JP7057094B2 - 位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法 - Google Patents
位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7057094B2 JP7057094B2 JP2017199048A JP2017199048A JP7057094B2 JP 7057094 B2 JP7057094 B2 JP 7057094B2 JP 2017199048 A JP2017199048 A JP 2017199048A JP 2017199048 A JP2017199048 A JP 2017199048A JP 7057094 B2 JP7057094 B2 JP 7057094B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- period
- diffraction grating
- pupil
- diffracted light
- diffracted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
(第1実施形態)
図1は、本実施形態に係る位置検出装置100を備えたインプリント装置1の構成を示す概略図である。なお、位置検出装置100は、露光装置など他のリソグラフィ装置にも適用可能である。ここでは、光硬化法を用いたインプリント装置として、紫外線UVの照射によって基板W上の未硬化のインプリント材を硬化させる紫外線硬化型のインプリント装置を使用した。ただし、インプリント材の硬化方法として、他の波長域の光の照射による方法や、他のエネルギー(例えば、熱)による方法を用いてもよい。また、以下の図においては、基板W上のインプリント材に対して照射される紫外線の光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内に互いに直交するX軸およびY軸を取っている。
図3は、本実施形態に係る位置検出装置100の構成を示す概略図である。位置検出装置100は、第1光学系(照明光学系)110と、第2光学系(結像光学系)120と、第1撮像素子130と、第2撮像素子140とを有する。第1撮像素子130および第2撮像素子140としては、CCDやCMOSが用いられうる。型Mが備えるマークM1は、第1回折格子D1および第3回折格子D3を含む。基板Wが備えるマークM2は、第2回折格子D2および第4回折格子D4を含む。
〔第2実施形態〕
〔第3実施形態〕
インプリント装置を用いて形成した硬化物のパターンは、各種物品の少なくとも一部に恒久的に、或いは各種物品を製造する際に一時的に、用いられる。物品とは、電気回路素子、光学素子、MEMS、記録素子、センサ、或いは、型等である。電気回路素子としては、DRAM、SRAM、フラッシュメモリ、MRAMのような、揮発性或いは不揮発性の半導体メモリや、LSI、CCD、イメージセンサ、FPGAのような半導体素子等が挙げられる。型としては、インプリント用のモールド等が挙げられる。
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明はこれらの実施の形態に限定されず、その要旨の範囲内において様々な変更が可能である。
110 第1光学系
120 第2光学系
130 第1撮像素子
140 第2撮像素子
Claims (9)
- 互いに周期の異なる複数の回折格子で回折された回折光により生じるモアレ縞が結像される撮像面を備えた撮像素子を有する位置検出装置であって、
前記複数の回折格子を照明する照明光学系と、
前記回折光を前記撮像面に結像する結像光学系と、
前記結像光学系の瞳面において、第1方向に第1周期をもつ第1回折格子および前記第1方向に前記第1周期と異なる周期をもち、かつ前記第1方向と交差する第2方向に周期をもつ第2回折格子により回折され前記第1方向に周期をもつ第1モアレ縞を生じさせる第1回折光と、前記第2方向に第2周期をもつ第3回折格子および前記第2方向に前記第2周期と異なる周期をもち、かつ前記第1方向に周期をもつ第4回折格子により回折され前記第2方向に周期をもつ第2モアレ縞を生じさせる第2回折光と、を分割する分割部と、を有し、
前記照明光学系は、瞳面の中心を通り前記第1方向に沿う第1軸上における前記中心から離れた領域、および、前記瞳面の中心を通り前記第2方向に沿う第2軸上における前記中心から離れた領域のそれぞれに光強度分布を有する照明瞳を有し、
前記分割部は、前記照明光学系の瞳面と光学的に共役な位置に配置され、
前記分割部は、前記第2軸上の照明瞳で照明された前記第1回折格子及び前記第2回折格子によって前記第2軸上の照明瞳に対応する領域に戻る前記第1回折光と、前記第1軸上の照明瞳で照明された前記第3回折格子及び前記第4回折格子によって前記第1軸上の照明瞳に対応する領域に戻る前記第2回折光と、を分割することを特徴とする位置検出装置。 - 互いに周期の異なる複数の回折格子で回折された回折光により生じるモアレ縞が結像される撮像面を備えた撮像素子を有する位置検出装置であって、
前記複数の回折格子を照明する照明光学系と、
前記回折光を前記撮像面に結像する結像光学系と、
前記結像光学系の瞳面において、第1方向に第1周期をもつ第1回折格子および前記第1方向に前記第1周期と異なる周期をもち、かつ前記第1方向と交差する第2方向に周期をもつ第2回折格子により回折され前記第1方向に周期をもつ第1モアレ縞を生じさせる第1回折光と、前記第2方向に第2周期をもつ第3回折格子および前記第2方向に前記第2周期と異なる周期をもち、かつ前記第1方向に周期をもつ第4回折格子により回折され前記第2方向に周期をもつ第2モアレ縞を生じさせる第2回折光と、を分割する分割部と、
前記結像光学系の像面において、前記分割部からの前記第1回折光による前記第1モアレ縞を反射する第1反射部と、前記分割部からの前記第2回折光による前記第2モアレ縞を反射する第2反射部と、
前記分割部と光学的に共役な位置において、前記第1反射部からの前記第1回折光と、
前記第2反射部からの前記第2回折光と、を合成して前記撮像面に導く合成部と、を有し、
前記照明光学系は、瞳面の中心に光強度分布を有する照明瞳を有し、
前記分割部は、前記照明光学系の瞳面と光学的に共役な位置に配置され、
前記分割部は、前記照明瞳で照明された前記第1回折格子及び前記第2回折格子によって前記第2方向に回折されて、前記瞳面の中心を通り前記第2方向に沿う第2軸上において前記瞳面の中心から離れた領域を通過する前記第1回折光と、前記照明瞳で照明された前記第3回折格子及び前記第4回折格子によって前記第1方向に回折されて、前記瞳面の中心を通り前記第1方向に沿う第1軸上において前記瞳面の中心から離れた領域を通過する前記第2回折光と、を分割することを特徴とする位置検出装置。 - 前記分割部は、前記第1回折光および前記第2回折光のうちいずれか一方を反射させる反射部および、いずれか他方を透過する透過部を備える、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の位置検出装置。 - 前記撮像面は、前記第1モアレ縞が結像される第1撮像領域および、前記第2モアレ縞が結像される第2撮像領域を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の位置検出装置。
- 前記第1モアレ縞が結像される前記撮像面を有する第1撮像素子および、前記第2モアレ縞が結像される前記撮像面を有する第2撮像素子を有することを特徴とする請求項1に記載の位置検出装置。
- 前記第1方向と前記第2方向とは、互いに直交することを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の位置検出装置。
- 前記第2回折格子の前記第2方向の前記周期は、前記第3回折格子の前記第2周期と異なり、前記第4回折格子の前記第1方向の前記周期は、前記第1回折格子の前記第1周期と異なる、
ことを特徴とする請求項6に記載の位置検出装置。 - 型を用いて基板の上にインプリント材のパターンを形成するインプリント装置であって、
型および基板のいずれか一方に設けられた前記第1回折格子および前記第3回折格子と、いずれか他方に設けられた前記第2回折格子および前記第4回折格子で回折された前記第1モアレ縞および前記第2モアレ縞に基づいて前記型と前記基板との前記第1方向および前記第2方向の相対位置のずれ量を求める請求項1乃至7のいずれか1項に記載の位置検出装置を備える、
ことを特徴とするインプリント装置。 - 請求項8に記載のインプリント装置を用いてパターン形成を基板上に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、を含み、
前記加工された基板から物品を製造する、
ことを特徴とする物品製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017199048A JP7057094B2 (ja) | 2017-10-13 | 2017-10-13 | 位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017199048A JP7057094B2 (ja) | 2017-10-13 | 2017-10-13 | 位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019075425A JP2019075425A (ja) | 2019-05-16 |
JP7057094B2 true JP7057094B2 (ja) | 2022-04-19 |
Family
ID=66544267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017199048A Active JP7057094B2 (ja) | 2017-10-13 | 2017-10-13 | 位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7057094B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007004565A1 (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-11 | Hitachi Medical Corporation | 電源装置及びこれを用いた磁気共鳴イメージング装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013030757A (ja) | 2011-06-21 | 2013-02-07 | Canon Inc | 位置検出装置、インプリント装置及び位置検出方法 |
JP2013191777A (ja) | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Canon Inc | インプリント装置、モールド、インプリント方法及び物品の製造方法 |
JP2017041608A (ja) | 2015-08-21 | 2017-02-23 | キヤノン株式会社 | 検出装置、インプリント装置、物品の製造方法及び照明光学系 |
JP6138189B2 (ja) | 2015-04-08 | 2017-05-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5343292A (en) * | 1990-10-19 | 1994-08-30 | University Of New Mexico | Method and apparatus for alignment of submicron lithographic features |
JPH10103917A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-24 | Nikon Corp | 位置計測装置 |
JP3273409B2 (ja) * | 1997-10-28 | 2002-04-08 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
-
2017
- 2017-10-13 JP JP2017199048A patent/JP7057094B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013030757A (ja) | 2011-06-21 | 2013-02-07 | Canon Inc | 位置検出装置、インプリント装置及び位置検出方法 |
JP2013191777A (ja) | 2012-03-14 | 2013-09-26 | Canon Inc | インプリント装置、モールド、インプリント方法及び物品の製造方法 |
JP6138189B2 (ja) | 2015-04-08 | 2017-05-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品の製造方法 |
JP2017041608A (ja) | 2015-08-21 | 2017-02-23 | キヤノン株式会社 | 検出装置、インプリント装置、物品の製造方法及び照明光学系 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007004565A1 (ja) * | 2005-07-01 | 2007-01-11 | Hitachi Medical Corporation | 電源装置及びこれを用いた磁気共鳴イメージング装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019075425A (ja) | 2019-05-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI654422B (zh) | 測量裝置、壓印設備、製造產品的方法、光量確定方法及光量調整方法 | |
US8842294B2 (en) | Position detection apparatus, imprint apparatus, and position detection method | |
JP6341883B2 (ja) | 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 | |
TWI651762B (zh) | 對位裝置,對位方法,光蝕刻裝置,及物品製造方法 | |
TWI636280B (zh) | 物鏡系統 | |
JP6632252B2 (ja) | 検出装置、インプリント装置、物品の製造方法及び照明光学系 | |
JP5943717B2 (ja) | 位置検出システム、インプリント装置、デバイス製造方法、および位置検出方法 | |
JP7414576B2 (ja) | 位置計測装置、重ね合わせ検査装置、位置計測方法、インプリント装置および物品の製造方法 | |
US11537056B2 (en) | Measurement apparatus, lithography apparatus, and method of manufacturing article | |
JP6285666B2 (ja) | 検出装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法及び検出方法 | |
JP7057094B2 (ja) | 位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法 | |
KR102373203B1 (ko) | 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 | |
KR102605547B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
JP7030569B2 (ja) | 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 | |
US20240027921A1 (en) | Detection device, lithography apparatus, and article manufacturing method | |
KR20210149609A (ko) | 검출기, 임프린트 장치 및 물품 제조방법 | |
JP6701263B2 (ja) | 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP7378250B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
TW202411769A (zh) | 檢測裝置、微影蝕刻設備及物品製造方法 | |
JP2023019089A (ja) | 位置検出装置、インプリント装置、および物品製造方法 | |
KR20240013057A (ko) | 검출 장치, 리소그래피 장치 및 물품 제조 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200707 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210312 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210323 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210524 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210914 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20211022 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220407 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 7057094 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |