
状のものを使用することができる。例えば、図４に示す
ように、前面保持部材１１８に対する取り付け部２２２
を備えた高剛性部材２２０を使用することも可能であ
る。図３に示す例では、高剛性部材２００は単に前面保
持部材１１８の半球状接触部１２０と反射鏡１１２との
間に挟持されることにより固定されていたものである
が、本実施の態様によれば、取り付け部２２２を螺子２
２４などの固定手段により前面保持部材１１８に固定す
ることができるので、より簡便にかつ安定的に反射鏡１
１２を取り付けることが可能となる。なお、本実施の形
態及び以下の説明において、図１〜図３に関連する実施
の形態においてすでに説明した部材とほぼ同一の機能構
成を有する部材については、同一の参照番号を付するこ
とにより重複説明を省略することにする。

【００２３】また、図３及び図４に示す実施の形態で
は、高剛性部材２００、２２０は、前面保持部１１８の
半球状接触部１２０と点接触していたが、図５に示すよ
うに、高剛性部材２４０に半球状接触部１２０の形状に
合致する半球状の凹部２４２を形成し、その凹部２４２
に半球状接触部１２０を面接触（または球面接触）させ
るように構成すれば、接触部分で生じる反力を矢印２４
４に示すように半径方向外方に拡散することが可能とな
り、高剛性部材２４０自体の変形量を軽減することがで
きる。これにより、高剛性部材２４０から反射鏡１１２
に作用する分布荷重２４６のより一層の均一化が図れ、
反射鏡１１２の変形量（傾き）をさらに一層軽減すると
ともに、反射面１１２ａの面精度をさらに一層向上させ
ることができる。

【００２４】なお図５に示す実施の形態では、高剛性部
材２４０の半球状接触部１２０との接触部を半球状の凸
部２４２に形成したが、図６に示す高剛性部材２６０の
ように円錐状の凸部２６２を形成すれば、加工をより簡
略化できる。この場合には、半球状接触部１２０と高剛
性部材２６０とは円弧接触するので、接触部分で生じる
反力は矢印２４６に示すように半径方向外方に拡散し、
図５に示す実施の形態と同様に、高剛性部材２６０自体
の変形量を軽減することができる。従って、高剛性部材
２６０から反射鏡１１２に作用する分布荷重２６６の均
一化が図れ、反射鏡１１２の変形量（傾き）を軽減する
とともに、反射面１１２ａの面精度を向上させることが
できる。

【００２５】例えば、上記実施の形態では、高剛性部材
として、セラミック製のものを示したが、本発明はかか
る例に限定されず、要するに反射鏡１１２の接触部より
も高い剛性を有する部材であれば、各種材料のもの、例
えば「セラミック以外に高剛性部材として使用できるも
のがあれば列挙してして下さい。」を使用することがで
きる。

【００２６】また、上記実施の形態では、反射鏡を保持
する機構を例に挙げて本発明を説明したが、本発明は、
高い面精度を確保する必要がある試料を保持する各種試
料台に適用することができる。さらに、上記実施の形態
では、本発明を露光装置に適用した場合を例に挙げて説
明したが、本発明は、かかる例に限定されず、レーザ加
工装置など、位置計測装置が設けられた移動ステージを
利用する各種装置に適用することが可能であることは言
うまでもない。

【００２７】以上、本発明の好適な実施の形態について
説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言
うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載
された技術的思想の範疇において各種変更及び修正に想
到し得ることは明らかであり、それらについても本発明
の技術的範囲に属するものと解される。

【００２８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
反射鏡（１１２）とその保持機構（１１８）との間に高
剛性部材（２００）が介装されるので、保持機構（１１
８）から反射鏡（１１２）に作用する反力（２０４）が
高剛性部材（２００）により分散され、反射鏡の変形量
（傾き）が軽減され、その結果、反射鏡（１１２）の反
射面（１１２ａ）の面精度を向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にかかる反射鏡保持機構の概略構成を示
す見取図である。

【図２】本発明にかかる反射鏡保持機構の底面保持部材
を示す概略的な見取図である。

【図３】本発明にかかる反射鏡保持機構の概略構成を示
す断面図である。

【図４】本発明にかかる反射鏡保持機構の別の実施の形
態の概略構成を示す断面図である。

【図５】本発明にかかる反射鏡保持機構のさらに別の実
施の形態の概略構成を示す断面図である。

【図６】本発明にかかる反射鏡保持機構のさらに別の実
施の形態の概略構成を示す断面図である。

【図７】従来の反射鏡保持機構の概略構成を示す見取図
である。

【図８】従来の反射鏡保持機構の底面保持部材の概略構
成を示す見取図である。

【図９】従来の反射鏡保持機構の概略構成を示す断面図
である。

【符号の説明】

１００反射鏡保持機構１１２反射鏡１１４底面保持部材１１６微小突起１１８前面保持部材１２０半球状部材１２２与圧部材１２４コイルバネ１２６半球状部材１２８板バネ２００高剛性部材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ビームを反射する平面を備えた反射部
材を、該平面が球面状の接触部に当接するように押圧し
て保持する試料台であって、前記平面と前記接触部との間に、前記平面をなす材料よ
りも高い剛性を有する剛性部材を設けたことを特徴とす
る、試料台。
【請求項２】前記剛性部材と前記接触部とは面接触、
点接触、円弧接触、または球面接触することを特徴とす
る、請求項１に記載の試料台。
【請求項３】前記試料台は、マスク上のパターンの像
で感光基板を露光する装置に設けられ、前記マスク、ま
たは前記感光基板を載置することを特徴とする、請求項
１または２に記載の試料台。
【請求項４】光ビームを反射する平面を備えた反射鏡
を、該平面が接触部に当接するように押圧して保持する
装置において、前記平面と前記接触部との間に、前記平面をなす材料よ
りも高い剛性を有する剛性部材を設けたことを特徴とす
る、反射鏡の保持装置。
【請求項５】前記剛性部材と前記接触部とは面接触、
点接触、円弧接触、または球面接触することを特徴とす
る、請求項４に記載の装置。
【請求項６】前記反射鏡を挟んで前記接触部と同軸上
に配置される押圧部材を介して前記反射鏡を与圧で固定
する与圧部材を有し、前記接触部と前記押圧部材とを共
に球面状としたことを特徴とする、請求頃４または５に
記載の装置。
【請求項７】前記反射鏡は、物体を載置して２次元移
動するステージ上に、該ステージの移動方向にほぼ沿っ
て延びた反射平面の少なくとも２箇所で前記接触部に当
接して固定されることを特徴とする、請求項４〜６のい
ずれかに記載の装置。
【請求項８】マスク上のパターンの像で露光される感
光基板を保持して移動する基板ステージと、該基板ステ
ージ上の反射鏡に光ビームを投射してその位置を測定す
る干渉計と、前記反射鏡を、その反射面が接触部に当接
するように押圧して保持する部材とを備えた露光装置に
おいて、前記反射面と前記接触部との間に、前記反射面よりも高
い剛性を有する剛性部材を設けたことを特徴とする、露
光装置。