JP7353916B2 - 計測装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法 - Google Patents
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Description
図4のS402で、撮像素子191Aにて生成された画像信号によりプリアライメントマークの位置計測が実行できなかった場合には、撮像素子191Bの画像信号に対してフィルタ処理を施して、画像信号の精度向上を図ることができる。フィルタ処理は種々のフィルタを適用することが可能であり、例えば、移動平均フィルタ、ガウシアンフィルタ、メディアンフィルタ、ソーベルフィルタ等を適用することができる。
次に、前述の露光装置を利用した物品(半導体IC素子、液晶表示素子、カラーフィルタ、MEMS等)の製造方法を説明する。物品は、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板(ウエハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板(感光剤)を現像する工程と、現像された基板を他の周知の加工工程で処理することにより製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。本製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。
191B、192B 第2の検出部
130 処理部
210 基板
211 マーク
Claims (13)
- 基板上のマークの位置を計測する計測装置であって、
前記マークを検出するための検出信号を第1の範囲で生成する第1の検出部と、
前記マークを検出するための検出信号を、前記第1の範囲よりも広い第2の範囲で生成する第2の検出部と、
前記第1の検出部及び前記第2の検出部の少なくとも一方で生成された前記検出信号に基づいて前記マークの計測処理を行う処理部と、
を有し、
前記処理部は、前記第1の検出部からの検出信号によって前記マークが検出されたことに応じて、前記第2の検出部による前記マークの計測処理を中止することを特徴とする計測装置。 - 前記第1の検出部及び前記第2の検出部はそれぞれ、前記マークを撮像する撮像素子を有することを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記マークの計測処理のためにパターンマッチング処理又はエッジ検出処理を行うことを特徴とする請求項1または2に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記第1の検出部からの検出信号によって前記マークが計測されない場合には、前記第2の検出部からの検出信号によって前記マークを計測することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の計測装置。
- 前記処理部は、前記第2の検出部からの検出信号に対してフィルタ処理を実施し、当該フィルタ処理が実施された前記検出信号から前記マークを計測することを特徴とする請求項4に記載の計測装置。
- 前記フィルタ処理は、移動平均フィルタ、ガウシアンフィルタ、メディアンフィルタ、ソーベルフィルタの少なくとも1つのフィルタを用いた処理であることを特徴とする請求項5に記載の計測装置。
- 前記第1の検出部は、第1の倍率の結像光学系を含み、
前記第2の検出部は、前記第1の倍率よりも低い第2の倍率の結像光学系を含むことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の計測装置。 - 前記第1の検出部における検出光の光路の一部と、前記第2の検出部における検出光の光路の一部は共通であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の計測装置。
- 基板上にパターン形成を行うリソグラフィ装置であって、
前記基板を保持する保持部と、
前記基板上のマークを計測する請求項1乃至8のいずれか1項に記載の計測装置と、
前記計測装置で計測された前記マークの位置に基づいて、前記保持部の位置を制御する制御部と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記制御部は、前記マークの位置に基づいて、前記保持部に対する前記基板の位置ずれを補正するプリアライメントを行うことを特徴とする請求項9に記載のリソグラフィ装置。
- 前記制御部は、前記プリアライメントの後に、前記保持部に対する前記基板の位置ずれを、前記プリアライメントよりも高精度に補正するファインアライメントを行うことを特徴とする請求項10に記載のリソグラフィ装置。
- 前記第1の検出部による前記マークの検出精度は、前記第2の検出部による前記マークの検出精度よりも高く、
前記制御部は、前記第1の検出部によって計測されたマークの位置に基づいて、前記ファインアライメントを行うことを特徴とする請求項11に記載のリソグラフィ装置。 - 請求項9乃至12のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターン形成を基板に行う工程と、
前記工程で前記パターン形成を行われた前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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