JP6701263B2 - 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の一側面としてのインプリント装置100の構成を示す概略図である。インプリント装置100は、基板上のインプリント材をモールドで成形して基板上にパターンを形成するインプリント処理を行う。本実施形態では、インプリント材として、樹脂を使用し、樹脂硬化法として、紫外線の照射によって樹脂を硬化させる光硬化法を採用する。
図7(a)に示す回折格子において、回折格子の端のパターンGP1とパターンGP1に最も近い(即ち、1つ内側の)パターンGP2との間隔を変化させることによって、回折格子のパターンの両端からの信号を変化させることができる。図7(a)に示す回折格子のパターンGP1とパターンGP2との間隔を変化させた際の回折格子の端部(パターンGP1)からの信号の変化を光学シミュレーションによって求めた結果を図10に示す。図10では、回折格子のパターンGP2及びGP3を含む他のパターン同士の間隔を1μmとし、パターンGP1とパターンGP2との間隔の1μmからの差分(間隔差)を横軸に採用している。横軸において、マイナス方向がパターンGP1とパターンGP2との間隔を狭める方向、プラス方向がパターンGP1とパターンGP2との間隔を広げる方向を示す。また、回折格子のパターンGP1とパターンGP2との間隔が1μmである場合の回折格子の端部からの信号の強度を1としたときの相対比(信号強度比)を縦軸に採用している。
回折格子の端部からの信号の強度を低減するためには、回折格子の両端のパターン及び他のパターンのそれぞれから異なる位相の光が発生させればよい。従って、モールド2及び基板1のそれぞれに設けられる回折格子のうち少なくとも一方の回折格子が、同一の位相の光が入射したときに両端のパターンからの光の位相と他のパターンからの光の位相とを異ならせる構造を含んでいればよい。
第1の実施形態及び第2の実施形態では、上述したように、回折格子(マーク4やマーク5)を大きくせずに、回折格子のパターンの両端の線幅を細くすることで、回折格子のパターンの両端で発生する信号(不要光)を低減させている。
d4=3/4×d0
d3=2/4×d0
d2=1/4×d0
このように、第2パターンの線幅d4、d3及びd2を設定することで、回折格子の端部からの不要光を低減する効果が高くなることが分かっている。
第4の実施形態のように、回折格子の端のパターンを含む複数のパターンの線幅を、回折格子の他のパターンの線幅よりも小さくすることによって、回折格子の端部からの不要光を低減する場合、端のパターンの線幅が最も小さくなくてもよい。
第2の実施形態では、回折格子の端のパターンと、かかるパターンに最も近いパターンとの間隔を、他のパターン同士(計測に使用するパターン)の間隔よりも広くすることで、回折格子の端部からの不要光を低減させている。このような場合、回折格子の端のパターンと、かかるパターンに最も近いパターンとの間隔だけに限らず、複数のパターン同士の間隔を広げてもよい。
物品としてのデバイス(半導体デバイス、磁気記憶媒体、液晶表示素子等)の製造方法について説明する。かかる製造方法は、インプリント装置100を用いてパターンを基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板等)に形成する工程を含む。かかる製造方法は、パターンを形成された基板を処理する工程を更に含む。当該処理ステップは、当該パターンの残膜を除去するステップを含みうる。また、当該パターンをマスクとして基板をエッチングするステップなどの周知の他のステップを含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (46)
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さい、又は、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さく、且つ、前記第2回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第2回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さいことを特徴とする位置検出装置。 - 前記他のパターンの前記第1方向における幅は、同一であることを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。
- 前記端のパターンの前記第1方向における幅は、前記他のパターンの前記第1方向における幅の半分であることを特徴とする請求項1又は2に記載の位置検出装置。
- 前記端のパターンと、前記端のパターンに最も近い他のパターンとの前記第1方向における間隔は、前記他のパターン同士の前記第1方向における間隔よりも広いことを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
- 前記他のパターン同士の前記第1方向における間隔は、同一であることを特徴とする請求項4に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広い、又は、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広く、且つ、前記第2回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第2回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広いことを特徴とする位置検出装置。 - 前記端のパターンと、前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記他のパターンの隣り合うパターンの前記第1方向における間隔の1.3倍以下であることを特徴とする請求項6に記載の位置検出装置。
- 前記端のパターンと、前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記他のパターンの隣り合うパターンの前記第1方向における間隔の1.15倍以下であることを特徴とする請求項6に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子及び前記第2回折格子のうち少なくとも一方の回折格子は、前記第1方向に直交する第2方向に配列されたパターンを含むことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子及び前記第2回折格子のうち少なくとも一方の回折格子は、同一の位相の光が入射したときに前記少なくとも一方の回折格子に含まれるパターンの端のパターンからの光の位相と前記少なくとも一方の回折格子の他のパターンからの光の位相とを異ならせる構造を含むことを特徴とする位置検出装置。 - 前記構造は、前記端のパターンを構成する物質の屈折率と前記他のパターンを構成する物質の屈折率とを異ならせることで構成されていることを特徴とする請求項10に記載の位置検出装置。
- 前記構造は、前記端のパターンを構成する物質の厚さと前記他のパターンを構成する物質の厚さとを異ならせることで構成されていることを特徴とする請求項10に記載の位置検出装置。
- 前記構造は、前記端のパターンを構成する段差の深さと前記他のパターンを構成する段差の深さとを異ならせることで構成されていることを特徴とする請求項10に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも1つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とからなり、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅は同一であって、前記周辺領域の全てのパターンの幅は、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出装置。 - 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも1つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とを有し、前記周辺領域の全てのパターンの幅は、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅よりも小さいことを特徴とする請求項14に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の前記中央領域の複数のパターンのうちの前記他のパターンは、互いに幅が同一であることを特徴とする請求項14に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の前記周辺領域のパターンの幅は、端に向かって連続的に小さくなっていることを特徴とする請求項14に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも2つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とからなり、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔は同一であって、前記周辺領域の全てのパターンの隣り合うパターン間の間隔は、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれよりも広いことを特徴とする位置検出装置。 - 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも2つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とを有し、前記周辺領域の全てのパターンの隣り合うパターン間の間隔は、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれよりも広いことを特徴とする請求項18に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれは、間隔が同一であることを特徴とする請求項18に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の前記周辺領域のパターンの隣り合うパターン間の間隔は、端に向かって連続的に広くなっていることを特徴とする請求項18に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、前記複数のパターンのうちの、端の第1パターン、又は、前記第1パターン及び前記第1パターンに隣接する第2パターン、又は、前記第1パターン、前記第2パターン及び前記第2パターンに隣接する第3パターン、の幅が、他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出装置。 - 前記第2回折格子は、前記複数のパターンのうちの、端の第4パターン、又は、前記第4パターン及び前記第4パターンに隣接する第5パターン、又は、前記第4パターン、前記第5パターン及び前記第5パターンに隣接する第6パターン、の幅が、他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする請求項22に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の複数のパターンのうちの前記他のパターンは、互いに幅が同一であることを特徴とする請求項22に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の前記第3パターンの幅は、前記他のパターンの幅よりも小さく、前記第2パターンの幅は、前記第3パターンの幅よりも小さく、前記第1パターンの幅は、前記第2パターンの幅よりも小さいことを特徴とする請求項22に記載の位置検出装置。
- 前記第2回折格子の前記第6パターンの幅は、前記他のパターンの幅よりも小さく、前記第5パターンの幅は、前記第6パターンの幅よりも小さく、前記第4パターンの幅は、前記第5パターンの幅よりも小さいことを特徴とする請求項23に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端の第1パターンと前記第1パターンに隣接する第2パターンとの間の第1間隔、又は、前記第1間隔及び前記第2パターンと前記第2パターンに隣接する第3パターンとの間の第2間隔、又は、前記第1間隔、前記第2間隔及び前記第3パターンと前記第3パターンに隣接する第4パターンとの間の第3間隔が、他のパターンの隣接パターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする位置検出装置。 - 前記第2回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端の第5パターンと前記第5パターンに隣接する第6パターンとの間の第4間隔、又は、前記第4間隔及び前記第6パターンと前記第6パターンに隣接する第7パターンとの間の第5間隔、又は、前記第4間隔、前記第5間隔及び前記第7パターンと前記第7パターンに隣接する第8パターンとの間の第6間隔が、他のパターンの隣接パターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする請求項27に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の複数のパターンのうちの前記他のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれは、間隔が同一であることを特徴とする請求項27に記載の位置検出装置。
- 前記第1回折格子の前記第3間隔は、前記他のパターンの隣り合うパターン間の間隔よりも広く、前記第2間隔は、前記第3間隔よりも広く、前記第1間隔は、前記第2間隔よりも広いことを特徴とする請求項27に記載の位置検出装置。
- 前記第2回折格子の前記第6間隔は、前記他のパターンの隣り合うパターン間の間隔よりも広く、前記第5間隔は、前記第6間隔よりも広く、前記第4間隔は、前記第5間隔よりも広いことを特徴とする請求項28に記載の位置検出装置。
- 前記パターンは、複数のセグメントで構成されていることを特徴とする請求項1乃至31のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
- 前記第1方向に垂直に入射する光と前記第1方向に平行に入射する光によって前記第1回折格子及び前記第2回折格子を照明する照明光学系を更に有することを特徴とする請求項1乃至32のうちいずれか1項に記載の位置検出装置。
- 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する工程と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さい、又は、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さく、且つ、前記第2回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第2回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さいことを特徴とする位置検出方法。 - 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する工程と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広い、又は、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広く、且つ、前記第2回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第2回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広いことを特徴とする位置検出方法。 - 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する工程と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも1つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とからなり、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅は同一であって、前記周辺領域の全てのパターンの幅は、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出方法。 - 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する工程と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも2つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とからなり、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間のそれぞれの間隔は同一であって、前記周辺領域の全てのパターンの隣り合うパターン間の間隔は、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれよりも広いことを特徴とする位置検出方法。 - 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する工程と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、前記複数のパターンのうちの、端の第1パターン、又は、前記第1パターン及び前記第1パターンに隣接する第2パターン、又は、前記第1パターン、前記第2パターン及び前記第2パターンに隣接する第3パターン、の幅が、他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とする位置検出方法。 - 第1方向に配列された複数のパターンを含む第1回折格子と、前記第1方向に配列された複数のパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する工程と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める工程と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端の第1パターンと前記第1パターンに隣接する第2パターンとの間の第1間隔、又は、前記第1間隔及び前記第2パターンと前記第2パターンに隣接する第3パターンとの間の第2間隔、又は、前記第1間隔、前記第2間隔及び前記第3パターンと前記第3パターンに隣接する第4パターンとの間の第3間隔が、他のパターンの隣接パターン同士の間隔よりも広いことを特徴とする位置検出方法。 - 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドに設けられた第1方向に配列されたパターンを含む第1回折格子と、前記基板に設けられた前記第1方向に配列されたパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、
前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さい、又は、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さく、且つ、前記第2回折格子の複数のパターンの端のパターンの前記第1方向における幅は、前記第2回折格子の複数のパターンの他のパターンの前記第1方向における幅よりも小さいことを特徴とするインプリント装置。 - 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドに設けられた第1方向に配列されたパターンを含む第1回折格子と、前記基板に設けられた前記第1方向に配列されたパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、
前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広い、又は、
前記第1回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第1回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広く、且つ、前記第2回折格子の複数のパターンの端のパターンと前記端のパターンに隣り合うパターンとの前記第1方向における間隔は、前記第2回折格子の複数のパターンの他のパターンの隣り合うパターンの間隔よりも広いことを特徴とするインプリント装置。 - 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドに設けられた第1方向に配列されたパターンを含む第1回折格子と、前記基板に設けられた前記第1方向に配列されたパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、
前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも1つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とからなり、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅は同一であって、前記周辺領域の全てのパターンの幅は、前記中央領域の複数のパターンのそれぞれの幅よりも小さいことを特徴とするインプリント装置。 - 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドに設けられた第1方向に配列されたパターンを含む第1回折格子と、前記基板に設けられた前記第1方向に配列されたパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、
前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの端のパターンを有する少なくとも2つのパターンを含む周辺領域と、その前記複数のパターンのうちの他のパターンを含む中央領域とからなり、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間のそれぞれの間隔は同一であって、前記周辺領域の全てのパターンの隣り合うパターン間の間隔は、前記中央領域の複数のパターンの隣り合うパターン間の間隔のそれぞれよりも広いことを特徴とするインプリント装置。 - 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドに設けられた第1方向に配列されたパターンを含む第1回折格子と、前記基板に設けられた前記第1方向に配列されたパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、
前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、前記複数のパターンのうちの、端の第1パターン、又は、前記第1パターン及び前記第1パターンに隣接する第2パターン、又は、前記第1パターン、前記第2パターン及び前記第2パターンに隣接する第3パターン、の幅が、他のパターンの幅よりも小さいことを特徴とするインプリント装置。 - 基板上のインプリント材をモールドで成形して前記基板上にパターンを形成するインプリント装置であって、
前記モールドに設けられた第1方向に配列されたパターンを含む第1回折格子と、前記基板に設けられた前記第1方向に配列されたパターンを含む第2回折格子とが重なることで生じるモアレを検出する検出部と、
前記モアレに基づいて、前記第1回折格子と前記第2回折格子との相対位置を求める処理部と、
前記相対位置に基づいて、前記モールドと前記基板との位置合わせを行う制御部と、を有し、
前記第1回折格子の複数のパターンのピッチ、及び、前記第2回折格子の複数のパターンのピッチは、それぞれ一定であって、
前記第1回折格子は、その前記複数のパターンのうちの、端の第1パターンと前記第1パターンに隣接する第2パターンとの間の第1間隔、又は、前記第1間隔及び前記第2パターンと前記第2パターンに隣接する第3パターンとの間の第2間隔、又は、前記第1間隔、前記第2間隔及び前記第3パターンと前記第3パターンに隣接する第4パターンとの間の第3間隔が、他のパターンの隣接パターン同士の間隔よりも広いことを特徴とするインプリント装置。 - 請求項40乃至45のうちいずれか1項に記載のインプリント装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パターンを形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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