JP2012089575A - リソグラフィ装置及び物品の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の第1マークが形成された原版3を保持する保持体4と、第2マークが形成された基準板81を保持するステージ1と、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系5と、を備え、前記第2マークは、前記保持体4により保持された原版3における前記複数の第1マーク及び転写されるべき回路パターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を前記検出系5により並行して検出する。
【選択図】図1
Description
1/P3=(1/P1)−(1/P2)・・・(1)
マーク31と基準マーク81の相対位置ずれ量をΔXとした時、モアレ縞P3のシフト量は周期Paの位相差に比例する。また、マーク31のピッチP1と基準マーク81のピッチP2との関係を反対にしてやるとやはり同じピッチのモアレ縞が発生するが、シフトする方向が逆になる。異なる2セットのマークを同時に観察することによってモアレ縞の相対シフト量Sは、式2で与えられる。ただしPa=(P1+P2)/2である。
S=2・(ΔX/Pa)・P3・・・(2)
これらの式1、式2におけるピッチP1、P2を適当に選択することで、実際のテンプレート3のマーク31と基準マーク81の相対位置ずれ量を拡大して精度良く計測する事が可能となる。以上、基準マーク81を用いてテンプレート3のキャリブレーションを行うグローバルアライメント方式のインプリント装置を例に述べた。
実施形態1では、図4に示されるように、基準マーク81が1つ形成され、テンプレート3のマーク(第1マーク)31,31’及びスコープ5,5’がX、Y方向のずれを検出するためそれぞれ2個構成されている。基準マーク81は、X方向(第1方向)の周期とY方向(第2方向)の周期とが同一である千鳥格子状の繰り返しパターンでマークが形成されていている。またその大きさはインプリントする全領域をカバーしている。本実施形態では、基準マーク81は、例えば26x33mmのインプリント領域をカバーしている。基準マーク81の周期は、図5に示す様に、スコープ5がLittrow配置をとるように設計される。すなわち、スコープ5は、スコープ5から出射されてマーク31を透過し、基準マーク81で回折され反射され、マーク31を再度透過した光を検出する。図4で示す様に、基準マーク81の回折光は例えば±1次の2光束になっている。
実施形態2では、図6に示されるように、基準マーク81が1つ形成され、テンプレート3のマーク31,31’及びスコープ5,5’がX、Y方向のずれを検出するためそれぞれ2個構成されている。基準マーク81は、X方向(第1方向)の周期とY方向(第2方向)の周期とが互いに異なる千鳥格子状の繰り返しパターンでマークが形成されていている。またその大きさはインプリントする領域をカバーしている。基準マーク81の周期は、図5に示す様に、スコープ5,5’がそれぞれLittrow配置をとるように設計される。
実施形態3では、図7のように、基準マーク81が1つ形成され、テンプレート3のマーク31,31’及びスコープ5,5’がX、Y方向のずれを検出するためそれぞれ2個構成されている。基準マーク81は、XとY方向に等しい周期(ピッチ)の千鳥格子状の繰り返しパターンでマークが形成されていている。その大きさはインプリントする領域をカバーしている。実施形態3では、テンプレート3に形成される複数のマーク31,31’もXとY方向に周期(ピッチ)を持つ千鳥格子状のマークである。
基準マーク81を使ったテンプレート3のキャリブレーションについて、図10を用いて説明する。また基準マーク81および粗検出用基準マーク(第3マーク)101を構成した基準板8を図9に示す。粗検出用基準マーク(第3マーク)101は、テンプレート3を基準板8に対して位置決めするためのマークである。基準マーク81はテンプレート3のマーク群31を全て同時に計測できるだけの広い領域を有している。但し基準マーク81とマーク群31の中心位置をあらかじめある範囲の誤差内に押さえられていないと、ピッチ誤差が生じる。これは回折格子を使用する場合には常に生じる問題で、ピッチの半分よりも大きな位置誤差は判別がつかない。そのためキャリブレーション計測する前にあらかじめ基準マーク81とマーク群31の中心位置を半ピッチより小さく追い込んでおかなければならない。もしくはその補正量を装置側に返して、キャリブレーション時に反映させなければならない。
物品としてのデバイス(半導体集積回路素子、液晶表示素子等)の製造方法は、上述したリソグラフィ装置を用いて基板(ウエハ、ガラスプレート、フィルム状基板)にパターンを転写(形成)する工程を含む。さらに、該製造方法は、パターンを転写された基板をエッチングする工程を含みうる。なお、パターンドメディア(記録媒体)や光学素子などの他の物品を製造する場合には、該製造方法は、エッチングの代わりに、パターンを転写された基板を加工する他の処理を含みうる。
Claims (7)
- 基板上に塗布された感光性材料に照射系から原版を介して光を照射して前記原版のパターンを前記基板のショット領域に転写するリソグラフィ装置であって、
複数の第1マークが形成された原版を保持する保持体と、
第2マークが形成された基準板を保持するステージと、
前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を検出する検出系と、
を備え、
前記第2マークは、前記保持体により保持された原版における前記複数の第1マーク及び転写されるべき回路パターンが形成された第1領域以上の大きさを有する第2領域にわたって形成され、
前記第2マークに対する前記複数の第1マークそれぞれの位置を前記検出系により並行して検出する、
ことを特徴とするリソグラフィ装置。 - 前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含み、
前記複数の第1マークは、前記第1方向に整列されたラインアンドスペースのマークと前記第2方向に整列されたラインアンドスペースのマークとを含み、
前記第2マークの前記第1方向の周期と前記第2方向の周期とは同一である、
ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含み、
前記複数の第1マークは、前記第1方向に整列されたラインアンドスペースのマークと前記第2方向に整列されたラインアンドスペースのマークとを含み、
前記第2マークの前記第1方向の周期と前記第2方向の周期とは互いに異なる、
ことを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - 前記複数の第1マーク及び前記第2マークは、前記基準板の表面に平行でかつ互いに直交する第1軸及び第2軸にそれぞれ沿う第1方向及び第2方向の双方に周期を有する格子パターンを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記検出系は、前記複数の第1マークにそれぞれ対応する複数の検出器を含み、各検出器は、当該検出器から出射されて対応する第1マークを透過し、前記第2マークで反射され、前記対応する第1マークを再度透過した光を検出するように配置されている、ことを特徴とする請求項2に記載のリソグラフィ装置。
- 前記基準板には、前記原版を前記基準板に対して位置決めするための前記第1領域より小さい第3マークがさらに形成されている、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載のリソグラフィ装置を用いてパターンを基板に形成する工程と、
前記工程で前記パタ−ンを形成された基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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