JP2016129212A5 - - Google Patents

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  1. 対象物の位置を計測する計測装置であって、
    前記対象物に形成されたマークを検出して検出信号を生成する検出部と、
    前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得る処理部と、を有し、
    前記処理部は、前記対象物に対する計測精度に係る許容条件に関する情報に基づいて限定された前記検出信号のうちの部分に基づいて前記対象物の位置を得ることを特徴とする計測装置。
  2. 前記処理部は、
    前記検出信号のうちの複数の部分のそれぞれに関して、位置計測誤差を評価し、
    前記情報に基づいて、前記位置計測誤差が許容条件を満たす、前記複数の部分のうちの部分を選択し、該部分に基づいて、前記対象物の位置を得る、
    ことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
  3. 前記処理部は、
    前記検出信号のうちの複数の部分のそれぞれに関して、位置計測精度を評価し、
    前記情報に基づいて、前記位置計測精度が許容条件を満たす、前記複数の部分のうちの部分を選択し、該部分に基づいて、前記対象物の位置を得る、
    ことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
  4. 前記マークは、第1方向に沿って配列された複数のマーク要素を含み、
    前記複数の部分は、前記第1方向に直交する方向において前記マークを分割して得られる複数の領域にそれぞれ対応する、ことを特徴とする請求項2又は3に記載の計測装置。
  5. 前記検出信号に占める前記部分の割合を通知する通知部を有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の計測装置。
  6. 前記マークは、第1方向に沿って配列された複数のマーク要素を含み、
    前記処理部は、前記複数のマーク要素のうちの一部のマーク要素に対応する、前記位置計測精度が許容条件を満たす前記部分に基づいて、前記対象物の位置を得ることを特徴とする請求項3に記載の計測装置。
  7. 前記複数のマーク要素に占める前記一部のマーク要素の割合を通知する通知部を有することを特徴とする請求項6に記載の計測装置。
  8. 対象物の位置を計測する計測装置であって、
    前記対象物に形成されたマークを検出して検出信号を生成する検出部と、
    前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得る処理部と、を有し、
    前記処理部は、前記対象物に対する計測精度に係る許容条件を前記検出信号が満たす場合、前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得ることを特徴とする計測装置。
  9. 前記処理部は、
    前記検出信号に関して位置計測誤差を評価し、
    前記位置計測誤差が前記計測精度に係る許容範囲内にある場合、前記検出信号に基づいて前記対象物の位置を得る、
    ことを特徴とする請求項8に記載の計測装置。
  10. 前記位置計測誤差を通知する通知部を有することを特徴とする請求項9に記載の計測装置。
  11. 前記許容条件に関する情報を入力する入力部を有することを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載の計測装置。
  12. 対象物に関してパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
    前記対象物を保持して可動の保持部と、
    前記対象物の位置を計測する請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載の計測装置と、
    を有することを特徴とするリソグラフィ装置。
  13. 前記対象物は、前記パターン形成のための原版及び前記パターン形成を行われる基板のうち少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項12に記載のリソグラフィ装置。
  14. 請求項12又は13に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
    前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
    を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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KR1020150189157A KR101993951B1 (ko) 2015-01-09 2015-12-30 계측 장치, 리소그래피 장치, 및 물품의 제조 방법

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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107976870B (zh) * 2016-10-24 2020-12-04 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种运动台定位误差补偿装置及补偿方法
US10156439B2 (en) * 2017-03-03 2018-12-18 The Boeing Company Inspection system for alignment in restricted volumes
US11175598B2 (en) * 2017-06-30 2021-11-16 Canon Kabushiki Kaisha Imprint apparatus and method of manufacturing article
CN111123662B (zh) * 2020-01-19 2022-04-26 中国科学院微电子研究所 一种获取套刻误差量测数据的方法及装置
CN112408316B (zh) * 2020-11-20 2024-04-12 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 双面超表面结构的制备方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3391328B2 (ja) * 1993-02-08 2003-03-31 株式会社ニコン 位置合わせ方法、その位置合わせ方法を用いた露光方法、その露光方法を用いたデバイス製造方法、そのデバイス製造方法で製造されたデバイス、並びに位置合わせ装置、その位置合わせ装置を備えた露光装置
JP3594221B2 (ja) 1999-01-26 2004-11-24 シャープ株式会社 半導体集積回路装置のテスト回路
JP2001267206A (ja) * 2000-03-15 2001-09-28 Canon Inc 位置合せ方法、露光装置、及び、半導体デバイス生産方法
JP2001319858A (ja) * 2000-05-09 2001-11-16 Canon Inc アライメントマーク位置計測方法、露光装置、半導体デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP4272862B2 (ja) 2002-09-20 2009-06-03 キヤノン株式会社 位置検出方法、位置検出装置及び露光装置
JP2004235354A (ja) 2003-01-29 2004-08-19 Canon Inc 露光装置
JP2005057222A (ja) * 2003-08-07 2005-03-03 Canon Inc マーク検出装置、マーク検出方法、マーク検出プログラム、露光装置、デバイスの製造方法、及び、デバイス
KR20050120072A (ko) 2004-06-18 2005-12-22 동부아남반도체 주식회사 반도체 소자의 얼라인 마크 및 그를 이용한 얼라인 방법
US7436485B2 (en) 2005-04-06 2008-10-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, patterning assembly and contamination estimation method
US7408618B2 (en) 2005-06-30 2008-08-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus substrate alignment
JP2007103658A (ja) 2005-10-04 2007-04-19 Canon Inc 露光方法および装置ならびにデバイス製造方法
JP5002221B2 (ja) 2006-09-11 2012-08-15 キヤノン株式会社 マークの位置を検出する装置
JP5132277B2 (ja) 2006-12-04 2013-01-30 キヤノン株式会社 計測装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP4307482B2 (ja) 2006-12-19 2009-08-05 キヤノン株式会社 位置計測装置、露光装置、およびデバイス製造方法
JP2008205393A (ja) * 2007-02-22 2008-09-04 Canon Inc アライメントマークの位置検出の条件を決定する方法、露光装置及びデバイスの製造方法
CN100480867C (zh) * 2007-03-06 2009-04-22 上海微电子装备有限公司 一种基于图像技术的对准系统及对准方法
DE102008004762A1 (de) * 2008-01-16 2009-07-30 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer Messeinrichtung
JP5096965B2 (ja) * 2008-02-29 2012-12-12 キヤノン株式会社 位置合わせ方法、位置合わせ装置、露光方法及びデバイス製造方法
DE102008015631A1 (de) * 2008-03-20 2009-09-24 Carl Zeiss Sms Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung von Masken für die Photolithographie
US9360778B2 (en) * 2012-03-02 2016-06-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. System and method for lithography patterning
JP6386732B2 (ja) 2014-01-20 2018-09-05 キヤノン株式会社 検出装置、検出方法、及びリソグラフィ装置

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