JP2013120290A5 - - Google Patents

Description

本発明の１つの側面は、投影光学系を有する露光装置において前記投影光学系の物体面に配置して使用されるマスクのパターンをコンピュータを用いて決定する決定方法に係り、前記決定方法は、マスクを製造するためにマスクブランクに暫定パターンを描画するためのコストを評価するための第１評価関数の値を計算する第１計算工程と、前記暫定パターンを有するマスクを前記投影光学系の前記物体面に配置したときに前記投影光学系の像面に形成される前記暫定パターンの像を評価するための第２評価関数の値を計算する第２計算工程と、前記暫定パターンを変更する変更工程と、を含み、前記変更工程を経て、前記第１計算工程および前記第２計算工程が繰り返され、前記第１計算工程で計算された前記第１評価関数の値および前記第２計算工程で計算された前記第２評価関数の値が所定の基準を満たす場合の前記暫定パターンを前記マスクのパターンとして決定する。

Claims (9)

1. 投影光学系を有する露光装置において前記投影光学系の物体面に配置して使用されるマスクのパターンをコンピュータを用いて決定する決定方法であって、
   マスクを製造するためにマスクブランクに暫定パターンを描画するためのコストを評価するための第１評価関数の値を計算する第１計算工程と、
   前記暫定パターンを有するマスクを前記投影光学系の前記物体面に配置したときに前記投影光学系の像面に形成される前記暫定パターンの像を評価するための第２評価関数の値を計算する第２計算工程と、
   前記暫定パターンを変更する変更工程と、を含み、
   前記変更工程を経て、前記第１計算工程および前記第２計算工程が繰り返され、前記第１計算工程で計算された前記第１評価関数の値および前記第２計算工程で計算された前記第２評価関数の値が所定の基準を満たす場合の前記暫定パターンを前記マスクのパターンとして決定する、
   ことを特徴とする決定方法。
2. 前記第１計算工程では、マスクブランクに対するパターンの描画条件に基づいて前記第１評価関数の値を計算する、
   ことを特徴とする請求項１に記載の決定方法。
3. 前記描画条件は、描画ショットの寸法、形状、パターンを描画するための位置、方向および精度の少なくとも１つを含む、
   ことを特徴とする請求項２に記載の決定方法。
4. 前記変更工程において、前記暫定パターンを有するマスクを照明する照明条件を変更し、
   前記第１計算工程で計算された前記第１評価関数の値および前記第２計算工程で計算された前記第２評価関数の値が所定の基準を満たす場合の前記照明条件を、前記マスクの決定されたパターンを用いて基板を露光するときの照明条件として決定する、
   ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の決定方法。
5. 前記変更工程において、前記マスクブランクに対するパターンの描画条件を変更し、
   前記第１計算工程で計算された前記第１評価関数の値および前記第２計算工程で計算された前記第２評価関数の値が所定の基準を満たす場合の前記描画条件を、前記マスクのパターンとして決定されたパターンをマスクブランクに描画する際の描画条件として決定する、
   ことを特徴とする請求項２又は３に記載の決定方法。
6. 前記コストは、マスクブランクにパターンを描画するために要する描画ショット数を含む、
   ことを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の決定方法。
7. 前記第１計算工程で計算された前記第１評価関数の値が第１の基準を満たし且つ前記第２計算工程で計算された前記第２評価関数の値が第２の基準を満たす場合の前記暫定パターンを前記マスクのパターンとして決定する、
   ことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の決定方法。
8. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の決定方法をコンピュータに実行させるためのプログラム。
9. 請求項１乃至７のいずれか１項に記載の決定方法を実行するパターン決定装置。