JP2012089575A5 - リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法 Download PDFInfo
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Description
本発明は、リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法に関する。
本発明は、基板上の樹脂に原版のパターンを転写するリソグラフィ装置であって、複数の第1マークが形成された前記原版を保持する保持体と、第2マークが形成された基準板を保持するステージと、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系と、を備え、前記第2マークは、前記保持体により保持された前記原版における前記複数の第1マーク及び転写されるべき前記原版のパターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、前記検出系は、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を並行して検出する、ことを特徴とする。
Claims (7)
- 基板上の樹脂に原版のパターンを転写するリソグラフィ装置であって、
複数の第1マークが形成された前記原版を保持する保持体と、
第2マークが形成された基準板を保持するステージと、
前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系と、
を備え、
前記第2マークは、前記保持体により保持された前記原版における前記複数の第1マーク及び転写されるべき前記原版のパターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、
前記検出系は、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を並行して検出する、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含み、
前記複数の第1マークは、前記第1方向に周期を有する格子パターンと前記第2方向に周期を有する格子パターンとを含み、
前記第2マークの前記第1方向の周期と前記第2方向の周期とは同一である、
ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含み、
前記複数の第1マークは、前記第1方向に周期を有する格子パターンと前記第2方向に周期を有する格子パターンとを含み、
前記第2マークの前記第1方向の周期と前記第2方向の周期とは互いに異なる、
ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の第1マーク及び前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記検出系は、前記複数の第1マークにそれぞれ対応する複数の検出器を含み、各検出器は、当該検出器から出射されて対応する第1マークを透過し、前記第2マークで反射され、前記対応する第1マークを再度透過した光を検出するように配置されている、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基準板には、前記原版を前記基準板に対して位置決めするための前記第1領域より小さい第3マークがさらに形成されている、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パタ−ンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
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