JP2005311198A5 - - Google Patents

Claims (13)

1. 原版を保持して移動する原版ステージと、基板を保持して移動する基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
   前記原版は反射型原版であり、
   前記露光装置は、
   前記基板ステージ又は前記基板に形成され、第１マークを有する第１基準部材を、前記原版ステージ又は前記反射型原版に形成され、反射面を有する第２基準部材を介して照明し、前記第１マークからの光を受光器によって受光する手段と、
   前記第１マークからの光を受光した結果に基づいて、前記投影光学系の合焦位置を検出する手段と、を備え、
   前記受光器によって前記第１マークからの光を受光する際に、前記反射面に入射する光の光軸に沿って前記原版ステージが移動するとともに、前記反射面で反射されて前記投影光学系を介して前記第１マークに入射する光の光軸とほぼ垂直な方向に沿って前記基板ステージが移動することを特徴とする露光装置。
2. 前記投影光学系の合焦位置は、前記第１マークからの受光を複数回行なった結果に基づいて、検出されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記投影光学系の合焦位置は、前記第１マークからの光を受光した結果に基づいて前記第１マークの像のコントラストが算出されて、そのコントラストに基づいて検出されることを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
4. 前記受光器は、前記第１マークで反射された光を受光することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の露光装置。
5. 前記受光器は、前記第１マークを通過した光を受光することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の露光装置。
6. 原版を保持して移動する原版ステージと、基板を保持して移動する基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、
   前記原版は反射型原版であり、
   前記露光装置は、
   前記基板ステージ又は前記基板に形成され、第１マークを有する第１基準部材を、前記原版ステージ又は前記反射型原版に形成され、第２マークを有する第２基準部材を介して照明し、前記第１マークからの光の光量を受光器によって計測する手段と、
   前記第１マークからの光の光量を計測した結果に基づいて、前記投影光学系の合焦位置を検出する手段と、を備え、
   前記受光器によって前記第１マークからの光の光量を計測する際に、前記第２マークに入射する光の光軸に沿って前記原版ステージが移動するとともに、前記第２マークで反射されて前記投影光学系を介して前記第１マークに入射する光の光軸とほぼ垂直な方向に沿って前記基板ステージが移動することを特徴とする露光装置。
7. 前記投影光学系の合焦位置は、前記第１マークからの光の光量の計測を複数回行なった結果に基づいて、検出されることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記受光器は、前記第１マークで反射された光の光量を計測することを特徴とする請求項６または７に記載の露光装置。
9. 前記受光器は、前記第１マークを通過した光の光量を計測することを特徴とする請求項６または７に記載の露光装置。
10. 露光光にＥＵＶ光を用いることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１つに記載の露光装置。
11. 原版を保持して移動する原版ステージと、基板を保持して移動する基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において前記投影光学系の合焦位置を検出する合焦位置検出方法であって、
    前記原版は反射型原版であり、
    前記露光装置は、
    前記基板ステージ又は前記基板に形成され、第１マークを有する第１基準部材を、前記原版ステージ又は前記反射型原版に形成され、反射面を有する第２基準部材を介して照明し、前記第１マークからの光を受光器によって受光する手段を備え、
    前記合焦位置検出方法は、
    前記反射面に入射する光の光軸に沿って前記原版ステージを移動させるとともに、前記反射面で反射されて前記投影光学系を介して前記第１マークに入射する光の光軸とほぼ垂直な方向に沿って前記基板ステージを移動させて、前記受光器によって前記第１マークからの光を受光する工程と、
    前記受光器によって前記第１マークからの光を受光した結果に基づいて、前記投影光学系の合焦位置を検出する工程と、
    を含むことを特徴とする合焦位置検出方法。
12. 原版を保持して移動する原版ステージと、基板を保持して移動する基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板に投影する投影光学系とを有する露光装置において前記投影光学系の合焦位置を検出する合焦位置検出方法であって、
    前記原版は反射型原版であり、
    前記露光装置は、
    前記基板ステージ又は前記基板に形成され、第１マークを有する第１基準部材を、前記原版ステージ又は前記反射型原版に形成され、第２マークを有する第２基準部材を介して照明し、前記第１マークからの光の光量を受光器によって計測する手段を備え、
    前記合焦位置検出方法は、
    前記第２マークに入射する光の光軸に沿って前記原版ステージを移動させるとともに、前記第２マークで反射されて前記投影光学系を介して前記第１マークに入射する光の光軸とほぼ垂直な方向に沿って前記基板ステージを移動させて、前記受光器によって前記第１マークからの光の光量を計測する工程と、
    前記受光器によって前記第１マークからの光の光量を計測した結果に基づいて、前記投影光学系の合焦位置を検出する工程と、
    を含むことを特徴とする合焦位置検出方法。
13. 感光剤が塗布された基板に請求項１〜１０のいずれか１つに記載の露光装置を使って原版のパターンを転写する工程と、
    前記基板を現像する工程と、を含むことを特徴とするデバイス製造方法。