JP2018194616A5 - - Google Patents

Description

本発明の一側面によれば、基板にパターンの形成を行うリソグラフィ装置であって、マークが形成された前記基板を保持して可動のステージと、前記ステージに保持された前記基板に形成された前記マークを撮像して前記マークの画像を得る撮像部と、前記画像を処理して前記マークの位置を得る処理を行う処理部と、前記処理部により得られた前記マークの位置に基づいて移動された前記ステージに保持された前記基板に前記パターンの形成を行う形成部とを有し、前記処理部は、前記マークの位置を得る第１処理において行われる第１テンプレートマッチングより前記マークの位置を得る精度が高い第２テンプレートマッチングにより前記マークの位置を得る第２処理を行い、前記第２処理で得られた前記マークの位置に基づいて、前記第１処理での前記第１テンプレートマッチングに使用したテンプレートの変更を行い、前記第１処理での前記第１テンプレートマッチングに使用するべきテンプレートを得る第３処理を行うことを特徴とするリソグラフィ装置が提供される。

Claims (10)

1. 基板にパターンの形成を行うリソグラフィ装置であって、
   マークが形成された前記基板を保持して可動のステージと、
   前記ステージに保持された前記基板に形成された前記マークを撮像して前記マークの画像を得る撮像部と、
   前記画像を処理して前記マークの位置を得る処理を行う処理部と、
   前記処理部により得られた前記マークの位置に基づいて移動された前記ステージに保持された前記基板に前記パターンの形成を行う形成部と、
   を有し、
   前記処理部は、
   前記マークの位置を得る第１処理において行われる第１テンプレートマッチングより前記マークの位置を得る精度が高い第２テンプレートマッチングにより前記マークの位置を得る第２処理を行い、
   前記第２処理で得られた前記マークの位置に基づいて、前記第１処理での前記第１テンプレートマッチングに使用したテンプレートの変更を行い、前記第１処理での前記第１テンプレートマッチングに使用するべきテンプレートを得る第３処理を行う、
   ことを特徴とするリソグラフィ装置。
2. 前記処理部は、前記形成部が前記パターンの形成を行っている間に前記第２処理を行うことを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ装置。
3. 前記処理部は、前記第３処理において、前記第１処理で得られる前記マークの位置が前記第２処理で得られた前記マークの位置に近づくように前記変更を行うことを特徴とする請求項１又は２に記載のリソグラフィ装置。
4. 前記処理部は、前記第３処理において、前記マークと前記テンプレートとの間の相関度が閾値を超え、かつ前記第２処理で得られた前記マークの位置からの前記第１処理で得られる前記マークの位置のずれが許容範囲内に収まるように、前記変更を行うことを特徴とする請求項３に記載のリソグラフィ装置。
5. 前記処理部は、前記パターンの形成に要する時間に基づいて前記第３処理を打ち切ることを特徴とする請求項４に記載のリソグラフィ装置。
6. 前記処理部は、前記第３処理を打ち切るまでに、前記相関度が前記閾値を超えない場合、または前記ずれが前記許容範囲内に収まらない場合は、前記第１処理に関してエラーを示す情報を出力することを特徴とする請求項５に記載のリソグラフィ装置。
7. 前記処理部は、前記第３処理において、前記テンプレートを構成する特徴点の数を変更することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
8. 前記第２テンプレートマッチングは、互いに異なる複数のテンプレートマッチングを含み、前記第２処理は、前記マークの位置として、前記複数のテンプレートマッチングによりそれぞれ得られた複数の前記マークの位置の平均を得ることを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置。
9. 前記処理部は、前記第２処理において、前記複数のテンプレートマッチングによりそれぞれ得られた複数の前記マークの位置のばらつきが許容範囲内に収まらない場合は、前記第２処理に関してエラーを示す情報を出力することを特徴とする請求項８に記載のリソグラフィ装置。
10. 請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板に形成されたマークの位置に基づいて前記基板を保持するステージを移動して、前記ステージに保持された前記基板にパターンを形成する工程と、
    前記パターンが形成された前記基板の加工を行う工程と、
    を有し、
    前記加工が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。