JP2012089575A5 - リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents

リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 Download PDF

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本発明は、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法に関する。
本発明は、基板上の樹脂に原版のパターン転写するリソグラフィ装置であって、複数の第1マークが形成された前記原版を保持する保持体と、第2マークが形成された基準板を保持するステージと、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系と、を備え、前記第2マークは、前記保持体により保持された前記原版における前記複数の第1マーク及び転写されるべき前記原版のパターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、前記検出系は、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置並行して検出する、ことを特徴とする。

Claims (7)

  1. 基板上の樹脂に原版のパターン転写するリソグラフィ装置であって、
    複数の第1マークが形成された前記原版を保持する保持体と、
    第2マークが形成された基準板を保持するステージと、
    前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系と、
    を備え、
    前記第2マークは、前記保持体により保持された前記原版における前記複数の第1マーク及び転写されるべき前記原版のパターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、
    前記検出系は、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置並行して検出する、
    ことを特徴とするリソグラフィ装置。
  2. 前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含み、
    前記複数の第1マークは、前記第1方向に周期を有する格子パターンと前記第2方向に周期を有する格子パターンとを含み、
    前記第2マークの前記第1方向の周期と前記第2方向の周期とは同一である、
    ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
  3. 前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含み、
    前記複数の第1マークは、前記第1方向に周期を有する格子パターンと前記第2方向に周期を有する格子パターンとを含み、
    前記第2マークの前記第1方向の周期と前記第2方向の周期とは互いに異なる、
    ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。
  4. 前記複数の第1マーク及び前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
  5. 前記検出系は、前記複数の第1マークにそれぞれ対応する複数の検出器を含み、各検出器は、当該検出器から出射されて対応する第1マークを透過し、前記第2マークで反射され、前記対応する第1マークを再度透過した光を検出するように配置されている、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
  6. 前記基準板には、前記原版を前記基準板に対して位置決めするための前記第1領域より小さい第3マークがさらに形成されている、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
  7. 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
    前記工程で前記パタ−ンを形成された基板を加工する工程と、
    を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5637931B2 (ja) * 2011-05-17 2014-12-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法およびデバイス製造方法
JP2014110384A (ja) * 2012-12-04 2014-06-12 Canon Inc インプリント装置、インプリント方法およびデバイス製造方法
JP6120678B2 (ja) * 2013-05-27 2017-04-26 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置及びデバイス製造方法
JP5800977B2 (ja) * 2014-10-23 2015-10-28 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法およびデバイス製造方法
JP6039770B2 (ja) * 2015-08-27 2016-12-07 キヤノン株式会社 インプリント装置およびデバイス製造方法
JP6659149B2 (ja) * 2016-02-04 2020-03-04 キヤノン株式会社 検出装置、検出方法、リソグラフィ装置および物品の製造方法
JP6832170B2 (ja) * 2017-01-20 2021-02-24 旭化成株式会社 可撓性基板の歪量検出方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10294268A (ja) * 1997-04-16 1998-11-04 Nikon Corp 投影露光装置及び位置合わせ方法
JP3639231B2 (ja) * 2001-08-03 2005-04-20 住友重機械工業株式会社 位置合わせ装置及び位置合わせ方法
JP2005116978A (ja) * 2003-10-10 2005-04-28 Sumitomo Heavy Ind Ltd ナノインプリント装置及び方法
JP2005347332A (ja) * 2004-05-31 2005-12-15 Nikon Corp 位置計測装置、露光装置、デバイス製造方法
JP2006165371A (ja) * 2004-12-09 2006-06-22 Canon Inc 転写装置およびデバイス製造方法
JP2009088264A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Toshiba Corp 微細加工装置およびデバイス製造方法
NL2003347A (en) * 2008-09-11 2010-03-16 Asml Netherlands Bv Imprint lithography.

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