JP2016027325A5 - - Google Patents

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上記目的を達成するために、本発明の一側面としての位置検出装置は、複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの端のパターンの幅は、前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする。

Claims (32)

  1. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの端のパターンの幅は、前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出装置。
  2. 前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの複数の前記他のパターンは、互いに同一であることを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。
  3. 前記端のパターンの幅は、前記端のパターンに隣接するパターンの幅の半分であることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置検出装置。
  4. 前記端のパターンと、前記端のパターンに隣接するパターンの間隔は、前記第1回折格子の複数の前記他のパターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
  5. ある一対の前記他のパターン同士の間隔は他の一対の前記他のパターン同士の間隔と同一であることを特徴とする請求項4に記載の位置検出装置。
  6. 前記第2回折格子の前記複数のパターンのうちの端のパターンの幅は、前記第2回折格子の前記複数のパターンのうちの他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。
  7. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの端のパターンと、前記端のパターンに隣接するパターンの間隔は、前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの他の隣接するパターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする位置検出装置。
  8. 前記端のパターンと前記端のパターンに隣接するパターンの間隔は、前記他の隣接するパターン同士の間隔の1.3倍以下であることを特徴とする請求項に記載の位置検出装置。
  9. 前記端のパターンと前記端のパターンに隣接するパターンの間隔は、前記他の隣接するパターン同士の間隔の1.15倍以下であることを特徴とする請求項に記載の位置検出装置。
  10. 前記第1回折格子及び前記第2回折格子のうち少なくとも一方の回折格子は、互いに直交する2方向に配列された複数のパターンを含み、該2方向に配列された複数のパターンを前記モアレを発生させるために用いることを特徴とする請求項1乃至のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
  11. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子の前記複数のパターンのうち端のパターンを含む一部のパターンからの光の位相と前記一部のパターンを除くパターンからの光の位相とを異ならせることを特徴とする位置検出装置。
  12. 記端のパターンを含む一部のパターンを構成する物質の屈折率と前記一部のパターンを除くパターンを構成する物質の屈折率とが互いに異なことを特徴とする請求項11に記載の位置検出装置。
  13. 記端のパターンを含む一部のパターンを構成する物質の厚さと前記一部のパターンを除くパターンを構成する物質の厚さとが互いに異なことを特徴とする請求項11に記載の位置検出装置。
  14. 記端のパターンを含む一部のパターンを構成する段差の深さと前記一部のパターンを除くパターンを構成する段差の深さとが互いに異なことを特徴とする請求項11に記載の位置検出装置。
  15. 前記第2回折格子の前記複数のパターンのうち端のパターンを含む一部のパターンからの光の位相と前記一部のパターンを除くパターンからの光の位相とを互いに異ならせることを特徴とする請求項11に記載の位置検出装置。
  16. 前記複数のパターンのそれぞれは、複数のセグメントで構成されていることを特徴とする請求項1乃至15のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
  17. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子の前記複数のパターン、前記モアレの端部に入射する光を減らすパターンを有することを特徴とする位置検出装置。
  18. 前記第2回折格子の前記複数のパターンは、前記モアレの端部に入射する光を減らすパターンを有することを特徴とする請求項17に記載の位置検出装置。
  19. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端部のパターンを有する少なくとも1つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの残りのパターンを含む中央領域とを有し、前記周辺領域の前記少なくとも1つのパターンの幅は、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出装置。
  20. 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端部のパターンを有する少なくとも1つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの残りのパターンを含む中央領域とを有し、前記周辺領域の前記少なくとも1つのパターンの幅は、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅よりも小さいことを特徴とする請求項19に記載の位置検出装置。
  21. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端部のパターンを有する少なくとも2つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの残りのパターンを含む中央領域とを有し、前記周辺領域の前記少なくとも2つのパターンの隣り合うパターン間の間隔は、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれよりも広いことを特徴とする位置検出装置。
  22. 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端部のパターンを有する少なくとも2つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの残りのパターンを含む中央領域とを有し、前記周辺領域の前記少なくとも2つのパターンの隣り合うパターン間の間隔は、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれよりも広いことを特徴とする請求項21に記載の位置検出装置。
  23. 複数のパターンが配列された第1回折格子と複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端部の第1パターン、又は、前記第1パターン及び前記第1パターンに隣接する第2パターン、又は、前記第1パターン、前記第2パターン及び前記第2パターンに隣接する第3パターン、の幅が、残りのパターンの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出装置。
  24. 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端部の第4パターン、又は、前記第4パターン及び前記第4パターンに隣接する第5パターン、又は、前記第4パターン、前記第5パターン及び前記第5パターンに隣接する第6パターン、の幅が、残りのパターンの幅よりも小さいことを特徴とする請求項23に記載の位置検出装置。
  25. 第1方向に複数のパターンが配列された第1回折格子と、複数のパターンが配列された第2回折格子とによって生じるモアレを検出する検出部と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
    前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端部の第1パターンと前記第1パターンに隣接する第2パターンの第1間隔、又は、前記第1間隔及び前記第2パターンと前記第2パターンに隣接する第3パターンの第2間隔、又は、前記第1間隔、前記第2間隔及び前記第3パターンと前記第3パターンに隣接する第4パターンの第3間隔が、残りのパターンの隣接パターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする位置検出装置。
  26. 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端部の第5パターンと前記第5パターンに隣接する第6パターンの第4間隔、又は、前記第4間隔及び前記第6パターンと前記第6パターンに隣接する第7パターンの第5間隔、又は、前記第4間隔、前記第5間隔及び前記第7パターンと前記第7パターンに隣接する第8パターンの第6間隔が、残りのパターンの隣接パターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする請求項25に記載の位置検出装置。
  27. 前記複数のパターンが配列してある面に対して斜入射する光により前記第1回折格子及び前記第2回折格子を照明する照明光学系を有し、前記斜入射する光は、前記複数のパターンの配列方向を含む第1入射面に沿った方向から照明する光と前記第1入射面に直交する第2入射面に沿った方向から照明する光を有することを特徴とする請求項1乃至26のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
  28. 1回折格子と第2回折格子とによって生じるモアレを検出する工程と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
    前記第1回折格子を構成する複数のパターンのうちの端のパターンの幅は、前記複数のパターンのうちの他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出方法。
  29. 第1回折格子と第2回折格子とによって生じるモアレを検出する工程と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
    前記第1回折格子を構成する複数のパターンのうちの端のパターンと前記端のパターンに隣接するパターンとの間隔は、前記第1回折格子の前記複数のパターンのうちの隣接する他のパターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする位置検出方法。
  30. 第1回折格子と第2回折格子とによって生じるモアレを検出する工程と、
    前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
    前記第1回折格子を構成する複数のパターンは、前記モアレの端部に入射する光を減らすパターンを有することを特徴とする位置検出方法。
  31. ールドを用いて基板上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
    請求項1乃至27のうちいずれか1項に記載の位置検出装置を用いて、第1回折格子及び第2回折格子の一方が形成された前記モールドと前記第1回折格子及び前記第2回折格子の他方が形成された前記基板との相対位置を検出する手段と、
    前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う手段と、を有することを特徴とするインプリント装置。
  32. 請求項31に記載のインプリント装置を用いて基インプリント材のパターンを形成する工程と、
    前記工程で前記パターンを形成された前記基板を加工する加工工程と、
    有し、前記加工工程により加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。
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