JP6321386B2 - 露光装置および露光方法 - Google Patents
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Description
板W全体にパターンが形成される。
22 DMD(光変調素子アレイ)
27 位置算出部
28 位置検出部(測光部)
30 コントローラ(露光制御部)
40 遮光部
PD フォトセンサ
Claims (9)
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを、被描画体に対し主走査方向に沿って相対移動させる走査部と、
前記露光エリアの相対位置に応じて前記複数の光変調素子を制御し、パターン光を前記被描画体に投影させる露光制御部と、
前記被描画体の描画面に沿って複数のスリットを形成した遮光部と、
前記遮光部の下方に配置され、前記複数のスリットを透過する光を受光可能なサイズの受光部を有する測光部と、
前記測光部の出力から露光位置を算出する位置算出部とを備え、
前記複数のスリットが、副走査方向に沿って形成されたスリットを主走査方向に複数並べたスリットであって、
前記露光制御部が、前記遮光部を前記露光エリアが相対移動する間、前記スリットの主走査方向幅よりも広い主走査方向幅を有する位置検出パターンの光を投影させ、
前記位置算出部が、前記測光部の時系列出力に従う連続的光量分布から、露光位置を算出することを特徴とする露光装置。 - 前記連続的光量分布が、パターン光の空間的光量分布に対応していることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記位置検出パターンが、副走査方向に沿ったバー状のパターンを有することを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の露光装置。
- 前記スリットの主走査方向に沿った幅が、バー状パターンの主走査方向に沿った幅に対して0.1〜0.5倍であることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記位置検出パターンが、副走査方向に沿ったバー状のパターンを主走査方向に沿って等間隔で並べたパターン列であることを特徴とする請求項3または4に記載の露光装置。
- 前記露光制御部が、主走査方向に沿って並ぶ複数の位置検出パターンの光を投影させ、
前記複数のスリットの間隔が、複数の位置検出パターンの間隔よりも広いことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを、被描画体に対し主走査方向に沿って相対移動させる走査部と、
前記露光エリアの相対位置に応じて前記複数の光変調素子を制御し、パターン光を前記被描画体に投影させる露光制御部と、
前記被描画体の描画面に沿って少なくとも1つのスリットを形成した遮光部と、
前記スリットを透過する光を受光する測光部と、
前記測光部の出力から露光位置を算出する位置算出部とを備え、
前記露光制御部が、前記遮光部を前記露光エリアが相対移動する間、前記スリットの主走査方向幅よりも広い主走査方向幅を有する位置検出パターンの光を投影させ、
前記位置算出部が、前記測光部の時系列出力に従う連続的光量分布から、露光位置を算出し、
前記測光部が、主走査方向に沿って分割された第1、第2の測光領域を有し、そして、前記第1、第2の測光領域ごとに光量を検知し、
前記露光制御部が、露光エリア内で互いに異なる第1の位置検出パターンの光、第2の位置検出パターンの光を、前記第1の測光領域、前記第2の測光領域に対しそれぞれ投影させることを特徴とする露光装置。 - 前記露光制御部が、副走査方向に沿ったバー状パターンを前記第1の位置検出パターンとして投影させ、主走査方向に対し傾斜したバー状パターンを前記第2の位置検出パターンとして投影させることを特徴とする請求項7に記載の露光装置。
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイによる露光エリアを、被描画体に対し主走査方向に沿って相対移動させ、
前記露光エリアの相対位置に応じて前記複数の光変調素子を制御し、パターン光を前記被描画体に投影させ、
前記被描画体の描画面に沿って複数のスリットを形成した遮光部の下方に配置され、前記複数のスリットを透過する光を受光可能なサイズの受光部を有する測光部の出力から露光位置を算出する露光方法であって、
前記複数のスリットが、副走査方向に沿って形成されたスリットを主走査方向に複数並べたスリットであって、
前記遮光部を前記露光エリアが相対移動する間、前記スリットの主走査方向幅よりも広い主走査方向幅を有する位置検出パターンの光を投影し、
前記測光部の時系列出力に従う連続的光量分布から、露光位置を算出することを特徴とする露光方法。
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