JP2016090444A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、基板に形成されたマークの位置を計測する計測装置であって、マークを検出するための検出信号を生成する検出部と、前記検出信号の取得領域から画像処理を行う処理領域を決定し、該決定された処理領域において、前記検出部で生成された検出信号の画像処理を行う処理部と、を有し、前記処理部は、計測された前記マークの位置のばらつきを表す統計値に基づいて、前記処理領域を決定することを特徴とする。

Claims (11)

1. 基板に形成されたマークの位置を計測する計測装置であって、
   マークを検出するための検出信号を生成する検出部と、
   前記検出信号の取得領域から画像処理を行う処理領域を決定し、該決定された処理領域において、前記検出部で生成された検出信号の画像処理を行う処理部と、
   を有し、
   前記処理部は、計測された前記マークの位置のばらつきを表す統計値に基づいて、前記処理領域を決定することを特徴とする計測装置。
2. 前記処理部は、計測された前記マークの位置の平均値と前記マークの寸法とに更に基づいて前記処理領域を決定することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
3. 前記検出部は、前記マークを撮像する撮像素子を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の計測装置。
4. 前記処理部は、前記処理領域に対応する検出信号を前記撮像素子に読み出させることを特徴とする請求項３に記載の計測装置。
5. 前記処理部は、前記マークの位置を得るためにパターンマッチング処理又はエッジ検出処理を行うことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
6. 前記処理部は、前記統計値を得るための母数が予め定められた数以上である場合に、前記統計値に基づいて、前記処理領域を決定することを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の計測装置。
7. 前記処理部は、前記処理領域を決定した後に前記検出信号の画像処理を行った結果として前記マークの位置が得られなかった場合、前記処理領域を拡大することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の計測装置。
8. 前記統計値は、計測された前記マークの位置の標準偏差に基づく値を含むことを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の計測装置。
9. パターン形成を基板に行うリソグラフィ装置であって、
   前記基板を保持して可動の保持部と、
   前記基板に形成されたマークの位置を計測する請求項１乃至８のうちいずれか１項に記載の計測装置と、
   前記計測装置で計測された前記マークの位置に基づいて、前記保持部の位置を制御する制御部と、
   を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
10. 前記処理部は、前記パターン形成の条件ごとに前記処理領域を決定することを特徴とする請求項９に記載のリソグラフィ装置。
11. 請求項９又は１０に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
    前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
    を含むことを特徴とする物品の製造方法。