JP2006019549A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 粗動ステージと微動ステージを有する位置決め装置であって、
   前記粗動ステージに設けられ、反射面と鉛直方向のなす角が鋭角である第１ミラーと、 前記微動ステージに設けられ、反射面が鉛直方向に対して垂直である第２ミラーと、
   前記微動ステージの鉛直方向位置を計測する際の基準である基準構造体と、
   該基準構造体に設けられ、反射面が鉛直方向に対して垂直である第３ミラーと、
   前記第１のミラーによって反射された参照光と計測光をそれぞれ前記第２ミラーと前記第３ミラーに反射させることによって前記微動ステージの鉛直方向位置を計測するための干渉計とを有することを特徴とする位置決め装置。
2. 前記第１および第２ミラーは前記干渉計から前記第１ミラーに前記計測光が照射される方向に対して垂直な第１方向に沿って配置されていることを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
3. 前記第３ミラーは、前記第１方向と垂直な第２方向に沿って設けられていることを特徴とする請求項２に記載の位置決め装置。
4. 前記第１ミラーは前記粗動ステージの対辺に設けられ、前記第２ミラーは前記微動ステージの対辺に設けられることを特徴とする請求項３に記載の位置決め装置。
5. 基板にパターンを転写する露光装置であって、請求項１〜４のいずれかに記載の位置決め装置によって前記基板の位置決めをすることを特徴とする露光装置。
6. 請求項１〜４のいずれかに記載の位置決め装置を２つ有する露光装置であって、
   一方の微動ステージ上の基板に露光するための投影光学系と、
   一方の微動ステージ上の基板に露光している間に他方の微動ステージ上の基板の位置合わせができるように配置されたアライメント光学系とを有し、
   前記第３ミラーは前記投影光学系とアライメント光学系とを結ぶ線分と垂直な方向に沿って設けられることを特徴とする露光装置。
7. 前記２つの位置決め装置は、前記投影光学系の下方と前記アライメント光学系の下方との間で入れ換え可能となっており、
   前記基準構造体には、入れ換えの際に２つの位置決め装置がすれ違う位置に、反射面が鉛直方向に対して垂直である第４ミラーが設けられていることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記粗動ステージを案内する定盤が、前記投影光学系の下方の領域と、前記アライメント光学系の下方の領域に分割して設けられていることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 投影光学系を介して基板にパターンを照射する露光装置であって、
   前記投影光学系を支持する支持部材と、
   前記基板を搭載した微動ステージと、
   該微動ステージを搭載した粗動ステージと、
   前記微動ステージの位置を計測するために第１計測光と第２計測光を照射する干渉計と、
   前記粗動ステージに設けられ、前記第１および第２計測光を鉛直方向に反射する第１反射手段と、
   前記微動ステージに設けられ、前記第１反射手段により反射された第１計測光を反射する第２反射手段と、
   前記支持部材に設けられ、前記第１反射手段により反射された第２計測光を反射する第３反射手段と、
   を有することを特徴を特徴とする露光装置。
10. 請求項５〜９のうちいずれかに記載の露光装置を用いてウエハを露光する工程と、該露光したウエハを現像する工程とを含むことを特徴とするデバイス製造方法。