JP5039578B2 - 計測装置及び光強度分布計測方法、露光装置 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 46
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 38
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 5
- 238000003491 array Methods 0.000 claims 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70653—Metrology techniques
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Description
W. N. Partlo, C. H. Fields and W. G. Oldham,"Direct aerial image measurement as a method of testing high numerical aperture microlihographic lenses", J. Vac. Sci. Technol. B, Vol. 11, pp. 2686−2691
θc=arcsin(2HP/SL)
とあらわすことができる。ここでSLはスリットの長手方向の長さで、HP(ハーフピッチ)は空中像の光強度分布変動の半周期である。スリットとL/Sパターンのなす角度がθcより小さければ、スリットに入射される光量は、スリットをスキャンすることで変調できる。この関数をHPとSLについてプロットしたものが図13であり、縦軸はθcである。図13から分かるように、スリット長SLが50um程度の場合、HPが200nmのときθcは14mrad程度となるが、HPが45nmのときθcが2mrad程度となり、大幅に小さくなる。HPが小さくなるとθcが小さくなる。すなわち、位置ずれの許容度が小さくなり、高い変調度のスリットスキャン信号を得るためには、少なくともθcより位置ズレ角θを小さくするような高いアライメント精度が要求される。
Ws≦λ
とする必要がある。ここで、λは光源の波長である。
更に、図2に示すスリット54の長手方向の長さは、
Ls≧10×λ
とする。このようにスリット長を波長に比較して大きくすることで、スリット54から透過した光は、スリット短手方向よりスリット長手方向の方が回折の効果が少なくなる。よって、スリット54からの光の広がり角は、スリット長手方向の方が狭くなる。本実施形態においては、スリット54をスキャンしながら、スリット54から広がった光を複数の受光部(少なくとも2つの受光部)で光電変換し、複数の受光部からの当該光電変換に基づく信号の位相差を用いて、スリット54と空中像の相対位置を調整する。
θ=arctan(Δp/PP)
で求めることができる。ある程度の範囲まで粗調整を行っておけば、Δpを、S1を基準としたS2の遅れとして算出し、θの極性も算出することが可能となる。このようにして両受光部からの信号の位相差(Δp)と両受光部が配置される位置関係(両受光部間の距離PP)とに基づき算出されたアライメント誤差量(θ)をアライメント信号としてステージ60を移動させる。なお、距離(PP)は、例えば、不図示のメモリ等に予め記憶させておく等すればよい。このようにしてスリットをアライメント調整した後、再びスリットスキャン計測を行った結果を図7に示す。図7では、信号S1と信号S2とがほぼ同位相となっている。すなわち、スリットと空中像の縞とが平行に配置されていることが分かる。この状態では、高い変調度のスリットスキャン計測信号を得ることができ、また、スリットの位置ずれによる計測信号のコントラスト低下を最小限に抑えることができる。この構成により、高速かつ高精度な空中像計測が可能となる。そして、マスクからの回折光を像面に結像する光学系の結像特性などを評価することができる。
20 マスク
30 投影光学系
40 空中像
50 センサ
51 遮光膜
52 透明基板
53 受光部
531 第1の受光部
532 第2の受光部
54 スリット
541 第2のスリット
542 第3のスリット
60 ステージ
70 制御部
80 駆動部
100 露光装置
Claims (8)
- 光学系の物体面に配置されたパターンを照明し、前記光学系の像面に形成された前記パターンに対応する光強度分布を計測する計測装置であって、
前記光学系の像面に配置され、スリットが設けられた遮光部材と、前記スリットを透過した光を受光する複数の受光部とを含むセンサと、
前記遮光部材を走査することによって前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて、前記遮光部材の回転を制御する制御部と
を具備することを特徴とする計測装置。 - 前記スリットの長さは、前記複数の受光部の中心間距離よりも長い
ことを特徴とする請求項1記載の計測装置。 - 前記複数の受光部は、2次元状に配列された画素アレイである
ことを特徴とする請求項1又は2記載の計測装置。 - 前記遮光部材は、
前記光強度分布を計測するための計測スリットと、
前記計測スリットと異なった角度で配置されたアライメントスリットと
を有し、
前記制御部は、
前記アライメントスリットを用いて前記複数の受光部により信号の検出を行なわせ、前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて前記遮光部材の回転を制御した後、前記計測スリットを用いて前記光強度分布の計測を行なう
ことを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の計測装置。 - 前記遮光部材は、
前記光強度分布を計測するための計測スリットと、
前記計測スリットよりも長手方向に長い形状を有するアライメントスリットと
を有し、
前記制御部は、
前記アライメントスリットを用いて前記複数の受光部により信号の検出を行なわせ、前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて前記遮光部材の回転を制御した後、前記計測スリットを用いて前記光強度分布の計測を行なう
ことを特徴とする請求項1乃至3いずれか一項に記載の計測装置。 - 前記スリットを通した受光により得られたスリットスキャン信号を該スリットの透過特性を用いて補正する
ことを特徴とする請求項1乃至5いずれか一項に記載の計測装置。 - 光学系の物体面に配置されたパターンを照明し、前記光学系の像面に形成された前記パターンに対応する光強度分布を計測する光強度分布計測方法であって、
前記光学系の像面に配置され、スリットが設けられた遮光部材と、前記スリットを透過した光を受光する複数の受光部とを含むセンサを用いて前記スリットを透過した光を受光する受光工程と、
前記遮光部材を走査することによって前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて、前記遮光部材の回転を制御する制御工程と
を含むことを特徴とする光強度分布計測方法。 - 光学系の物体面に配置された原版のパターンを該光学系によって基板に投影し該基板を露光する露光装置であって、
前記光学系の物体面に配置されたパターンを照明する照明光学系と、
前記光学系の像面に該パターンに対応する光強度分布を形成する投影光学系と、
前記照明光学系による照明により前記像面に配置された遮光部材のスリットを通して前記光強度分布を計測する計測部と
を具備し、
前記計測部は、
前記スリットを透過した光を受光する複数の受光部を含むセンサと、
前記遮光部材を走査することによって前記複数の受光部で検出された信号の位相差と前記複数の受光部の位置関係とに基づいて、前記遮光部材の回転を制御する制御部と
を具備することを特徴とする露光装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008007205A JP5039578B2 (ja) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | 計測装置及び光強度分布計測方法、露光装置 |
US12/353,541 US8223313B2 (en) | 2008-01-16 | 2009-01-14 | Light intensity distribution measurement apparatus and measurement method, and exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008007205A JP5039578B2 (ja) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | 計測装置及び光強度分布計測方法、露光装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009170666A JP2009170666A (ja) | 2009-07-30 |
JP2009170666A5 JP2009170666A5 (ja) | 2011-02-03 |
JP5039578B2 true JP5039578B2 (ja) | 2012-10-03 |
Family
ID=40850355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008007205A Expired - Fee Related JP5039578B2 (ja) | 2008-01-16 | 2008-01-16 | 計測装置及び光強度分布計測方法、露光装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8223313B2 (ja) |
JP (1) | JP5039578B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006125600A1 (en) | 2005-05-27 | 2006-11-30 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical scattering disk, use thereof, and wavefront measuring apparatus |
JP5111225B2 (ja) * | 2008-05-01 | 2013-01-09 | キヤノン株式会社 | 計測装置、計測方法、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP6321386B2 (ja) * | 2014-01-29 | 2018-05-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4136067B2 (ja) * | 1997-05-02 | 2008-08-20 | キヤノン株式会社 | 検出装置及びそれを用いた露光装置 |
JP2000097666A (ja) * | 1998-09-22 | 2000-04-07 | Nikon Corp | 面形状計測用干渉計、波面収差測定機、前記干渉計及び前記波面収差測定機を用いた投影光学系の製造方法、及び前記干渉計の校正方法 |
JP2003197510A (ja) * | 2001-12-27 | 2003-07-11 | Nikon Corp | 収差測定装置、収差測定方法、光学系、および、露光装置 |
JP2004241744A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-26 | Nikon Corp | 面位置検出装置、露光装置及び露光方法 |
JP2006080444A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Canon Inc | 測定装置、テストレチクル、露光装置及びデバイス製造方法 |
JP2006339448A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Canon Inc | 受光ユニットを有する露光装置 |
JP2007066926A (ja) * | 2005-08-29 | 2007-03-15 | Canon Inc | 計測方法及び装置、露光装置、並びに、デバイス製造方法 |
JP4798353B2 (ja) * | 2005-12-27 | 2011-10-19 | 株式会社ニコン | 光学特性計測方法及びパターン誤差計測方法 |
JP2007329384A (ja) * | 2006-06-09 | 2007-12-20 | Nikon Corp | 面位置検出装置、露光装置及びデバイスの製造方法 |
JP2008021830A (ja) * | 2006-07-13 | 2008-01-31 | Nikon Corp | 計測方法及び装置、並びに露光方法及び装置 |
JP2008294019A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Canon Inc | 空中像計測方法および装置 |
WO2008153023A1 (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Nikon Corporation | 計測部材、センサ、計測方法、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
-
2008
- 2008-01-16 JP JP2008007205A patent/JP5039578B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2009
- 2009-01-14 US US12/353,541 patent/US8223313B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2009170666A (ja) | 2009-07-30 |
US8223313B2 (en) | 2012-07-17 |
US20090180094A1 (en) | 2009-07-16 |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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