JP2009170666A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 光学系の物体面に配置されたパターンを照明し、前記光学系の像面に形成された前記パターンに対応する光強度分布を計測する計測装置であって、
   前記光学系の像面に配置され、スリットが設けられた遮光部材と、前記スリットを透過した光を受光する複数の受光部とを含むセンサと、
   前記遮光部材を走査することによって前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて、前記遮光部材の回転を制御する制御部と
   を具備することを特徴とする計測装置。
2. 前記スリットの長さは、前記複数の受光部の中心間距離よりも長い
   ことを特徴とする請求項１記載の計測装置。
3. 前記複数の受光部は、２次元状に配列された画素アレイである
   ことを特徴とする請求項１又は２記載の計測装置。
4. 前記遮光部材は、
   前記光強度分布を計測するための計測スリットと、
   前記計測スリットと異なった角度で配置されたアライメントスリットと
   を有し、
   前記制御部は、
   前記アライメントスリットを用いて前記複数の受光部により信号の検出を行なわせ、前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて前記遮光部材の回転を制御した後、前記計測スリットを用いて前記光強度分布の計測を行なう
   ことを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載の計測装置。
5. 前記遮光部材は、
   前記光強度分布を計測するための計測スリットと、
   前記計測スリットよりも長手方向に長い形状を有するアライメントスリットと
   を有し、
   前記制御部は、
   前記アライメントスリットを用いて前記複数の受光部により信号の検出を行なわせ、前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて前記遮光部材の回転を制御した後、前記計測スリットを用いて前記光強度分布の計測を行なう
   ことを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載の計測装置。
6. 前記スリットを通した受光により得られたスリットスキャン信号を該スリットの透過特性を用いて補正する
   ことを特徴とする請求項１乃至５いずれか一項に記載の計測装置。
7. 光学系の物体面に配置されたパターンを照明し、前記光学系の像面に形成された前記パターンに対応する光強度分布を計測する光強度分布計測方法であって、
   前記光学系の像面に配置され、スリットが設けられた遮光部材と、前記スリットを透過した光を受光する複数の受光部とを含むセンサを用いて前記スリットを透過した光を受光する受光工程と、
   前記遮光部材を走査することによって前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて、前記遮光部材の回転を制御する制御工程と
   を含むことを特徴とする光強度分布計測方法。
8. 光学系の物体面に配置された原版のパターンを該光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
   前記光学系の物体面に配置されたパターンを照明する照明光学系と、
   前記光学系の像面に該パターンに対応する光強度分布を形成する投影光学系と、
   前記照明光学系による照明により前記像面に配置された遮光部材のスリットを通して前記光強度分布を計測する計測部と
   を具備し、
   前記計測部は、
   前記スリットを透過した光を受光する複数の受光部を含むセンサと、
   前記遮光部材を走査することによって前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて、前記遮光部材の回転を制御する制御部と
   を具備することを特徴とする露光装置。