JP2008171960A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 光軸を有し、該光軸に関して対称な２つの光束を基板に入射させる投光光学系と、
   受光部と、
   前記投光光学系から射出し該基板で反射した該２つの光束を前記受光部に導く受光光学系と、
   前記受光光学系から射出した該２つの光束が前記受光部に入射した位置をそれぞれ検出する検出部と、
   前記検出部によって検出された位置に基づいて該基板の面位置を計算する計算部と、
   を有し、
   前記投光光学系及び前記受光光学系の少なくとも一方は、該２つの光束に対して共通化されている
   ことを特徴とする位置検出装置。
2. 前記計算部は、該２つの光束それぞれの位置の間隔に基づいて該基板の面位置を計算する
   ことを特徴とする請求項１に記載の位置検出装置。
3. 前記投光光学系は、
   計測用のパターンが形成されたパターン板と、
   前記パターン板を透過する光束及び前記パターン板で反射する光束のいずれか一方に対して設けられていて、該２つの光束を通過させるフィルタと、
   を含む
   ことを特徴とする請求項１又は２に記載の位置検出装置。
4. 原版を介して基板を露光する露光装置であって、
   照明された該原版からの光を基板へ投影する投影光学系と、
   該基板を保持する基板ステージと、
   前記投影光学系の光軸の方向における、前記基板ステージに保持された該基板の面位置を検出する請求項１から３のいずれか１項に記載の位置検出装置と、
   を有することを特徴とする露光装置。
5. 前記位置検出装置は、該光軸に垂直な面内における、該基板に形成されたマークの位置をさらに検出する
   ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
6. 前記位置検出装置により検出された該基板の面位置に基づいて前記基板ステージを制御する制御部をさらに有する
   ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
7. 前記位置検出装置により検出された該マークの位置に基づいて前記基板ステージの位置を制御する制御部をさらに有する
   ことを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
8. 前記投影光学系は、反射光学素子を含み
   前記位置検出装置は、前記投影光学系の前記反射光学素子を介して該基板の面位置を検出する
   ことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
9. 前記投影光学系は、該原版により反射された極端紫外光を該基板に投影する
   ことを特徴とする請求項８に記載の露光装置。
10. 請求項４から９のいずれか１項に記載の露光装置を用いて基板を露光する露光工程と、
    前記露光工程において露光された基板を現像する現像工程と、
    を有することを特徴とするデバイスの製造方法。