JP2015154008A5 - - Google Patents
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Description
本発明の検出装置は、互いに格子ピッチが異なる格子パターンにより生じるモアレ縞を検出する検出装置であって、前記モアレ縞を撮像する撮像部と、前記モアレ縞を前記撮像部に結像させる結像光学系と、前記撮像部によって撮像された前記モアレ縞の撮像結果を処理する処理部と、複数のパターン要素が第1方向に周期的に配置され、前記第1方向における前記パターン要素の幅が前記結像光学系の解像力以下であり、かつ、前記第1方向において前記複数のパターン要素の幅と間隔のデューティ比を変化させたマーク、が形成された部材と、を備え、前記撮像部が前記マークを撮像することを特徴とする。
また、本発明の別の側面としての検出装置は、互いに格子ピッチが異なる格子パターンにより生じるモアレ縞を検出する検出装置であって、前記モアレ縞を撮像する撮像部と、前記モアレ縞を前記撮像部に結像させる結像光学系と、前記撮像部によって撮像された前記モアレ縞の撮像結果を処理する処理部と、複数のパターン要素が第1方向に周期的に配置され、前記第1方向における前記パターン要素の幅が前記結像光学系の解像力以下であり、かつ、前記第1方向に垂直な第2方向における前記複数のパターン要素の長さを変化させたマーク、が形成された部材と、を備え、前記撮像部が前記マークを撮像することを特徴とする。
Claims (13)
- 互いに格子ピッチが異なる格子パターンにより生じるモアレ縞を検出する検出装置であって、
前記モアレ縞を撮像する撮像部と、
前記モアレ縞を前記撮像部に結像させる結像光学系と、
前記撮像部によって撮像された前記モアレ縞の撮像結果を処理する処理部と、
複数のパターン要素が第1方向に周期的に配置され、前記第1方向における前記パターン要素の幅が前記結像光学系の解像力以下であり、かつ、前記第1方向において前記複数のパターン要素の幅と間隔のデューティ比を変化させたマーク、が形成された部材と、を備え、
前記撮像部が前記マークを撮像することを特徴とする検出装置。 - 前記マークは、
前記デューティ比を前記第1方向に沿って正弦波状に変化させたパターンで構成されたマークを含む、ことを特徴とする請求項1に記載の検出装置。 - 前記処理部は、
前記撮像部によって撮像された前記マークの撮像データを処理することにより、前記パターンのデューティ比が変化する方向の前記マークの位置を求めることを特徴とする請求項1又は2に記載の検出装置。 - 前記処理部は、前記撮像部によって撮像された前記マークの撮像データを処理することにより、検出装置の評価を行うことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の検出装置。
- 互いに格子ピッチが異なる格子パターンにより生じるモアレ縞を検出する検出装置であって、
前記モアレ縞を撮像する撮像部と、
前記モアレ縞を前記撮像部に結像させる結像光学系と、
前記撮像部によって撮像された前記モアレ縞の撮像結果を処理する処理部と、
複数のパターン要素が第1方向に周期的に配置され、前記第1方向における前記パターン要素の幅が前記結像光学系の解像力以下であり、かつ、前記第1方向に垂直な第2方向における前記複数のパターン要素の長さを変化させたマーク、が形成された部材と、を備え、
前記撮像部が前記マークを撮像することを特徴とする検出装置。 - 前記マークは、
前記第2方向の前記パターンの長さを正弦波状に変化させたパターンで構成されたマークを含む、ことを特徴とする請求項5に記載の検出装置。 - 前記処理部は、
前記撮像部によって撮像された前記マークの画像を前記第2方向に積算し、該積算により得られる信号を用いて、前記検出装置の評価を行うことを特徴とする請求項5又は6に記載の検出装置。 - 前記処理部は、
前記撮像部によって撮像された前記マークの撮像データを処理することにより、前記第1方向の前記マークの位置を求めることを特徴とする請求項5乃至7のいずれか一項に記載の検出装置。 - 前記処理部は、前記撮像部によって撮像された前記マークの撮像データを処理することにより、前記結像光学系の倍率、又は、前記検出装置の計測再現性を求めることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の検出装置。
- 異なる2つの被検体にそれぞれ形成された格子パターンを重ね合わせることにより生じるモアレ縞を検出することで、前記2つの被検体の位置合わせを行う位置合わせ装置であって、
前記2つの被検体にそれぞれ形成された格子パターンにより生じるモアレ縞を検出する、請求項1乃至9のいずれか一項に記載の検出装置と、
前記検出装置による検出結果に基づき、前記2つの被検体の位置を決める位置決め機構と、を備えることを特徴とする位置合わせ装置。 - パターンが形成されたモールドを用いて、基板上のインプリント材にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドと前記基板を2つの被検体として、前記2つの被検体の位置合わせを行う、請求項9に記載の位置合わせ装置を有し、
前記位置合わせ装置により位置合わせされた前記モールドと前記基板を用いて、前記インプリント材にパターンを形成することを特徴とするインプリント装置。 - 請求項11に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された基板を加工する工程と、を含む物品の製造方法。 - マークを検出する検出装置であって、
前記マークを撮像する撮像部と、
前記マークの像を前記撮像部に導く結像光学系と、
前記撮像部によって撮像された前記マークの撮像結果を処理する処理部と、
複数のパターン要素が第1方向に周期的に配置され、前記第1方向における前記パターン要素の幅が前記結像光学系の解像力以下であり、かつ、前記第1方向に垂直な第2方向における前記複数のパターン要素の長さを変化させたマーク、が形成された部材と、を備え、
前記撮像部が前記複数のパターン要素の長さを変化させたマークを撮像し、
前記処理部は、前記撮像部によって撮像された前記複数のパターン要素の長さを変化させたマークの撮像データと、前記複数のパターン要素の長さを変化させたマークのパターンの情報を用いて、前記結像光学系の光学性能を求めることを特徴とする検出装置。
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US3614237A (en) * | 1969-01-21 | 1971-10-19 | Lockheed Aircraft Corp | Method and apparatus for contour measurement |
JPS63228421A (ja) * | 1987-03-17 | 1988-09-22 | Minolta Camera Co Ltd | 自動合焦装置 |
US5052807A (en) * | 1990-06-28 | 1991-10-01 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Three dimensional moire pattern alignment |
JPH06307811A (ja) | 1993-04-28 | 1994-11-04 | Soltec:Kk | 位置ずれ及びギャップ検出方法 |
GB9723591D0 (en) * | 1997-11-08 | 1998-01-07 | Street Graham S B | Method and apparatus for lenticular imaging |
JP4074867B2 (ja) * | 2003-11-04 | 2008-04-16 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 第1及び第2位置合せマークの相対位置を計測する方法及び装置 |
US7212345B2 (en) * | 2004-09-13 | 2007-05-01 | Eastman Kodak Company | Randomized patterns of individual optical elements |
US7630067B2 (en) | 2004-11-30 | 2009-12-08 | Molecular Imprints, Inc. | Interferometric analysis method for the manufacture of nano-scale devices |
JP2006259153A (ja) | 2005-03-16 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | アラインメント精度評価方法及び装置 |
JPWO2007142351A1 (ja) * | 2006-06-09 | 2009-10-29 | 株式会社ニコン | 移動体装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
US7612882B2 (en) * | 2006-10-20 | 2009-11-03 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Optical gratings, lithography tools including such optical gratings and methods for using same for alignment |
DE102008004762A1 (de) * | 2008-01-16 | 2009-07-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Messeinrichtung |
DE102008017645A1 (de) * | 2008-04-04 | 2009-10-08 | Carl Zeiss Smt Ag | Vorrichtung zur mikrolithographischen Projektionsbelichtung sowie Vorrichtung zur Inspektion einer Oberfläche eines Substrats |
JP5152346B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2013-02-27 | 株式会社島津製作所 | 放射線撮像装置 |
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JP5451450B2 (ja) * | 2010-02-24 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及びそのテンプレート並びに物品の製造方法 |
US8902373B2 (en) * | 2010-03-04 | 2014-12-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device |
JP5548085B2 (ja) * | 2010-03-30 | 2014-07-16 | 富士フイルム株式会社 | 回折格子の調整方法 |
EP2458441B1 (en) * | 2010-11-30 | 2022-01-19 | ASML Netherlands BV | Measuring method, apparatus and substrate |
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WO2012144317A1 (ja) * | 2011-04-20 | 2012-10-26 | 富士フイルム株式会社 | 放射線撮影装置及び画像処理方法 |
JP6066565B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2017-01-25 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品の製造方法 |
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JP5972034B2 (ja) * | 2012-05-07 | 2016-08-17 | キヤノン株式会社 | 画像形成装置、画像処理プログラム、画像処理方法 |
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