JP2012507173A5 - - Google Patents

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  1. 基板とテンプレートとが対応するフィーチャを有し、デジタル・マイクロミラー装置(DMD)によって前記テンプレートを介して前記基板を走査するステップと、
    前記基板上の前記フィーチャと前記テンプレート上の前記フィーチャ間の光の相互作用により生じるモアレ信号を測定するステップと、
    前記測定されたモアレ信号に基づいてミスアライメントを決定するステップと、
    から構成され、
    前記DMDは、前記基板、前記テンプレートまたはこれらの両方の上の領域から検出器要素に光を導くことを特徴とする、テンプレートと基板との位置合わせをする位置合わせ方法。
  2. 前記決定されたミスアライメントに応じて前記基板と前記テンプレート間のアライメントを調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  3. 前記DMDは、光を前記基板上の複数の不連続領域から複数の検出器要素に、前記不連続領域のそれぞれが1つの検出器要素に対応するようにして導くことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  4. 前記アライメントは、前記テンプレート、前記基板またはこれらの両方を、2つの直交軸を有する平面移動させ、前記平面に対して直角の軸のまわりで回転させる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
  5. インプリントをするように構成されかつアライメント表示を含むテンプレートと、
    前記インプリントを複製するように構成できかつアライメント表示を含む基板と、
    前記テンプレートおよび前記基板を照明するように構成された照明装置と、
    検出器と、
    前記テンプレートおよび前記基板から前記検出器に光の少なくとも一部分を反射させるように構成可能な複数の個別にアドレス指定可能なマイクロミラーを含むデジタル・マイ
    クロミラー装置と、
    から構成され、
    前記光は、前記テンプレートの前記アライメント表示と前記基板の前記アライメント表示の間の相互作用により生じるモアレ・パターンを含むことを特徴とする、インプリント・リソグラフィ・システム。
  6. 前記検出器は、複数の検出要素を含み、前記テンプレート、基板またはこの両方上の、複数の不連続領域のそれぞれからの光が、個々の検出要素に導かれることを特徴とする請求項5に記載のシステム。
  7. 前記モアレ・パターンは、前記テンプレートと前記基板の間の相対的アライメント誤差の現場測定として使用されることを特徴とする請求項5に記載のシステム。
  8. 前記基板は、前記光を実質的に通すことを特徴とする請求項5に記載のシステム。
  9. 前記基板が取り付けられたステージの前記モアレ・パターンに基づいて変位情報と現在位置を出力するように構成されたアライメント・コントローラと、
    前記アライメント・コントローラ出力を受け入れ前記ステージを制御するように構成されたステージ・コントローラと
    をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のシステム。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6994877B2 (ja) 2016-09-14 2022-01-14 キヤノン株式会社 リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5498448B2 (ja) * 2011-07-21 2014-05-21 株式会社東芝 インプリント方法及びインプリントシステム
CN103631086A (zh) * 2012-08-21 2014-03-12 华中科技大学 一种用于集成光电子器件的微纳图形的制作方法及应用
US10248018B2 (en) * 2015-03-30 2019-04-02 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of manufacturing article
DE102015110264A1 (de) * 2015-06-25 2016-12-29 Cl Schutzrechtsverwaltungs Gmbh Vorrichtung zur generativen Herstellung wenigstens eines dreidimensionalen Objekts
JP6799397B2 (ja) * 2015-08-10 2020-12-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
US11762284B2 (en) 2016-08-03 2023-09-19 Board Of Regents, The University Of Texas System Wafer-scale programmable films for semiconductor planarization and for imprint lithography
US9971147B2 (en) 2016-09-26 2018-05-15 Xerox Corporation Integrated micro-channel heatsink in DMD substrate for enhanced cooling capacity
JP6818522B2 (ja) 2016-11-17 2021-01-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
JP6827785B2 (ja) * 2016-11-30 2021-02-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
US10998190B2 (en) * 2017-04-17 2021-05-04 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of manufacturing article
JP6606567B2 (ja) * 2017-04-17 2019-11-13 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
CN110500968B (zh) * 2019-07-11 2021-04-20 北京理工大学 基于稀疏傅里叶变换的数字莫尔干涉相位实时测量方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2569544B2 (ja) * 1987-04-08 1997-01-08 株式会社ニコン 位置決め装置
JPH0613287A (ja) * 1992-04-27 1994-01-21 Nikon Corp アライメント装置
JPH08313842A (ja) * 1995-05-15 1996-11-29 Nikon Corp 照明光学系および該光学系を備えた露光装置
JP4136067B2 (ja) * 1997-05-02 2008-08-20 キヤノン株式会社 検出装置及びそれを用いた露光装置
KR100279792B1 (ko) 1997-09-30 2001-02-01 니시무로 타이죠 표시패널 및 이 표시패널용의 위치맞춤방법
EP1203264A4 (en) 1999-07-01 2004-09-15 DEVICE AND METHOD FOR IMPROVING IMAGE BY SPATIAL FILTERING
US6873087B1 (en) 1999-10-29 2005-03-29 Board Of Regents, The University Of Texas System High precision orientation alignment and gap control stages for imprint lithography processes
US6462818B1 (en) 2000-06-22 2002-10-08 Kla-Tencor Corporation Overlay alignment mark design
US6921615B2 (en) 2000-07-16 2005-07-26 Board Of Regents, The University Of Texas System High-resolution overlay alignment methods for imprint lithography
US6954275B2 (en) 2000-08-01 2005-10-11 Boards Of Regents, The University Of Texas System Methods for high-precision gap and orientation sensing between a transparent template and substrate for imprint lithography
US7317531B2 (en) 2002-12-05 2008-01-08 Kla-Tencor Technologies Corporation Apparatus and methods for detecting overlay errors using scatterometry
JP3507865B2 (ja) * 2001-02-02 2004-03-15 和歌山大学長 Dmdを用いたccdカメラによる実時間形状計測方法と装置
US20050064344A1 (en) 2003-09-18 2005-03-24 University Of Texas System Board Of Regents Imprint lithography templates having alignment marks
EP1551807A4 (en) * 2002-07-11 2006-09-13 Scios Inc IMPROVED REAGENTS FOR THE AMINATION OF NITROGEN
US7070405B2 (en) 2002-08-01 2006-07-04 Molecular Imprints, Inc. Alignment systems for imprint lithography
US7027156B2 (en) 2002-08-01 2006-04-11 Molecular Imprints, Inc. Scatterometry alignment for imprint lithography
US6916584B2 (en) 2002-08-01 2005-07-12 Molecular Imprints, Inc. Alignment methods for imprint lithography
WO2004054784A1 (en) 2002-12-13 2004-07-01 Molecular Imprints, Inc. Magnification corrections employing out-of-plane distortions on a substrate
SG147288A1 (en) 2003-04-29 2008-11-28 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method and angular encoder
EP1510868A1 (en) * 2003-08-29 2005-03-02 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4478424B2 (ja) * 2003-09-29 2010-06-09 キヤノン株式会社 微細加工装置およびデバイスの製造方法
CN101379435A (zh) 2004-06-03 2009-03-04 得克萨斯州大学系统董事会 用于改进显微蚀刻的对齐和覆盖的系统和方法
US20050270516A1 (en) 2004-06-03 2005-12-08 Molecular Imprints, Inc. System for magnification and distortion correction during nano-scale manufacturing
WO2006024908A2 (en) 2004-08-10 2006-03-09 Asml Netherlands B.V. Imprint lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
US7630067B2 (en) 2004-11-30 2009-12-08 Molecular Imprints, Inc. Interferometric analysis method for the manufacture of nano-scale devices
US7292326B2 (en) 2004-11-30 2007-11-06 Molecular Imprints, Inc. Interferometric analysis for the manufacture of nano-scale devices
US20070231421A1 (en) 2006-04-03 2007-10-04 Molecular Imprints, Inc. Enhanced Multi Channel Alignment
EP1825502A4 (en) 2004-12-01 2008-01-23 Molecular Imprints Inc EXPOSURE METHODS FOR THERMAL MANAGEMENT OF PRINTING LITHOGRAPHY METHODS
TW200801794A (en) 2006-04-03 2008-01-01 Molecular Imprints Inc Method of concurrently patterning a substrate having a plurality of fields and a plurality of alignment marks
JP4795300B2 (ja) 2006-04-18 2011-10-19 キヤノン株式会社 位置合わせ方法、インプリント方法、位置合わせ装置、インプリント装置、及び位置計測方法
US7547398B2 (en) 2006-04-18 2009-06-16 Molecular Imprints, Inc. Self-aligned process for fabricating imprint templates containing variously etched features
US7837907B2 (en) 2007-07-20 2010-11-23 Molecular Imprints, Inc. Alignment system and method for a substrate in a nano-imprint process
US20090147237A1 (en) 2007-12-05 2009-06-11 Molecular Imprints, Inc. Spatial Phase Feature Location

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6994877B2 (ja) 2016-09-14 2022-01-14 キヤノン株式会社 リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム

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