JP2012507173A5 - - Google Patents
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Claims (9)
- 基板とテンプレートとが対応するフィーチャを有し、デジタル・マイクロミラー装置(DMD)によって前記テンプレートを介して前記基板を走査するステップと、
前記基板上の前記フィーチャと前記テンプレート上の前記フィーチャ間の光の相互作用により生じるモアレ信号を測定するステップと、
前記測定されたモアレ信号に基づいてミスアライメントを決定するステップと、
から構成され、
前記DMDは、前記基板、前記テンプレートまたはこれらの両方の上の領域から検出器要素に光を導くことを特徴とする、テンプレートと基板との位置合わせをする位置合わせ方法。 - 前記決定されたミスアライメントに応じて前記基板と前記テンプレート間のアライメントを調整するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記DMDは、光を前記基板上の複数の不連続領域から複数の検出器要素に、前記不連続領域のそれぞれが1つの検出器要素に対応するようにして導くことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記アライメントは、前記テンプレート、前記基板またはこれらの両方を、2つの直交軸を有する平面移動させ、前記平面に対して直角の軸のまわりで回転させる工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- インプリントをするように構成されかつアライメント表示を含むテンプレートと、
前記インプリントを複製するように構成できかつアライメント表示を含む基板と、
前記テンプレートおよび前記基板を照明するように構成された照明装置と、
検出器と、
前記テンプレートおよび前記基板から前記検出器に光の少なくとも一部分を反射させるように構成可能な複数の個別にアドレス指定可能なマイクロミラーを含むデジタル・マイ
クロミラー装置と、
から構成され、
前記光は、前記テンプレートの前記アライメント表示と前記基板の前記アライメント表示の間の相互作用により生じるモアレ・パターンを含むことを特徴とする、インプリント・リソグラフィ・システム。 - 前記検出器は、複数の検出要素を含み、前記テンプレート、基板またはこの両方上の、複数の不連続領域のそれぞれからの光が、個々の検出要素に導かれることを特徴とする請求項5に記載のシステム。
- 前記モアレ・パターンは、前記テンプレートと前記基板の間の相対的アライメント誤差の現場測定として使用されることを特徴とする請求項5に記載のシステム。
- 前記基板は、前記光を実質的に通すことを特徴とする請求項5に記載のシステム。
- 前記基板が取り付けられたステージの前記モアレ・パターンに基づいて変位情報と現在位置を出力するように構成されたアライメント・コントローラと、
前記アライメント・コントローラ出力を受け入れ前記ステージを制御するように構成されたステージ・コントローラと
をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載のシステム。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10894108P | 2008-10-28 | 2008-10-28 | |
US61/108,941 | 2008-10-28 | ||
US12/580,324 | 2009-10-16 | ||
US12/580,324 US8345242B2 (en) | 2008-10-28 | 2009-10-16 | Optical system for use in stage control |
PCT/US2009/005690 WO2010051015A1 (en) | 2008-10-28 | 2009-10-20 | Optical system for use in stage control |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012507173A JP2012507173A (ja) | 2012-03-22 |
JP2012507173A5 true JP2012507173A5 (ja) | 2012-12-06 |
JP5159957B2 JP5159957B2 (ja) | 2013-03-13 |
Family
ID=42116699
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011534488A Expired - Fee Related JP5159957B2 (ja) | 2008-10-28 | 2009-10-20 | ステージ制御用光学システム |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8345242B2 (ja) |
JP (1) | JP5159957B2 (ja) |
WO (1) | WO2010051015A1 (ja) |
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JP6994877B2 (ja) | 2016-09-14 | 2022-01-14 | キヤノン株式会社 | リソグラフィ方法及びリソグラフィシステム |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP5498448B2 (ja) * | 2011-07-21 | 2014-05-21 | 株式会社東芝 | インプリント方法及びインプリントシステム |
CN103631086A (zh) * | 2012-08-21 | 2014-03-12 | 华中科技大学 | 一种用于集成光电子器件的微纳图形的制作方法及应用 |
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JP6799397B2 (ja) * | 2015-08-10 | 2020-12-16 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
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JP6818522B2 (ja) | 2016-11-17 | 2021-01-20 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品製造方法 |
JP6827785B2 (ja) * | 2016-11-30 | 2021-02-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH0613287A (ja) * | 1992-04-27 | 1994-01-21 | Nikon Corp | アライメント装置 |
JPH08313842A (ja) * | 1995-05-15 | 1996-11-29 | Nikon Corp | 照明光学系および該光学系を備えた露光装置 |
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- 2009-10-16 US US12/580,324 patent/US8345242B2/en active Active
- 2009-10-20 JP JP2011534488A patent/JP5159957B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2009-10-20 WO PCT/US2009/005690 patent/WO2010051015A1/en active Application Filing
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