JP2011238788A5 - - Google Patents
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Description
上記課題を解決するために、本発明は、基板を保持してX−Y−Z直交座標系のX軸・Y軸・Z軸それぞれの方向に可動のステージと、基板に形成されたアライメントマークを撮像する撮像系と、基板の表面のZ軸方向における位置を検出する検出系と、ステージと撮像系と検出系とを制御してアライメントマークのX−Y平面に平行な面における位置を求める制御部とを有する位置計測装置であって、制御部は、撮像系のテレセントリシティに関する情報を予め記憶し、基板に形成された複数のアライメントマークのうち少なくとも1つのアライメントマークに関して、ステージの位置の制御により撮像系に対するフォーカス調整を行って撮像系に撮像を行わせ、該撮像により得られたアライメントマークの信号に基づいてX−Y平面に平行な面における位置を求め、フォーカス調整のなされた少なくとも1つのアライメントマークに関して、基板の表面の第1の位置を検出系に検出させ、複数のアライメントマークのうち他のアライメントマークに関して、フォーカス調整を行わずに、撮像系に撮像を行わせ、かつ基板の表面の第2の位置を検出系に検出させ、該撮像により得られたアライメントマークの信号と第1の位置と第2の位置とテレセントリシティに関する情報とに基づいて、X−Y平面に平行な面における位置を求めることを特徴とする。
Claims (10)
- 基板を保持してX−Y−Z直交座標系のX軸・Y軸・Z軸それぞれの方向に可動のステージと、前記基板に形成されたアライメントマークを撮像する撮像系と、前記基板の表面のZ軸方向における位置を検出する検出系と、前記ステージと前記撮像系と前記検出系とを制御して前記アライメントマークのX−Y平面に平行な面における位置を求める制御部とを有する位置計測装置であって、
前記制御部は、
前記撮像系のテレセントリシティに関する情報を予め記憶し、
前記基板に形成された複数のアライメントマークのうち少なくとも1つのアライメントマークに関して、前記ステージの位置の制御により前記撮像系に対するフォーカス調整を行って前記撮像系に撮像を行わせ、該撮像により得られた前記アライメントマークの信号に基づいてX−Y平面に平行な面における位置を求め、
前記フォーカス調整のなされた前記少なくとも1つのアライメントマークに関して、前記基板の表面の第1の位置を前記検出系に検出させ、
前記複数のアライメントマークのうち他のアライメントマークに関して、前記フォーカス調整を行わずに、前記撮像系に撮像を行わせ、かつ前記基板の表面の第2の位置を前記検出系に検出させ、該撮像により得られた前記アライメントマークの信号と前記第1の位置と前記第2の位置と前記テレセントリシティに関する情報とに基づいて、X−Y平面に平行な面における位置を求める、
ことを特徴とする位置計測装置。 - 前記制御部は、前記少なくとも1つのアライメントマークを複数のアライメントマークとし、該複数のアライメントマークに関してなされた前記フォーカス調整の結果に基づいて該複数のアライメントマークを含む面の形状を求め、前記他のアライメントマークに関して、前記面の形状にも基づいてX−Y平面に平行な面における位置を求める、ことを特徴とする請求項1に記載の位置計測装置。
- 前記制御部は、前記ステージに設けられた基準マークのZ軸方向の位置を変化させて該基準マークを前記撮像系に撮像させることにより、前記テレセントリシティに関する情報を得る、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の位置計測装置。
- 前記制御部は、被覆するレジストの厚みが互いに異なる複数のアライメントマークを前記撮像系に撮像させることにより、前記テレセントリシティに関する情報を得る、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の位置計測装置。
- 前記検出系は、前記基板の表面に斜入射する光のパターンを投影し、該表面における前記パターンの位置を検出する、ことを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の位置計測装置。
- 前記制御部は、前記他のアライメントマークに関して、前記第1の位置と前記第2の位置との差に基づいてX−Y平面に平行な面における位置を求める、ことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の位置計測装置。
- 基板を保持してX−Y−Z直交座標系のX軸・Y軸・Z軸それぞれの方向に可動のステージと、前記基板に形成されたアライメントマークを撮像する撮像系と、前記基板の表面のZ軸方向における位置を検出する検出系とを制御して前記アライメントマークのX−Y平面に平行な面における位置を求める位置計測方法であって、
前記基板に形成された複数のアライメントマークのうち少なくとも1つのアライメントマークに関して、前記ステージの位置の制御により前記撮像系に対するフォーカス調整を行って前記撮像系に撮像を行わせ、該撮像により得られた前記アライメントマークの信号に基づいてX−Y平面に平行な面における位置を求め、
前記フォーカス調整のなされた前記少なくとも1つのアライメントマークに関して、前記基板の表面の第1の位置を前記検出系に検出させ、
前記複数のアライメントマークのうち他のアライメントマークに関して、前記フォーカス調整を行わずに、前記撮像系に撮像を行わせ且つ前記基板の表面の第2の位置を前記検出系に検出させ、該撮像により得られた前記アライメントマークの信号と前記第1の位置と前記第2の位置と前記撮像系のテレセントリシティに関する情報とに基づいてX−Y平面に平行な面における位置を求める、
ことを特徴とする位置計測方法。 - 基板を露光する露光装置であって、
前記基板に形成されたアライメントマークの位置を求める請求項1ないし請求項7のいずれか1項に記載の位置計測装置を有する、ことを特徴とする露光装置。 - 請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
前記工程で露光された基板を現像する工程と、
を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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---|---|---|---|
JP2010109263A JP5489849B2 (ja) | 2010-05-11 | 2010-05-11 | 位置計測装置及び方法、露光装置並びにデバイス製造方法 |
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JP2010109263A JP5489849B2 (ja) | 2010-05-11 | 2010-05-11 | 位置計測装置及び方法、露光装置並びにデバイス製造方法 |
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JP2010109263A Active JP5489849B2 (ja) | 2010-05-11 | 2010-05-11 | 位置計測装置及び方法、露光装置並びにデバイス製造方法 |
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