JP2014140058A5 - - Google Patents
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Claims (24)
- ウエハーをパターンニングするための方法であって、
前記ウエハー上で測定を実施すること、
前記測定の結果に基づき前記ウエハーの変形をモデル化すること、
前記ウエハーの変形に基づきパターンニング・ツールの一つまたは複数のパラメタを変更すること、
前記変更後、第一のパターン化されたウエハーを製造するために、前記パターンニング・ツールを用いて前記ウエハーをパターンニングすること、
前記第一のパターン化されたウエハー上で更なる測定を実施すること、
前記更なる測定の結果に基づき前記パターンニング・ツールの一つまたは複数のパラメタを変更すること、
前記更なる測定の結果に基づき前記パターンニング・ツールの一つまたは複数のパラメタを変更した後、第二のパターン化されたウエハーを製造するために、前記パターンニング・ツールを用いて第二のウエハーをパターンニングすること、
を備える、方法。 - 前記測定の実施は、前記ウエハー上の全ての測定箇所で測定を行うことを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記測定の結果は、応力計測データを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記測定結果は、形状計測データを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記測定結果は、オーバーレイ計測データを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記モデル化は、前記ウエハーが前記パターンニング・ツールのステージ上に配置された際の前記ウエハーの変形を見積もることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記モデル化は、前記ウエハー上の設計パターンの前記パターンニング上の変形の効果をシミュレートすることを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記更なる測定の結果は、オーバーレイ計測データを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記更なる測定の結果は、焦点計測データを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記更なる測定の結果は、ドーズ計測データを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第一と第二のパターン化されたウエハーは、同じロット内にある、請求項1に記載の方法。
- 前記第一と第二のパターン化されたウエハーは、異なるロット内にある、請求項1に記載の方法。
- ウエハーをパターンニングするために作動可能なシステムであって、
前記ウエハー上で測定を実施するように作動可能な測定ツールと、
前記測定の結果に基づき前記ウエハーの変形をモデル化し、
前記ウエハーの変形に基づきパターンニング・プロセスの一つまたは複数のパラメタを変更する、
ように作動可能な一つまたは複数のプロセッサと、
第一のパターン化されたウエハーを製造するために前記パターンニング・プロセスの前記一つまたは複数のパラメタが変更された後に、前記パターンニング・プロセスを用いて前記ウエハーをパターンニングするように作動可能なパターンニング・ツールと、を備え、
前記測定ツールはさらに、前記第一のパターン化されたウエハー上で更なる測定を実施するように作動可能であり、
前記一つまたは複数のプロセッサはさらに、前記更なる測定の結果に基づき前記パターンニング・ツールの一つまたは複数のパラメタを変更するように作動可能であり、
前記パターンニング・ツールはさらに、前記更なる測定の結果に基づき前記パターンニング・ツールの一つまたは複数のパラメタを変更した後、第二のパターン化されたウエハーを製造するために、第二のウエハーをパターンニングするように作動可能である、
システム。 - 前記測定の実施は、前記ウエハー上の全ての測定箇所で測定を行うことを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記測定の結果は、応力計測データを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記測定結果は、形状計測データを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記測定結果は、オーバーレイ計測データを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記モデル化は、前記ウエハーが前記パターンニング・ツールのステージ上に配置された際の前記ウエハーの変形を見積もることを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記モデル化は、前記ウエハー上の設計パターンの前記パターンニング上の変形の効果をシミュレートすることを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記更なる測定の結果は、オーバーレイ計測データを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記更なる測定の結果は、焦点計測データを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記更なる測定の結果は、ドーズ計測データを含む、請求項13に記載のシステム。
- 前記第一と第二のパターン化されたウエハーは、同じロット内にある、請求項13に記載のシステム。
- 前記第一と第二のパターン化されたウエハーは、異なるロット内にある、請求項13に記載のシステム。
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