WO2016012425A3 - Abbildende optik für ein metrologiesystem zur untersuchung einer lithographiemaske - Google Patents

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Abstract

Eine abbildende Optik (40) dient innerhalb eines Metrologiesystems zur Untersuchung einer Lithographiemaske. Die Lithographiemaske ist in einem Objektfeld (3) der abbildenden Optik anordenbar. Das Objektfeld (3) ist durch zwei aufeinander senkrecht stehende Objektfeld-Koordinaten (x, y) aufgespannt. Die abbildende Optik (40) hat eine Aperturblende (42), deren Aspektverhältnis in Richtung der beiden Objektfeld-Koordinaten sich von 1 unterscheidet. Es resultiert eine abbildende Optik, die für die Untersuchung von Lithographiemasken, die für die Projektionsbelichtung mit anamorphotischer Projektionsoptik ausgelegt sind, genutzt werden kann.
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