JP6486167B2 - 露光装置、露光装置用測光装置、および露光方法 - Google Patents
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Description
Lytanθ<PP
ただし、LyはL/Sパターンの副走査方向に沿った長さを表し、θは傾き角度を表し、PPはL/Sパターンのピッチを表す。
22 DMD(光変調素子アレイ)
27 演算部(光量検出部)
28 光検出部(測光部)
30 コントローラ(露光制御部、光量検出部、報知部)
40 遮光部
SL スリット(測光領域)
PD フォトセンサ
PT パターン(L/Sパターン)
Claims (11)
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを、被描画体に対し主走査方向に沿って相対移動させる走査部と、
前記複数の光変調素子を制御し、主走査方向に沿って並ぶライン&スペース(L/S)パターンの光を前記被描画体に投影する露光制御部と、
L/Sパターンのライン方向に対して傾斜する細長の測光領域を通る光を受光する測光部と、
L/Sパターンが前記測光領域を相対移動するときの前記測光部からの出力に基づいて、露光エリアの光量分布を検出する光量検出部とを備え、
L/Sパターンの各ライン状パターンの光量が順に計測されるように、L/Sパターンのピッチが定められていることを特徴とする露光装置。 - 前記測光領域のライン方向に対する傾き角度が、以下の式を満たすことを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
Lytanθ<PP
ただし、LyはL/Sパターンの副走査方向に沿った長さを表し、θは傾き角度を表し、PPはL/Sパターンのピッチを表す。 - 前記測光領域のライン方向に対する傾き角度が、以下の式を満たすことを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の露光装置。
θ≦37°
ただし、θは前記測光領域の傾き角度を表す。 - 前記測光領域のライン方向に対する傾き角度が、以下の式を満たすことを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
1.2°<θ<2.8°
ただし、θは前記測光領域の傾き角度を表す。 - 前記測光部が、前記測光領域に応じたサイズを有するスリットを形成した遮光部を有することを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の露光装置。
- 前記光量検出部が、光量分布に基づいて、露光エリアにおける光量比が所定の閾値以下であるか否かを判断することを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の露光装置。
- 前記光量検出部が、光量が閾値以下である場合、その旨を報知する報知部を有することを特徴とする請求項6に記載の露光装置。
- 前記光量検出部が、露光エリアの光量分布グラフを作成することを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の露光装置。
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイによる露光エリアを、被描画体に対し主走査方向に沿って相対移動させ、
前記複数の光変調素子を制御し、前記主走査方向に沿って並ぶライン&スペース(L/S)パターンの光を前記被描画体に投影し、
前記L/Sパターンのライン方向に対して傾斜する細長の測光領域を通る光を受光し、
L/Sパターンが前記測光領域を相対移動するときの前記測光部からの出力に基づいて、露光エリアの光量分布を検出する露光方法であって、
L/Sパターンの各ライン状パターンの光量が順番に計測されるように、L/Sパターンのピッチが定められていることを特徴とする露光方法。 - 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイを備えた露光装置の被描画体が搭載されるステージに設けられ、前記ステージに対して規定される副走査方向に対して傾斜するスリットを有する遮光部と、
前記スリットを通る光を受光する測光部とを備え、
前記スリットの副走査方向に対する傾斜角度が、以下の式を満たすことを特徴とする露光装置用測光装置。
θ≦37°
ただし、θは傾斜角度を表す。 - 請求項10に記載された前記露光装置用測光装置の出力に基づいて光量分布を検出する露光装置であって、
複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを、被描画体に対し主走査方向に沿って相対移動させる走査部と、
前記複数の光変調素子を制御し、主走査方向に沿って並び、各ライン状パターンの光量が順番に計測されるようにピッチが定められているライン&スペース(L/S)パターンの光を被描画体に投影する露光制御部と、
請求項10に記載された露光装置用測光装置の測光部からの出力に基づいて、露光エリアの光量分布を検出する光量検出部と
を備えたことを特徴とする露光装置。
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