JP2019004143A - 検出装置、リソグラフィー装置および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ここで、k1+k2+・・・+kn=1
制御部15は、m=0となるようにk1〜knの値を決定する。各波長λ1〜λnの光を決定されたk1〜knの比で合成して照明光を生成することによって、検出器3の検出誤差を低減することできる。
ナノインプリント装置をもとに実施例を記載したが、半導体露光装置にも同様に適用される。
Claims (12)
- 検出対象の位置情報を検出する検出装置であって、
前記検出対象を照明光で照明する光源と、
前記照明光で照明された前記検出対象からの光に基づいて前記検出対象の位置情報を検出する検出器と、
前記光源を制御する制御部と、を備え、
前記照明光は、複数の波長の光を含み、前記光源は、前記複数の波長の光のそれぞれの強度を調整可能であり、
前記制御部は、前記検出対象を照明する光の波長と前記検出器の検出誤差との関係を示す波長特性に基づいて、前記検出器の検出誤差が低減されるように、前記複数の波長の光のそれぞれの強度を調整する、
ことを特徴とする検出装置。 - 前記光源は、前記複数の波長の光のそれぞれの強度を少なくとも3つの強度に調整可能である、
ことを特徴とする請求項1に記載の検出装置。 - 前記光源は、前記複数の波長の光の少なくとも1つについては、強度を連続的に調整可能である、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の検出装置。 - 前記制御部は、前記波長特性をシミュレーションによって取得する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の検出装置。 - 前記制御部は、複数の波長のテスト光のそれぞれで前記光源がテストサンプルを照明するように前記光源を制御し、前記複数の波長のテスト光のそれぞれについて前記検出器に前記テストサンプルの位置情報を検出させ、前記検出器による検出結果に基づいて前記波長特性を生成する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の検出装置。 - 前記制御部は、前記検出器による検出結果の他、評価装置によって前記テストサンプルの位置情報を評価することによって得られた結果に基づいて前記波長特性を生成する、
ことを特徴とする請求項5に記載の検出装置。 - 前記検出器は、複数の波長帯域の光を分離して検出可能な複数の波長選択フィルタを有する撮像素子を含み、前記撮像素子によって前記複数の波長帯域の光を同時に検出することによって前記テストサンプルの位置情報を検出する、
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の検出装置。 - 前記制御部は、前記波長特性に基づいて、前記複数の波長のうち前記検出対象の製造誤差に対する敏感度が低い少なくとも2つの波長を選択し、前記少なくとも2つの波長の光で前記照明光が構成されるように前記光源を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の検出装置。 - 前記検出対象は、第1マークおよび第2マークを有し、前記位置情報は、前記第1マークと前記第2マークとの相対位置情報である、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の検出装置。 - 前記光源および前記検出器によって第3マークと第4マークとの相対位置情報を検出する際に、前記制御部は、前記第3マークおよび前記第4マークを同時に検出することができるように前記複数の波長の光のそれぞれの強度を調整する、
ことを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の検出装置。 - 基板の上に原版のパターンを転写するリソグラフィー装置であって、
前記基板と前記原版との相対位置を検出するように構成された請求項1乃至10のいずれか1項に記載の検出装置と、
前記検出装置によって検出された相対位置に基づいて前記基板と前記原版とを位置合わせする駆動機構と、
を備えることを特徴とするリソグラフィー装置。 - 請求項11に記載のリソグラフィー装置によって基板の上にパターンを形成するパターン形成工程と、
前記パターンが形成された前記基板を加工する加工工程と、を含み、
前記加工工程で加工された前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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