JP2009257972A5 - - Google Patents

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  1. 被検物の表面に光を投光する投光器と、前記投光器によって前記表面に投光された光の前記表面における散乱光を受光する受光器と、前記受光器の出力に基づいて前記表面における異物の有無と大きさの少なくとも一方を判定する制御器とを備える異物検査装置であって、
    前記投光器は、当該投光器の光軸が前記表面に対して傾くように配置され、
    前記受光器は、当該受光器の光軸が前記投光器の光軸と前記表面の法線軸とを含む平面に対して第1角度だけ傾くように配置され、
    前記投光器から投光された投光光の偏光軸が前記平面に対してなす角度を第2角度とするとき、前記制御器は、前記第1角度と前記第2角度との差が互いに異なる第1状態及び第2状態となるように前記投光光の偏光軸と前記受光器の配置の少なくとも一方を制御し、当該第1状態における前記受光器の出力と当該第2状態における前記受光器の出力とに基づいて異物を判定することを特徴とする異物検査装置。
  2. 前記第1角度と前記第2角度との差は、前記第1状態及び前記第2状態においてともに−60°以上かつ+60°以下の範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の異物検査装置。
  3. 前記第1角度と前記第2角度との差は、前記第1状態及び前記第2状態のいずれかにおいて90°であることを特徴とする請求項1に記載の異物検査装置。
  4. 前記第2角度は、−40°以上かつ+40°以下の範囲内であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の異物検査装置。
  5. 前記制御器は、前記投光器と1つの前記受光器との位置関係を維持しながら前記投光器と前記受光器とを前記被検物の表面に沿って相対的に複数回走査移動させ、複数回の走査移動において前記第2角度が互いに異なるように前記投光光の偏光軸を制御して前記第1状態と前記第2状態とを設定することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の異物検査装置。
  6. 前記受光器は複数配置され、
    前記制御器は、前記投光器と前記複数の受光器との位置関係を維持しながら前記投光器と前記複数の受光器とを前記被検物の表面に沿って相対的に走査移動させ、前記複数の受光器によ出力を得ることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の異物検査装置。
  7. 前記制御器は、前記複数の受光器による出力に基づいて、当該複数の受光器による出力が前記被検物の表面に存在する異物に起因する出力か異物以外に起因する出力かを判定することを特徴とする請求項6に記載の異物検査装置。
  8. 前記制御器は、前記複数の受光器による出力の差、前記複数の受光器による出力の比、及び前記複数の受光器による出力のいずれかと出力の基準値との差のいずれかに基づいて、当該複数の受光器による出力が前記異物に起因する出力か異物以外に起因する出力かを判定することを特徴とする請求項7に記載の異物検査装置。
  9. レチクルのパターンを基板に転写して基板を露光する露光装置であって、
    前記レチクルの表面における異物を検査する請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の異物検査装置を備えることを特徴とする露光装置。
  10. 請求項9に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
    前記工程で露光された基板を現像する工程と、
    を含むデバイス製造方法。
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