JP2016008924A5 - - Google Patents

Description

上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、可動のステージを有し、該ステージ上のマークの位置を計測する計測装置であって、所定の画素ピッチで配列された複数の画素を有し、該複数の画素を介して前記マークを撮像する撮像部と、前記ステージと前記撮像部との間の相対位置を変更する駆動部と、前記相対位置を計測する計測部と、前記画素ピッチに基づいて設定された第１の目標相対位置に前記ステージ及び前記撮像部が配置されるように前記相対位置が変更された状態で取得された前記マークの第１の画像と、前記第１の目標相対位置とは異なる第２の目標相対位置に前記ステージ及び前記撮像部が配置されるように前記相対位置が変更された状態で取得された前記マークの第２の画像とに基づいて前記マークの位置を得る処理部と、を含み、前記処理部は、前記第１の画像が取得されたときに前記計測部によって計測された前記相対位置と前記第１の目標相対位置との差分に基づいて、前記第２の目標相対位置を決定することを特徴とする。

Claims (9)

1. 可動のステージを有し、該ステージ上のマークの位置を計測する計測装置であって、
   所定の画素ピッチで配列された複数の画素を有し、該複数の画素を介して前記マークを撮像する撮像部と、
   前記ステージと前記撮像部との間の相対位置を変更する駆動部と、
   前記相対位置を計測する計測部と、
   前記画素ピッチに基づいて設定された第１の目標相対位置に前記ステージ及び前記撮像部が配置されるように前記相対位置が変更された状態で取得された前記マークの第１の画像と、前記第１の目標相対位置とは異なる第２の目標相対位置に前記ステージ及び前記撮像部が配置されるように前記相対位置が変更された状態で取得された前記マークの第２の画像とに基づいて前記マークの位置を得る処理部と、
   を含み、
   前記処理部は、前記第１の画像が取得されたときに前記計測部によって計測された前記相対位置と前記第１の目標相対位置との差分に基づいて、前記第２の目標相対位置を決定することを特徴とする計測装置。
2. 前記処理部は、前記第１の画像が取得されたときにおける前記ステージの位置と、前記第１の目標相対位置に対応する前記ステージの目標位置との差分に基づいて、前記第２の目標相対位置に対応する前記ステージの目標位置を決定することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
3. 前記処理部は、前記第１の画像の取得期間における前記差分の平均値に基づいて、前記第２の目標相対位置を決定することを特徴とする請求項１又は２に記載の計測装置。
4. 前記計測部は、前記ステージの位置を計測する第１計測部と前記撮像部の位置を計測する第２計測部とを含み、前記第１計測部による計測結果および前記第２計測部による計測結果に基づいて前記相対位置を計測することを特徴とする請求項１乃至３のうちいずれか１項に記載の計測装置。
5. 前記マークは、複数のパターンの配列を含み、
   前記処理部は、前記配列の方向における前記ステージと前記撮像部との間の目標相対位置を決定することを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の計測装置。
6. 前記相対位置は、前記ステージの回転に係る成分を含むことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の計測装置。
7. 前記処理部は、前記差分が許容範囲に収まった場合に前記第２の目標相対位置を決定することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の計測装置。
8. パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、
   前記基板に形成されたマークの位置を計測する請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の計測装置を含むことを特徴とするリソグラフィ装置。
9. 請求項８に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
   前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
   を含むことを特徴とする物品の製造方法。