TWM550415U - 圖像投影裝置及系統 - Google Patents

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TWM550415U
TWM550415U TW106200240U TW106200240U TWM550415U TW M550415 U TWM550415 U TW M550415U TW 106200240 U TW106200240 U TW 106200240U TW 106200240 U TW106200240 U TW 106200240U TW M550415 U TWM550415 U TW M550415U
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coupled
image projection
light
focus
prism assembly
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TW106200240U
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大衛 馬可
湯瑪士 賴迪格
蒂莫西 托馬斯
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應用材料股份有限公司
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Description

圖像投影裝置及系統
本創作的實施方式總體涉及用於處理一個或多個基板的裝置和系統，並且更具體地涉及用於執行微影製程的裝置。
微影廣泛用於半導體器件和顯示器件的製造，諸如液晶顯示器(liquid crystal displays,LCD)。大面積基板經常用於LCD的製造中。LCD或平板通常用於有源矩陣顯示器，諸如電腦、觸控板設備、個入數位助理(personal digital assistants,PDA)、手機、電視機監視器等等。通常，平板可以包括夾在兩個板之間形成像素的液晶材料層。當來自於電源的功率橫跨液晶材料被施加時，可在能夠產生圖像的像素位置處控制穿過該液晶材料的光量。
通常採用顯微微影技術來創建電氣特徵，這些電氣特徵被併入為形成像素的液晶材料層的一部分。根據這些技術，通常將光敏感性光阻劑施加到基板的至少一個表面。隨後，圖案產生器用光來使光敏感性光阻劑的作為圖案的一部分的選定區域曝光，以使可選區域中的光阻劑發生化學變化來為隨後的材料移除和/或材料添加製程準備這些可選區域，以便創建電氣特徵。
為了繼續以消費者所需要的價格提供顯示器件和其他器件，需要新的裝置和方法來在基板(諸如大面積基板)上精確且具有成本效益地創建圖案。
本創作的實施方式總體涉及用於執行微影製程的裝置和系統。更具體地，提供用於將圖像投影到基板上的緊湊裝置。在一個實施方式中，圖像投影裝置包括耦接到第一安裝板的光導管，以及耦接到第二安裝板的受抑棱鏡組件(frustrated prism assembly)、一個或多個數位微鏡器件、一個或多個射束分離器和一個或多個投影光學器件。所述第一安裝板和第二安裝板是共面的，使得所述圖像投影裝置緊湊並且可在具有多個圖像投影裝置的系統中被對準，每個圖像投影裝置可易於拆卸和替換。
在一個實施方式中，公開一種圖像投影裝置。所述圖像投影裝置包括：光導管、受抑棱鏡組件、一個或多個數位微鏡器件、一個或多個射束分離器、一個或多個投影光學器件、聚焦致動器和投影透鏡。
在另一實施方式中，公開一種圖像投影裝置。所述圖像投影裝置包括光導管和光級感測器，所述光級感測器鄰近所述光導管。所述圖像投影裝置進一步包括：受抑棱鏡組件；一個或多個數位微鏡器件，所述一個或多個數位微鏡器件耦接到所述受抑棱鏡組件；一個或多個射束分離器，所述一個或多個射束分離器耦接到所述受抑棱鏡組件；一個或多個投影光學器件，所述一個或多個投影光學器件耦接到所述一個或多個射束分離器；聚焦 致動器，所述聚焦致動器連接到所述第二投影光學器件；以及投影透鏡，所述投影透鏡耦接到所述聚焦致動器。所述投影透鏡包括耦接到所述聚焦致動器的聚焦組和耦接到所述聚焦組的窗。所述圖像投影裝置還包括了聚焦感測器和相機。
在另一實施方式中，公開一種圖像投影系統。所述圖像投影系統包括兩個或更多個平臺和多個圖像投影裝置，所述多個圖像投影裝置用於將圖像投影到一個或多個基板上。所述兩個或更多個平臺被配置成固持所述一個或多個基板。所述圖像投影裝置中的每個包括：光源、光導管、光級感測器、受抑棱鏡組件、一個或多個數位微鏡器件、一個或多個射束分離器、一個或多個投影光學器件和投影透鏡。所述光導管耦接到第一安裝板。
100‧‧‧系統
110‧‧‧基架
112‧‧‧無源空氣隔離器
120‧‧‧板件
122‧‧‧支撐件
124‧‧‧軌道
126‧‧‧編碼器
128‧‧‧內壁
130‧‧‧平臺
140、140a、140b‧‧‧基板
150‧‧‧軌道
160‧‧‧處理裝置
162‧‧‧支撐件
164‧‧‧處理單元
165‧‧‧殼體
166‧‧‧開口
270‧‧‧圖像投影系統
272‧‧‧光源
273‧‧‧光束
274‧‧‧光圈
276‧‧‧透鏡
280‧‧‧數位微鏡器件
282‧‧‧光捕集器
284‧‧‧聚焦感測器和相機
286‧‧‧投影透鏡
286a‧‧‧聚焦組
286b‧‧‧窗
288‧‧‧受抑棱鏡組件
341‧‧‧第一安裝板
390‧‧‧圖像投影裝置
391‧‧‧光導管
392‧‧‧非光化光源
393‧‧‧光級感測器
395‧‧‧射束分離器
396、396a、396b‧‧‧投影光學器件
397‧‧‧失真補償器
398‧‧‧聚焦致動器
399‧‧‧第二安裝板
632‧‧‧鏡陣列
634‧‧‧微鏡
636‧‧‧邊緣
638‧‧‧鉸鏈
744‧‧‧光瞳
746‧‧‧圖像投影指示器
因此，為了能夠詳細理解本創作的上述特徵所用方式，上文所簡要概述的本創作的更具體的描述可以參考各個實施方式進行，所述實施方式中的一些示出於附圖中。然而，應當注意，附圖僅示出了本創作的典型實施方式，並且因此不應視為對本創作的範圍的限制，因為本創作可允許其他等效實施方式。
第1圖是可受益于本文所公開的實施方式的系統的立體圖。
第2圖是根據一個實施方式的圖像投影系統的立體示意圖。
第3圖是根據一個實施方式的圖像投影裝置的立體圖。
第4圖是根據一個實施方式的光中繼器的剖視圖。
第5圖是根據一個實施方式的受抑棱鏡組件的示意圖。
第6圖是根據一個實施方式的數位微鏡器件的鏡陣列的示意圖。
第7圖是根據一個實施方式的聚焦傳感機構的示意圖。
為了便於理解，已盡可能使用相同附圖標記來標記附圖所共有的相同要素。另外，一個實施方式的要素可有利地適用在本文所述的其他實施方式中。
本創作的實施方式一般涉及用於執行微影製程的裝置和系統。更具體地，提供用於將圖像投影到基板上的緊湊裝置。在一個實施方式中，圖像投影裝置包括耦接到第一安裝板的光導管，以及耦接到第二安裝板的受抑棱鏡組件、一個或多個射束分離器、一個或多個投影光學器件和失真補償器。第一安裝板和第二安裝板是共面的，使得所述圖像投影裝置緊湊並且可在具有多個圖像投影裝置的系統中被對準，每個圖像投影裝置可易於拆卸和替換。
第1圖是可受益于本文所公開的實施方式的系統100的立體圖。系統100包括：基架110、板件120、兩個或更多個平臺130和處理裝置160。基架110可擱置在製造設施的地面上，並可支撐板件120。無源空氣隔離器112可位於基架110和板件120之間。板件120可為整片的花崗岩，並且兩個或更多個平臺130可設置在板件120上。基板140可由兩個或更多個平臺130中的每個支撐。多個孔(未示出)可形成在平臺130中以允許多個升降杆(未 示出)延伸穿過其中。升降杆可上升到延伸位置以諸如從一個或多個傳送機械手(未示出)接收基板140。一個或多個傳送機械手可用於從兩個或更多個平臺130裝載和卸載基板140。
基板140可例如由石英製成並且用作平板顯示器的一部分。在其他實施方式中，基板140可由其他材料製成。在一些實施方式中，基板140可以具有形成在其上的光阻劑層。光阻劑對輻射敏感，並且可以是正性光阻劑或負性光阻劑，這意味著光阻劑的暴露於輻射的部分將相應地可溶或不可溶於在將圖案寫入光阻劑之後施加到光阻劑的光阻劑顯影劑。光阻劑的化學組分決定光阻劑會是正性光阻劑還是負性光阻劑。例如，光阻劑可包括重氮萘醌、酚醛樹脂、聚(甲基丙烯酸甲酯)、聚(甲基戊二醯亞胺)和SU-8中的至少一種。以此方式，可在基板140的表面上創建圖案，以便形成電子電路。
系統100可進一步包括成對支撐件122和成對軌道124。成對支撐件122可設置在板件120上，並且板件120和成對支撐件122可為單件材料。成對軌道124可由成對支撐件122支撐，並且兩個或更多個平臺130可沿軌道124在X方向上移動。在一個實施方式中，成對軌道124是成對平行磁性通道。如圖所示，成對軌道124中的每個軌道124是線性的。在其他實施方式中，軌道124可以具有非線性的形狀。編碼器126可耦接到每個平臺130，以便向控制器(未示出)提供位置資訊。
處理裝置160可以包括支撐件162和處理單元164。支撐件162可設置在板件120上，並且可以包括用於兩個或更多個平臺130在處理單元164下方穿過的開口166。處理單元164可由支撐件162支撐。在一個實施方式中，處理單元164是圖案產生器，所述圖案產生器被配置成在微影製程中暴露光阻劑。在一些實施方式中，所述圖案產生器可配置成執行無遮罩微影製程。處理單元164可以包括多個圖像投影裝置(如第2圖至第3圖所示)。在一個實施方式中，處理單元164可以包含84個圖像投影裝置。每個圖像投影裝置設置在殼體165中。處理裝置160可以用於執行無遮罩直接圖案化。在操作過程中，兩個或更多個平臺130中的一個在X方向上從裝載位置(如第1圖所示)移動至處理位置。處理位置可指在平臺130穿過處理單元164下方時平臺130的一個或多個位置。在操作過程中，兩個或更多個平臺130可由多個空氣軸承(未示出)升降，並且可沿成對軌道124從裝載位置移動到處理位置。多個豎直引導空氣軸承(未示出)可耦接到每個平臺130，並且被定位成鄰近每個支撐件122的內壁128，以便穩定平臺130的移動。兩個或更多個平臺130中的每個還可通過沿軌道150移動來在Y方向上移動，以便處理和/或轉位(index)基板140。兩個或更多個平臺130中的每個能夠獨立操作，並且可沿一個方向掃描基板140，並沿另一方向步進。在一些實施方式中，當兩個或更多個平臺130中的一個正在掃描基板140時，兩個或更多個平臺130中的另一個正在卸載經曝光的基板並且裝載待曝光的下一基板。
計量系統即時測量兩個或更多個平臺130中的每個的X和Y橫向位置座標，使得多個圖像投影裝置中的每個可準確地定位正被寫入光阻劑覆蓋的基板中的圖案。計量系統還提供圍繞豎直軸或Z軸的兩個或更多個平臺130中的每個的角位置的即時測量。角位置測量可在透過伺服機構的掃描期間用於保持角位置恆定，或者它可以用於透過圖像投影裝置390(在第3圖中示出)對正被寫入基板140上的圖案的位置施加校正。這些技術可以組合使用。
第2圖是根據一個實施方式的圖像投影系統270的立體示意圖。圖像投影系統270可以包括：光源272、光圈274、透鏡276、受抑棱鏡組件288、一個或多個數位微鏡器件(digital micro-mirror devices,DMD)280(示出一個)、光捕集器(light dump)282、聚焦感測器和相機284、以及投影透鏡286。受抑棱鏡組件288、DMD 280、聚焦感測器和相機284、以及投影透鏡286可以是圖像投影裝置390(在第3圖中示出)的部分。光源272可為發光二極體(light emitting diode,LED)或雷射器，並且光源272能夠產生具有預定波長的光。在一個實施方式中，預定波長在藍色光或近紫外線(ultraviolet,UV)範圍內，諸如小於約450nm。受抑棱鏡組件288可以包括多個反射表面。投影透鏡286可為10x物鏡。DMD 280可以包括多個鏡，並且鏡的數量可對應於所投影的圖像的解析度。在一個實施方式中，DMD 280包括1920×1080個鏡，這表示高清電視機的像素的數目。
在操作過程中，具有預定波長(諸如在藍色光範圍內的波長)的光束273由光源272產生。光束273由受抑棱鏡組件288反射到DMD 280。DMD 280包括可單獨控制的多個鏡，並且DMD 280的多個鏡中的每個鏡可基於由控制器(未示出)提供到DMD 280的遮罩資料而處於「開」位置或「關」位置。當光束273到達DMD 280的鏡時，處於「開」位置的鏡將光束273反射到投影透鏡286，即，形成至投影透鏡286的多個寫入射束。投影透鏡286隨後將寫入射束投射到基板140的表面。處於「關」位置的鏡將光束273反射到光捕集器282而非基板140的表面。
第3圖是根據一個實施方式的圖像投影裝置390的立體圖。圖像投影裝置390用於將光聚焦到基板140的豎直平面上的特定點，並最終將圖像投影到基板140上。圖像投影裝置390包括兩個子系統。圖像投影裝置390包括照明系統和投影系統。照明系統包括至少光導管391和非光化光源392。在一個示例中，非光化光源392可為白光照明器件。投影系統包括：一個或多個DMD 280(示出一個)、受抑棱鏡組件288、一個或多個射束分離器395(示出一個)、一個或多個投影光學器件396a、396b、失真補償器397、聚焦致動器398和投影透鏡286。投影透鏡286包括聚焦組286a和窗286b。
將光從光源272引入圖像投影裝置390。光源272可為光化光源。例如，光源272可為成束光纖，每個光纖包含一個雷射器。在一個實施方式中，光源272可為具有約100個光纖的束。 成束光纖可由雷射二極體照射。光源272耦接到光導管(或萬花筒(kaleido))391。在一個實施方式中，光源272通過組合器耦接到光導管391，所述組合器組合所述束中的每個光纖。
一旦來自光源272的光(在第2圖、第5圖和第7圖中示為光束273)進入光導管391，光便在光導管391內部反射，使得光在離開光導管391時均勻化和均質化。光可在光導管391中反射達六或七次。換句話說，光在光導管391內經過六至七次全內反射，這產生了均勻光輸出。
圖像投影裝置390可任選地包括各種反射表面(未標示)。各種反射表面捕獲穿過圖像投影裝置390的一些光。在一個實施方式中，各種反射表面可捕獲一些光，然後幫助將所述光引向光級感測器393，以便可以監測雷射能級。
非光化光源392將已由光導管391均勻化的寬頻可見光投射到圖像投影裝置390的投影系統中。具體地，非光化光源392將光引向受抑棱鏡組件288，並且最終照射DMD 280鏡陣列632。光化光源和寬頻光源可彼此獨立地打開和關閉。
受抑棱鏡組件288用於對將投射到基板140的表面上的光進行濾波。具體地，示為光束273的光在受抑棱鏡組件288內部的反射表面之間反射，如第5圖所示。光束273分成將被投射在基板140上的光和不會投射在基板140上的光。使用受抑棱鏡組件288導致最小的能量損失，因為全內反射的光射出。受抑棱鏡組件288耦接到射束分離器395。
產量是任何微影系統的重要參數。為實現高產量，每個圖像投影裝置390可設計為在至少一個方向上盡可能窄，使得許多圖像投影裝置390可以基板140的寬度被包裝在一起。使用受抑棱鏡組件288允許如第4圖所示的高效且緊湊的光中繼器。
DMD 280被包括作為受抑立方體組件的一部分。DMD 280是圖像投影裝置390的成像器件。DMD 280包括佈置在鏡陣列632(如第6圖所示)中的多個微鏡634。微鏡634的邊緣636沿正交軸佈置，所述正交軸可為X軸和Y軸。在考慮到由受抑棱鏡組件288引入的90度折疊之後，這些軸與基板140或平臺坐標系所參考的類似軸相同。然而，每個微鏡634上的鉸鏈638位於每個鏡的對角上，使得鉸鏈638在與X軸和Y軸成45度的軸上樞轉。這些微鏡634可以通過改變鏡的傾斜角在開位置與關位置之間切換。根據光是否射中打開或關閉的鏡，分別地，光將被發送穿過圖像投影系統270的其餘部分，或者光將不被使用。在一個實施方式中，將未使用光引向並存儲在光捕集器282中，如第2圖所示。在一個實施方式中，DMD 280被製造成使每個微鏡634的唯一穩定位置在相對於鏡陣列632的表面成正12度或負12度的傾斜角處。為了垂直於鏡陣列632的表面來反射入射光，入射光必須以兩倍的鏡傾斜角(24度)入射，並且入射到相對於X軸和Y軸旋轉45度的入射平面中。DMD 280被定位成與基板140的投影齊平。
難以示出第6圖中示出的DMD 280中的鏡陣列632的2D示意圖中的複合角，但是照射軸和投影系統的軸在示意圖的 平面中和包含相對於DMD 280的法線的平面中彼此偏離，並且調整鏡法線以與DMD的X軸和Y軸成45度角旋轉。利用這種佈置，從微鏡634反射的光垂直於DMD 280的平面，並且被折疊到投影中繼器中，所述投影中繼器將光成像在基板140上。
微鏡634用於調整DMD 280上的照射射束的入射角，使得在反射後，入射射束(on beam)向下指向圖像投影裝置390的中心，並且照射系統中創建的圖像位於投影系統中心。
DMD 280和受抑棱鏡組件288的使用通過使從產生曝光照射的光源272到基板的焦平面的照射流的方向一直保持為大致上垂直於基板140來有助於最小化每個圖像投影裝置390的佔用面積。
射束分離器395用於進一步提取用於對準的光。更具體地，射束分離器395用於將光分成兩個或更多個單獨光束。射束分離器395耦接到一個或多個投影光學器件396。在第3圖中示出兩個投影光學器件396a、396b。
在一個實施方式中，聚焦感測器和相機284附接至射束分離器395。聚焦感測器和相機284可配置成監控圖像投影裝置390的成像品質的各個方面，包括但不限於穿過透鏡聚焦和對準，以及鏡傾斜角變化。另外，聚焦感測器和相機284可以示出圖像，所述圖像將被投影在基板140上。在進一步的實施方式中，聚焦感測器和相機284可用於捕獲基板140上的圖像並在這些圖像之間進行比較。換句話說，聚焦感測器和相機284可用於執行檢查功 能。具體地，如第7圖所示，狹窄光束273被引導穿過投影透鏡286中的光瞳744的一側。光束273以傾斜角撞擊基板140，並且被反射回，使得光束273橫穿光瞳744的相對側。圖像投影指示器746精確測量返回圖像的橫向位置。基板140的聚焦位置的變化引起在圖像投影指示器746上的圖像位置的變化。這種變化與散焦量和圖像移動方向成比例。與標稱位置的任何偏差被轉換成與所述偏差成比例的類比信號，所述類比信號用於改變投影透鏡286的位置，這使散焦的基板140a恢復良好聚焦，如基板140b所示。在一個實施方式中，聚焦感測器和相機284附接至射束分離器395的表面。
投影光學器件396、失真補償器397、聚焦致動器398和投影透鏡286一起準備用於並最終將圖像從DMD 280投影到基板140上。投影光學器件396a耦接到失真補償器397。失真補償器397耦接到投影光學器件396b，投影光學器件396b耦接到聚焦致動器398。聚焦致動器398耦接到投影透鏡286。投影透鏡286包括聚焦組286a和窗286b。聚焦組286a耦接到窗286b。窗286b可以是可替換的。
光導管391和非光化光源392耦接到第一安裝板341。另外，在包括各種額外反射表面(未標示)和光級感測器393的實施方式中，各種反射表面和光級感測器393也可耦接到第一安裝板341。
受抑棱鏡組件288、一個或多個射束分離器395、一個或多個投影光學器件396a、396b和失真補償器397耦接到第二 安裝板399。第一安裝板341和第二安裝板399是平面的，這允許了圖像投影裝置390的上述部件的精確對準。換句話說，光沿單個光軸穿過圖像投影裝置390。沿單個光軸的精確對準導致裝置緊湊。例如，圖像投影裝置390可以具有在約80mm和約100mm之間的厚度。
因此，本創作的一個益處是能夠在單個工具中對準多個緊湊圖像投影裝置。另外，每個圖像投影裝置可易於拆卸和替換，從而減少維護所用停機時間。
儘管上述內容針對本創作的實施方式，但也可在不脫離本創作的基本範圍的情況下設計本創作的其他和進一步的實施方式，並且本創作的範圍由隨附的權利要求確定。
272‧‧‧光源
280‧‧‧數位微鏡器件
284‧‧‧聚焦感測器和相機
286‧‧‧投影透鏡
286a‧‧‧聚焦組
286b‧‧‧窗
288‧‧‧受抑棱鏡組件
341‧‧‧第一安裝板
390‧‧‧圖像投影裝置
391‧‧‧光導管
392‧‧‧非光化光源
393‧‧‧光級感測器
395‧‧‧射束分離器
396、396a、396b‧‧‧投影光學器件
397‧‧‧失真補償器
398‧‧‧聚焦致動器
399‧‧‧第二安裝板

Claims (20)

  1. 一種圖像投影裝置，該圖像投影裝置包括：一光導管；一受抑棱鏡組件，其中該光導管係配置以輸出一光，該光係被投射到該受抑棱鏡組件中；一個或多個數位微鏡器件，耦接到該受抑棱鏡組件；一個或多個射束分離器，耦接到該受抑棱鏡組件；一個或多個投影光學器件，耦接到該一個或多個射束分離器；一聚焦致動器，連接到該一個或多個投影光學器件；以及一投影透鏡，耦接到該聚焦致動器。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一光級感測器，鄰近該光導管；以及一非光化光源，鄰近該光級感測器。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一聚焦感測器；以及一相機；其中該聚焦感測器及該相機係耦接到該一個或多個射束分離器。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一光捕集器，鄰近該一個或多個數位微鏡器件。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的圖像投影裝置，該投影透鏡進一步包括：一聚焦組，耦接到該聚焦致動器；以及一窗，耦接到該聚焦組。
  6. 如申請專利範圍第2項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一第一安裝板，其中該光導管和該非光化光源耦接到該第一安裝板；以及一第二安裝板，其中該受抑棱鏡組件、該一個或多個數位微鏡器件、該一個或多個射束分離器和該一個或多個投影光學器件耦接到該第二安裝板，並且其中該第一安裝板和該第二安裝板是平面的。
  7. 如申請專利範圍第6項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一失真補償器，耦接到該一個或多個投影光學器件。
  8. 一種圖像投影裝置，該圖像投影裝置包括：一光導管；一光級感測器，該光級感測器鄰近該光導管；一受抑棱鏡組件，其中該光導管係配置以輸出一光，該光係被投射到該受抑棱鏡組件中；一個或多個數位微鏡器件，該一個或多個數位微鏡器件耦接到該受抑棱鏡組件； 一個或多個射束分離器，該一個或多個射束分離器耦接到該受抑棱鏡組件；一個或多個投影光學器件，該一個或多個投影光學器件耦接到該一個或多個射束分離器；一聚焦致動器，該聚焦致動器連接到該一個或多個投影光學器件；以及一投影透鏡，該投影透鏡包括：一聚焦組，該聚焦組耦接到該聚焦致動器；以及一窗，該窗耦接到該聚焦組。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一非光化光源，該非光化光源鄰近該光級感測器；一聚焦感測器；以及一相機；其中該聚焦感測器及該相機係耦接到該一個或多個射束分離器。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的圖像投影裝置，其中，該聚焦感測器和該相機耦接到該一個或多個射束分離器的表面。
  11. 如申請專利範圍第9項所述的圖像投影裝置，其中，該光導管和該非光化光源耦接到一第一安裝板。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的圖像投影裝置，其中，該光導管、該光級感測器、該受抑棱鏡組件、該一個或多個射束分離器和該一個或多個投影光學器件耦接到一第二安裝板。
  13. 如申請專利範圍第12項所述的圖像投影裝置，其中，該第一安裝板和該第二安裝板是平面的。
  14. 如申請專利範圍第8項所述的圖像投影裝置，其進一步包括：一失真補償器，該失真補償器耦接到該一個或多個投影光學器件。
  15. 一種圖像投影系統，該圖像投影系統包括：兩個或更多個平臺，其中該兩個或更多個平臺被配置成固持一個或多個基板；以及複數個圖像投影裝置，該些圖像投影裝置用於圖案化該一個或多個基板，其中各該圖像投影裝置包括：一光導管；一受抑棱鏡組件，其中該光導管係配置以輸出一光，該光係被投射到該受抑棱鏡組件中；一個或多個數位微鏡器件，耦接到該受抑棱鏡組件；一個或多個射束分離器，耦接到該受抑棱鏡組件；一個或多個投影光學器件，耦接到該一個或多個射束分離器；一聚焦致動器，連接到該一個或多個投影光學器件；以及一投影透鏡，耦接到該聚焦致動器。
  16. 如申請專利範圍第15項所述的圖像投影系統，其中，各該圖像投影裝置進一步包括：一光級感測器，鄰近該光導管；以及一非光化光源，鄰近該光級感測器。
  17. 如申請專利範圍第15項所述的圖像投影系統，其中，各該圖像投影裝置進一步包括：一聚焦感測器；以及一相機；其中該聚焦感測器及該相機係耦接到該一個或多個射束分離器。
  18. 如申請專利範圍第15項所述的圖像投影系統，其中，各該圖像投影裝置進一步包括：一光捕集器，鄰近該一個或多個數位微鏡器件。
  19. 如申請專利範圍第15項所述的圖像投影系統，其中，各該圖像投影裝置的該投影透鏡進一步包括：一聚焦組，耦接到該聚焦致動器；以及一窗，耦接到該聚焦組。
  20. 如申請專利範圍第15項所述的圖像投影系統，其中，各該圖像投影裝置的該一個或多個數位微鏡器件耦接到該受抑棱鏡組件。
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