JP2018022114A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、互いに異なる第１方向および第２方向のうちの一方における高さばらつきより他方における高さばらつきの方が大きい面を有する基板に対し、当該面の高さ分布を計測する計測装置であって、検出領域内において前記基板の面の高さを検出する検出部と、前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより走査方向における前記基板の面の高さ分布を求める処理部と、を含み、前記処理部は、前記第１方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより前記第１方向における前記基板の面の高さ分布を第１分布として求め、前記第１分布における高さばらつきが基準値より小さい場合には、前記第２方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより前記第２方向における前記基板の面の高さ分布を更に求める、ことを特徴とする。

Claims (16)

1. 互いに異なる第１方向および第２方向のうちの一方における高さばらつきより他方における高さばらつきの方が大きい面を有する基板に対し、当該面の高さ分布を計測する計測装置であって、
   検出領域内において前記基板の面の高さを検出する検出部と、
   前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより走査方向における前記基板の面の高さ分布を求める処理部と、
   を含み、
   前記処理部は、前記第１方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより前記第１方向における前記基板の面の高さ分布を第１分布として求め、前記第１分布における高さばらつきが基準値より小さい場合には、前記第２方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させることにより前記第２方向における前記基板の面の高さ分布を更に求める、ことを特徴とする計測装置。
2. 前記基板は、パターンが形成された複数のパターン領域と、前記複数のパターン領域の間に設けられた間隙領域とを含み、
   前記処理部は、前記複数のパターン領域のレイアウト情報に基づいて、前記間隙領域において前記検出部による高さの検出が行われるように前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させる、ことを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
3. 前記処理部は、前記第１方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に１回だけ走査させることにより前記第１分布を求め、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値より小さい場合には、前記第２方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に１回だけ走査させることにより前記第２方向における前記基板の面の高さ分布を更に求める、ことを特徴とする請求項１又は２に記載の計測装置。
4. 前記基板は、矩形形状を有し、
   前記第１方向および前記第２方向は、前記基板の面の辺のうち互いに直交する２つの辺にそれぞれ平行である、ことを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
5. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値以上である場合には、前記第１分布から生成される、前記基板の面内における高さ分布を示す分布情報を取得する、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
6. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値以上である場合には、前記第１分布から、前記基板の面内における高さ分布を示す分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
7. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値以上である場合には、前記第２方向に前記基板と前記検出領域とを相対的に走査させずに、前記第１分布から、前記基板の面内における高さ分布を示す分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
8. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値以上である場合、前記第２方向における複数の位置の各々についても、前記第１方向に平行な方向における前記基板の面の高さ分布が前記第１分布であると推定して、前記分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項５乃至７のうちいずれか１項に記載の計測装置。
9. 前記処理部は、前記第２方向における前記複数の位置の各々について前記第１分布を適用することにより、前記分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項８に記載の計測装置。
10. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値より小さい場合には、前記第２方向における前記基板の面の高さ分布に基づいて、前記基板の面内における高さ分布を示す分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の計測装置。
11. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値より小さい場合には、前記第１分布にも基づいて前記分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項１０に記載の計測装置。
12. 前記処理部は、前記第１分布における高さばらつきが前記基準値より小さい場合、前記第１分布と前記第２方向における前記基板の面の高さ分布とに基づいて、前記基板の面のうち前記検出部による検出が行われていない未検出部分の高さを補間することにより、前記基板の面内における高さ分布を示す分布情報を生成する、ことを特徴とする請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の計測装置。
13. 前記第１分布における高さばらつきは、前記第１分布における高さの最大値と最小値との差を含む、ことを特徴とする請求項１乃至１２のうちいずれか１項に記載の計測装置。
14. 前記基板を保持する保持面を有するステージを含み、
    前記検出部は、前記基板の厚さを検出し、前記基板の厚さの検出結果および前記保持面の高さ分布を示す情報に基づいて、前記保持面により保持された前記基板の面の高さを求める、ことを特徴とする請求項１乃至１３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
15. 基板を露光する露光装置であって、
    マスクのパターンを前記基板に投影する投影光学系と、
    前記基板の面の高さ分布を計測する請求項１乃至１４のうちいずれか１項に記載の計測装置と、
    前記計測装置での計測結果に基づいて、前記基板の露光中における前記投影光学系の投影像を制御する制御部と、
    を含むことを特徴とする露光装置。
16. 請求項１５に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    前記工程で露光された前記基板を現像する工程と、
    を含むことを特徴とする物品の製造方法。