JP2008042036A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 原版ステージと、前記原版ステージによって保持される原版を照明する照明光学系と、基板ステージと、前記原版のパターンを前記基板ステージ上の基板に投影する投影光学系とを備える露光装置であって、
   撮像素子と、
   計測光を前記投影光学系に斜入射させ、前記投影光学系から戻ってくる計測光を前記撮像素子に導く計測光学系と、
   前記撮像素子の出力に基づいて前記基板の面位置情報を導出する制御部とを備え、
   前記撮像素子は、
   （ａ）前記計測光学系から出て前記原版ステージに配置されたマークに斜入射して前記マークおよび前記投影光学系を通過し、前記基板ステージ上の基板に入射して前記基板で反射され、前記投影光学系を更に通過して前記計測光学系に戻ってくる計測光で形成される前記マークの像と、
   （ｂ）前記計測光学系から出て前記原版ステージに配置された前記マークに斜入射して、前記マークで反射され、前記計測光学系に戻ってくる計測光で形成される前記マークの像と、
   を撮像し、
   前記制御部は、前記マークを通過した計測光で形成される前記マークの像と前記マークで反射した計測光で形成される前記マークの像との間隔に基づいて前記基板の面位置情報を導出することを特徴とする露光装置。
2. 前記計測光学系は、前記計測光学系の光軸からシフトした位置に開口部を有する絞りを含み、前記絞りによって前記マークに斜入射させる計測光が規定されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記基板は、前記投影光学系の焦平面からデフォーカスされ、
   前記マークを通過した計測光は、前記投影光学系から前記計測光学系に戻ってくる間に、前記マークからシフトした位置を通過することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
4. 前記制御部は、前記マークを基準とした前記基板の面位置の変化を前記面位置情報として導出することを特徴とする請求項１又は２に記載の露光装置。
5. 前記基板ステージを移動させながら前記間隔に基づいて前記基板の面位置情報を導出することによって前記基板の面形状が計測されることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光装置。
6. 前記投影光学系の第１位置に計測光を入射させた状態で前記基板の面形状を計測し、前記投影光学系の第２位置に計測光を入射させた状態で前記基板の面形状を計測し、両計測結果に基づいて前記投影光学系の光軸方向における前記基板ステージの駆動誤差が計測されることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 前記計測光学系及び前記撮像素子を含んでそれぞれ構成される第１ＴＴＲ検出器および第２ＴＴＲ検出器を備え、
   前記第１ＴＴＲ検出器によって前記第１位置に計測光を入射させた状態で前記基板の面形状が計測され、前記第２ＴＴＲ検出器によって前記第２位置に計測光を入射させた状態で前記基板の面形状が計測されることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
8. 前記投影光学系を介することなく前記基板に計測光を入射させ、前記基板からの反射光を受光することによって前記基板の面位置情報を検出する面位置検出器を更に備えることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置。
9. デバイス製造方法であって、
   請求項１乃至８のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
   前記基板を現像する工程と、
   を含むことを特徴とするデバイス製造方法。