JP5801737B2 - 検査装置、露光装置及び検査方法 - Google Patents
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Description
第8の態様は、光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される帯状の第2の光を検査する検査方法であって、受光素子が、前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する工程と、前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる工程と、を備え、前記受光素子は、前記短幅方向のみならず、前記長手方向における光量分布も測定する単数の二次元受光素子で構成されており、前記二次元受光素子が前記長手方向に沿って斜めに配設されることにより、前記二次元受光素子を構成する各要素が前記長手方向に沿って前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする。
図1には、本発明の第1の実施の形態に係るパターン描画装置1の側面図が示されており、図2には、パターン描画装置1の平面図が示されている。パターン描画装置1は、液晶表示装置用のガラス基板W(以下、単に「基板W」という。)上の感光材料に光を照射してパターンを描画する装置である。
上記第1の実施形態では、二つの受光素子が用いられ、それぞれが異なる光学的距離に配置されることによって、光学的距離の異なる2つの二次元光量分布が得られる形態であったが、このような形態には限られない。
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
2 保持部移動機構
43 UV光源
46 空間光変調器
51 検出部
52 検出部移動機構
516,519 一次元CCD素子
519b 二次元CCD素子
W 基板
Claims (8)
- 光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される断面が帯状の第2の光を検査する検査装置であって、
前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する受光素子と、
前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる移動機構と、
を備え、
前記受光素子は前記第2の光の長手方向に沿って複数設置されており、
複数の前記受光素子各々が前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする検査装置。 - 請求項1に記載の検査装置であって、
複数の前記受光素子のそれぞれは、前記短幅方向における光量分布を測定する同種の一次元光検出素子で構成されていることを特徴とする検査装置。 - 光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される断面が帯状の第2の光を検査する検査装置であって、
前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する受光素子と、
前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる移動機構と、
を備え、
前記受光素子は、前記短幅方向のみならず、前記長手方向における光量分布も測定する単数の二次元受光素子で構成されており、
前記二次元受光素子が前記長手方向に沿って斜めに配設されることにより、前記二次元受光素子を構成する各要素が前記長手方向に沿って前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする検査装置。 - 請求項1ないし3のいずれか一つに記載の検査装置であって、
複数の前記光学的距離のうちの一つは、前記描画対象物に照射される前記第2の光の焦点距離の基準値と一致させていることを特徴とする検査装置。 - 請求項1ないし4のいずれか一つに記載の検査装置であって、
前記第2の光が透過するレンズと、
前記レンズを透過した前記第2の光の進行方向を変更するミラーと、をさらに備え、
前記ミラーで進行方向を変更された前記第2の光が前記受光素子に入射することを特徴とする検査装置。 - 光源からの第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、
前記変調用空間に配置され、前記第1の光を変調する空間光変調素子と、
前記第2の光を描画対象物の表面に導く第2光路系と、
前記描画対象物を保持する基板保持部と、
前記第2の光と前記描画対象物とを、前記第2の光の短幅方向に沿う方向に相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動部と、
請求項1ないし5のいずれか一つに記載の検査装置と、
を備える露光装置。 - 光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される断面が帯状の第2の光を検査する検査方法であって、
受光素子が、前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する工程と、
前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる工程と、
を備え、
前記受光素子は前記第2の光の長手方向に沿って複数設置されており、
複数の前記受光素子各々が前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする検査方法。 - 光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される断面が帯状の第2の光を検査する検査方法であって、
受光素子が、前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する工程と、
前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる工程と、
を備え、
前記受光素子は、前記短幅方向のみならず、前記長手方向における光量分布も測定する単数の二次元受光素子で構成されており、
前記二次元受光素子が前記長手方向に沿って斜めに配設されることにより、前記二次元受光素子を構成する各要素が前記長手方向に沿って前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする検査方法。
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JP2012059962A JP5801737B2 (ja) | 2012-03-16 | 2012-03-16 | 検査装置、露光装置及び検査方法 |
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