JP2013197148A - 検査装置、露光装置及び検査方法 - Google Patents

検査装置、露光装置及び検査方法 Download PDF

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Abstract

【課題】露光光の光量分布のバラツキを比較的早く、正確に抑えられる技術を提供する。
【解決手段】検出部51は基板への描画に使用される帯状の光を検査する。この検出部51は、少なくとも光の短幅方向における一次元光量分布を測定する一次元CCD素子519と、一次元CCD素子519を光の長手方向に沿って、空間光変調器に対して相対的に移動させる検出部移動機構と、を備える。
【選択図】図5

Description

本発明は、半導体基板、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、光ディスク用基板、太陽電池用パネルなどの各種基板(以下、単に「基板」と称する)に対して光を照射することで、パターンを基板表面に直接露光する技術に関する。特に、多チャンネルの光学変調素子を使用して露光する技術に関する。
基板上に塗布された感光材料に回路などのパターンを形成するにあたって、光源とフォトマスクとを用いて当該感光材料を面状に露光する露光装置が周知である。これに対して、近年では、フォトマスクを用いず、CADデータ等に基づいて、変調した光ビームによって基板上の感光材料を走査することにより、当該感光材料に直接パターンを描画する描画装置(直接描画装置)が注目されている。
直接描画装置は、感光材料への光ビームを画素単位でオン/オフ変調するための光学変調素子を備える。反射型の光学変調素子では、光源から供給される光ビームを反射して基板上に与えるオン状態と、光ビームを基板の外部に向けて反射あるいは拡散させるオフ状態とを、描画パターンを表現した制御信号によって画素単位で切り換えることでパターンを描画する。
例えば、一次元の光学変調素子を使用した露光装置において、光学変調素子の各チャンネル間のばらつきや、元となる光量のばらつきにより、露光面における光量分布がばらつく場合がある。
これを抑えるため、積算時間を調整するなどの処理が行われていたが、このような光量分布は焦点位置に応じて変化しやすいという問題があった。特許文献1には、傾いて設置された撮像素子に対して特定のパターンが設定され、そのコントラストなどから最適な焦点位置を算出する方法が提案されている。
また、その他の技術として、露光面に対する焦点位置の変化を、オートフォーカス機構を用いることにより少なくし、かつ補正パラメータを設定することにより光量分布のばらつきを抑える技術が知られている。この場合、補正パラメータを得るために、光量分布を取得する位置で所定の検査装置の走査を停止させた状態で、焦点位置を変化させながら光量分布の形状変化を観察する。
特開2009−014579号公報
しかしながら、特許文献1に記載の技術を用いて光量分布のばらつきを抑える場合、最適な焦点位置を見いだすことは可能であるが、その焦点位置における最適な光量設定は得られなかった。
また、補正パラメータを設定する場合には、露光光の短幅方向における光量分布の形状を考慮しないため、積算光量が感光材料の露光に必要な光量に至らず、最適な光量設定を得られない場合があった。また、全ての焦点位置で光量分布の形状変化を観察するには、その都度検査装置を停止させる必要があるため、相当の時間を要し、装置の稼働率が低下してしまうという問題もあった。
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、露光光の光量分布のバラツキを比較的早く、正確に抑えられる技術を提供することを目的とする。
第1の態様は、光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される帯状の第2の光を検査する検査装置であって、前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する受光素子と、前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる移動機構と、を備える。
第2の態様は、第1の態様に係る検査装置であって、前記受光素子は前記第2の光の長手方向に沿って複数設置されており、複数の前記受光素子各々が前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする。
第3の態様は、第2の態様に係る検査装置であって、複数の前記受光素子は、同種の一次元光検出素子で構成されていることを特徴とする。
第4の態様は、第1の態様に係る検査装置であって、前記受光素子は、前記短幅方向のみならず、前記長手方向における光量分布も測定する単数の二次元受光素子で構成されており、前記二次元受光素子は前記長手方向に沿って斜めに配設されていることを特徴とする。
第5の態様は、第2の態様ないし第4の態様のいずれか一つに記載の検査装置であって、複数の前記光学的距離のうちの一つは、前記描画対象物に照射される前記第2の光の焦点距離と一致することを特徴とする。
第6の態様は、第1の態様ないし第5の態様のいずれか一つに記載の検査装置であって、前記第2の光が透過するレンズと、前記レンズを透過した前記第2の光を屈折させる屈折部と、をさらに備え、前記屈折部で屈折した前記第2の光が前記受光素子に入射することを特徴とする。
第7の態様は、光源からの第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、前記変調用空間に配置され、前記第1の光を変調する空間光変調素子と、前記第2の光を描画対象物の表面に導く第2光路系と、前記描画対象物を保持する基板保持部と、前記第2の光と前記描画対象物とを、前記第2の光の短幅方向に沿う方向に相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動部と、第1の態様ないし第6の態様のいずれか一つに記載の検査装置と、を備える。
第8の態様は、光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される帯状の第2の光を検査する検査方法であって、受光素子が、前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する工程と、前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる工程と、を備える。
第1の態様ないし第8の態様によれば、第2の光を受けて、少なくとも第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する受光素子を第2の光の長手方向に沿って相対的に移動させる。このため、短幅方向における一次元光量分布が第2の光の長手方向の位置ごとに複数得られる。これを用いて演算することによって、第2の光についての短幅方向及び長手方向の二次元光量分布を速やかに得ることが可能であり、当該光量分布を用いることによって、光量分布のバラツキを抑えるための正確な光量設定を行うことができる。
特に、第2の態様によれば、受光素子は複数設置されており、複数の前記受光素子各々が光学的距離の異なる第2の光の測定位置に配設されている。このため、複数の異なる光学的距離での第2の光の二次元光量分布を得られる。よって、焦点距離を変化させた場合の光量分布の変化傾向を容易に把握することができるため、所望の光量分布を得やすい。
特に、第3の態様によれば、複数の受光素子は、短幅方向における光量分布を測定する同種の一次元光検出素子で構成されている。同種の素子であるため、素子相互の特性のばらつきが少なく、より正確な光量分布を知ることができる。
特に、第4の態様によれば、受光素子は、短幅方向のみならず、長手方向における光量分布も測定する単数の二次元受光素子で構成されており、二次元受光素子は長手方向に沿って斜めに配設されている。このため、簡易な構成であるにも関わらず、複数の異なる光学的距離での二次元光量分布を得られる。
特に、第5の態様によれば、描画対象物に照射される第2の光の焦点距離と一致する光学的距離での第2の光の光量分布が得られるため、露光処理のために設定された焦点距離を基準にして、焦点距離を調節したら所望の光量分布が得られるかを容易に把握できる。
特に、第6の態様によれば、レンズと屈折部とをさらに備えるため、他の装置と干渉しない位置に受光素子を配設させることができる。
第1の実施形態におけるパターン描画装置の概略側面図である。 第1の実施形態におけるパターン描画装置の平面図である。 空間光変調器の平面図である。 空間光変調器の動作の様子を示す図である。 第1の実施形態における検出部の概略構成図である。 第1の実施形態における検出部の要部構成を示す図である。 制御部のハードウェア構成を示す図である。 処理の流れを示すフローチャートである。 二次元光量分布の一例を示す図である。 調整処理の前における積算露光量の二次元分布を示す図である。 所定のチャンネルでの調整量を示す図である。 各チャンネルでの露光の調整量を示す図である。 調整処理の後における積算露光量の二次元分布を示す図である。 第2の実施形態における検出部の要部構成を示す図である。
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。以下の実施形態は、本発明を具体化した例であり、本発明の技術的範囲を限定する事例ではない。
<1.第1の実施形態>
図1には、本発明の第1の実施の形態に係るパターン描画装置1の側面図が示されており、図2には、パターン描画装置1の平面図が示されている。パターン描画装置1は、液晶表示装置用のガラス基板W(以下、単に「基板W」という。)上の感光材料に光を照射してパターンを描画する装置である。
図1及び図2に示されるように、パターン描画装置1は、感光材料の層が(+Z)側の主面W1(以下、「上面W1」という。)上に形成された基板Wを保持する基板保持部3、基台11上に設けられて基板保持部3をX方向およびY方向に移動する保持部移動機構2、基板保持部3および保持部移動機構2を跨ぐように基台11に固定されるフレーム12、フレーム12に取り付けられて基板W上の感光材料に変調された光を照射する光照射部4、光照射部4からの光を受光する検出部51、検出部51をX方向に移動する検出部移動機構52を備える。また、図1に示されるように、検出部51からの出力に基づいて光照射部4の駆動を制御する制御部90を備える。
なお、以下において、Y方向を主走査方向と称し、X方向を副走査方向と称する場合がある。また、後に詳述する帯状光の短幅方向が主走査方向(Y方向)に一致し、帯状光の長手方向が副走査方向(X方向)に一致する。また、基板Wが載置される基板保持部3の面に直交する方向を高さ方向と称する場合がある。このX軸及びY軸により構成される面が水平面であるとともに、Z軸が水平面に対する鉛直軸である。
図1及び図2に示されるように、基板保持部3は、基板Wが載置されるステージ31、ステージ31を回転可能に支持する支持プレート33及び支持プレート33上において、基板Wの上面W1に垂直な回転軸321を中心にステージ31を回転するステージ回転機構32を備える。ステージ回転機構32は、ステージ31の(+X)側に設けられたリニアモータ322を備え、リニアモータ322は、ステージ31の(+X)側の側面に固定された移動子と支持プレート33の上面に設けられた固定子とを備える。ステージ回転機構32では、リニアモータ322の移動子が固定子の溝に沿ってY方向に沿って移動することにより、ステージ31が、支持プレート33上に設けられた回転軸321を中心として所定の角度の範囲内で回転する。
保持部移動機構2は、基板保持部3を図1及び図2中の副走査方向に移動する副走査機構23、副走査機構23を介して支持プレート33を支持するベースプレート24、及び基板保持部3をベースプレート24と共に主走査方向に移動する主走査機構25を備える。
副走査機構23は、支持プレート33の下側(すなわち、(−Z)側)において、ステージ31の主面に平行かつ副走査方向に延びるリニアモータ231、リニアモータ231の(+Y)側及び(−Y)側において副走査方向に延びる一対のリニアガイド232を備える。リニアモータ231は、支持プレート33の下面に固定された移動子とベースプレート24の上面に設けられた固定子とを備え、当該移動子が固定子に沿って副走査方向に移動することにより、基板保持部3がリニアモータ231及びリニアガイド232に沿って直線的に移動する。
主走査機構25は、ベースプレート24の下側において、主走査方向に延びるリニアモータ251、リニアモータ251の(+X)側及び(−X)側において主走査方向に延びる一対のエアスライダ252を備える。リニアモータ251は、ベースプレート24の下面に固定された移動子と基台11の上面に設けられた固定子とを備え、当該移動子が固定子に沿って主走査方向に移動することにより、ベースプレート24が、基板保持部3と共にリニアモータ251及びエアスライダ252に沿って主走査方向に直線的に移動する。
図2に示されるように、光照射部4は、フレーム12に取り付けられた複数(図の例では、8個)の光学ヘッド41,41,・・,41を備える。
また、光照射部4は、図1に示されるように、複数の光学ヘッド41,41,・・,41のそれぞれに接続される光源光学系42、紫外光を出射するUV光源43及び光源駆動部44を備える。UV光源43は固体レーザであり、光源駆動部44の駆動により、UV光源43から波長355nmの紫外光が出射され、光源光学系42を介して光学ヘッド41へと導かれる。
複数の光学ヘッド41,41,・・,41のそれぞれは、UV光源43からの光を下方に向けて出射する出射部45、出射部45からの光を反射して所定の空間光変調用空間へと導く光学系451、空間光変調用空間に配設され、光学系451を介して照射された出射部45からの光を変調しつつ反射する空間光変調器46、及び空間光変調器46からの変調された光を基板Wの上面W1に設けられた感光材料上へと導く光学系47を備える。なお、光源光学系42、出射部45及び光学系451が、UV光源43からの第1の光を所定の変調用空間に導く本実施形態における第1光路系に相当し、光学系47が本実施形態における第2の光路系に相当する。
図3には、空間光変調器46が拡大して示されている。図3に示されるように、空間光変調器46は、出射部45を介して照射されたUV光源43からの光を基板Wの上面W1へと導く回折格子型の光変調素子461を備える。光変調素子461は、半導体装置製造技術を利用して製造され、格子の深さを変更することができる回折格子となっている。光変調素子461には複数の帯状の可撓リボン461a及び帯状の固定リボン461bが交互に平行に配列形成され、複数の可撓リボン461aは背後の基準面に対して個別に昇降移動可能とされ、複数の固定リボン461bは基準面に対して高さが固定される。回折格子型の光変調素子としては、例えば、GLV(Grating Light Valve:グレーチング・ライト・バルブ)(「GLV」は登録商標)が知られている。
図4には、可撓リボン461aおよび固定リボン461bに対して直交する面における光変調素子461の断面が示されている。図4(a)に示されるように、可撓リボン461aおよび固定リボン461bが基準面461cに対して同じ高さに位置する(即ち、可撓リボン461aが撓まない)場合には、光変調素子461の表面は面一となり、入射光L1の反射光が0次光L2として導出される。一方、図4(b)に示されるように可撓リボン461aが固定リボン461bよりも基準面461c側に撓む場合には、可撓リボン461aが回折格子の溝の底面となり、1次回折光L3(さらには、高次回折光)が光変調素子461から導出され、0次光L2は消滅する。このように、光変調素子461が用いられて、回折格子を利用した光変調が行われる。
光照射部4では、UV光源43からの光が光源光学系42により帯状光(光束断面が帯状の光)とされ、出射部45を介して空間光変調器46のライン状に配列された複数の可撓リボン461aおよび固定リボン461b上に照射される。光変調素子461では、隣接する各1本の可撓リボン461aおよび固定リボン461bを1つのリボン対とすると、3つ以上のリボン対が、1個の単位素子を構成し、各単位素子が、描画されるパターンの1つの画素に対応する。
光変調素子461では、各単位素子に対して制御部90からの制御信号が与えられる。すなわち、光変調素子461においては、制御部90からの信号に基づいて、パターンの各画素に対応する単位素子におけるリボン対の可撓リボン461aがそれぞれ制御され、各画素に対応する単位素子におけるリボン対が0次光(正反射光)を出射する状態と、非0次回折光(主として1次回折光((+1)次回折光および(−1)次回折光))を出射する状態との間で遷移可能とされる。光変調素子461から出射される0次光は光学系47へと導かれ、1次回折光は光学系47とは異なる方向へと導かれる。なお、迷光となることを防止するために1次回折光は図示を省略する遮光部により遮光される。
光変調素子461からの0次光は、光学系47を介して基板Wの上面W1へと導かれ、これにより、基板Wの上面W1上においてX方向(すなわち、主走査方向に垂直な副走査方向)に並ぶ複数の照射位置のそれぞれに変調された光が照射される。すなわち、光変調素子461の各画素に対応するリボン対は0次光を出射する状態がON状態であり、1次回折光を出射する状態がOFF状態とされる。
光変調素子461では、図4(a)に示されるように、可撓リボン461aと固定リボン461bとの基準面461cからの高さを等しくすることにより、0次光が信号光として得られるが、可撓リボン461aの高さを固定リボン461bの高さよりも僅かに低くすることにより信号光の光量を低下させることができ、この性質を利用して光変調素子461からの光量の調整を行うことができる。
パターン描画装置1では、保持部移動機構2により、基板Wを、図1及び図2に示される描画開始位置(具体的には、各光学ヘッド41が基板Wの+Y側の端縁の上方に配置される位置)から、(+Y)方向へと移動しつつ、光照射部4において各光学ヘッド41の空間光変調器46の光変調素子461(図3参照)が、描画されるべきパターンのデータに基づいて制御部90により制御される(すなわち、各画素に対応するリボン対のON/OFFが切り替えられる)ことにより、基板Wの上面W1上の感光材料に上記パターンが描画される。
図5には、検出部51の構成図が概略的に示されている。この検出部51が本実施形態における検査装置に相当する。
検出部51は、支持プレート33の上面であって、ステージ31の(+Y)側に配置されている(図1、図2参照)。後に明らかになるように、照射部4のキャリブレーション動作が行われる際には、保持部移動機構2が基板保持部3を主走査方向に沿って移動させることにより、光学ヘッド41が検出部51の真上に配置された状態とされる。
検出部51は、以下に詳述する各光学要素が筐体518の内部に配置された構造を有する。筐体518の上面には、対物レンズ512が設置されている。光学系47から照射された光は、対物レンズ512を介して検出部51に導入される。対物レンズ512は、例えば、100倍の倍率を有するレンズである。対物レンズ512を透過した光はミラー513によってその進行方向の変更を受けて、分割ミラー514に入射する。なお、ミラー513と分割ミラー514との間の光路の面積は比較的大きく設けられていることが望ましい。分割ミラー514に入射した光は、所定の光量の割合で、反射光と透過光とに分割される。分割ミラー514は、いわゆるハーフミラーと類似の構造を持つが、光透過率は50%でなくてもよい。
分割ミラー514で分割された光のうち、反射光は遮光板520に照射される。遮光板520には、スリット構造515が形成されている。このスリット構造515は、それぞれの長手方向が主走査方向、即ちY軸方向に沿うように伸びた複数(具体的には2つ)の単位スリット515a、515b(後述する図6参照)を、X方向に離隔して平行配置した構造となっている。したがって、分割ミラー514で反射された光の一部はこのスリット構造515を通過して2本のスリット光となる。このようなスリット光は、遮光板520にスリット構造515を形成しておく態様以外にも、例えば、レンズなどを用いて反射光のうち一部を取り出すような態様によっても得ることができる。キャリブレーション動作における、光学ヘッド41に対する検出部51の相対移動方向(ここでは、例えば、+X方向とする(図2の矢印AR51))について、先行する側(+X側)に配置されている単位スリット515aを、以下「第1の単位スリット515a」ともいう。また、他方の単位スリット515bを、以下「第2の単位スリット515b」ともいう。
この遮光板520の光の照射面とは反対側の空間に、複数(具体的には2つ)の一次元CCD(Charge Coupled Device)素子516,519が、図5におけるX軸方向に沿って列設されている。図6には、これらの一次元CCD素子516,519の位置関係が拡大して模式的に示されている。このうち図6(a)に示される各光学素子の配置は、図5に記載されている配置と光学的に等価であり、ミラー513等の記載を省略して、遮光板520に設けられた単位スリット515a,515bと一次元CCD素子546,519との位置関係を表している。また、図6(b)では、一次元CCD素子516,519と各単位スリット515a,515bとの対応関係が模式的な平面拡大図として示されている。
キャリブレーション動作における、光学ヘッド41に対する検出部51の相対移動方向(ここでは、+X方向)について先行する側(+X側)に配置される一次元CCD素子(以下、「第1の一次元CCD素子」ともいう)516には、第1の単位スリット515aを通った光が入射する。第1の一次元CCD素子516においては、複数の画素(光検出セル)PXが一列に配置されており、第1の単位スリット515aを通過した光の光量が画素PXごとに検出される。一方、他方の一次元CCD素子(以下、「第2の一次元CCD素子」ともいう)519には、第2の単位スリット515bを通った光が入射する。第2の一次元CCD素子519においても、複数の画素PXが一列に配置されており、第2の単位スリット515bを通過した光の光量が画素PXごとに検出される。
これらの一次元CCD素子516,519とは、それぞれの受光面が遮光板520の表面(XY面)と平行であり、Z方向についての第1の一次元CCD素子516と遮光板520との距離H1が、第2の一次元CCD素子519と遮光板520との距離H2よりも小さくなるように、すなわち複数の一次元CCD素子516、519と光源との光学的距離が互いに異なるように設置されている。
これらの一次元CCD素子516,519は、検出部51がひとつの位置にある状態で、光学系47から照射された断面帯状の反射光LFの短幅方向(Y方向)における一次元の光量分布を、異なる焦点距離でそれぞれ検出する。つまり、各単位スリット515a、515bの長手方向(Y方向)と光の短幅方向とは一致する方向であり、各単位スリット515a、515bの長手方向(Y方向)に沿って、一次元CCD素子516,519が有する複数の画素(単位検出素子)PXが、等間隔で配列されて受光を行う。
図6(c)は、反射光LFの光路を立体的に示した模式図であり、その一部が概念的な直方体として描かれている。この光路の断面は帯状であり、その短幅方向(Y方向)に沿って単位スリット515a、515bが延びている。図1の検出部移動機構52の駆動により検出部51が(+X)方向に移動することによって、単位スリット515a、515bが、反射光LFの光路のXY断面を走査方向SC((+X)方向)に向けて走査してゆくことになる。なお、図6(c)は、反射光LFと単位スリット515a,515bとの実際の位置関係を表しているわけではなく、単位スリット515a,515bの延在方向、走査方向、そして断面が帯状の光の短幅方向及び長手方向についての関係を概念的に表すものである。また、図14(c)についても同様のものである。
一方、分割ミラー514の透過光は、進行方向に設置された一次元CCD素子517によって、その光量を検出される。
本実施形態では、上述のように、第1の一次元CCD素子516と遮光板520とのZ方向の距離H1と、第2の一次元CCD素子519と遮光板520とのZ方向の距離H2とが異なるため、光源あるいは空間光変調器46を基点としたときの、2つの一次元CCD素子516,519に入射する光との光学的距離が各々異なる。したがって、異なる焦点距離での光量分布を求めることができるため、ステージ31上に保持された基板Wの上面W1に照射される光の焦点距離、即ち実際の露光処理で設定される光の焦点距離を変化させた場合についても、基板Wに照射される光の強度分布を知ることができる。この実施形態の場合には、第2の一次元CCD素子519の位置を、基板Wに照射される光の焦点距離の基準値と一致させている。
図1および図2に示されるように、検出部移動機構52は、副走査方向(X方向)に配設されたボールネジ524、保持部移動機構2の支持プレート33上に固定されるとともに筐体518を支持する副走査方向に配設された2本のガイドレール525及びボールネジ524に接続されるモータ526を備える。
パターン描画装置1では、後述する光照射部4のキャリブレーション動作の際に、検出部移動機構52のモータ526によってボールネジ524が回転し、検出部51が、ガイドレール525に沿って、即ち副走査方向に沿って所定方向(ここでは、+X方向(矢印AR51))に移動される。これによって、光照射部4から照射された断面帯状の光が、検出部51の一次元CCD素子516,519によって、帯状の光の長手方向(X方向)に沿って、順次受光及び検出される。検出された光信号は、それぞれ制御部90に送信されて記憶されるとともに所定の演算処理が行われる。特定のタイミングで各一次元CCD素子516,519が検出するのは、反射光LFの断面における光量分布のうち特定のX座標に対応する帯状の光の短幅方向の一次元の光量分布であるが、X方向への走査を行いつつそれを繰り返して1次元光量分布の検出値をつなぎあわせることによって、断面が帯状の光の二次元光量分布が、異なる高さについて得られる。
本実施形態では、光照射部4からの光に対して、一次元CCD素子516,519が受光しつつ、検出部移動機構52の駆動によって検出部51が移動することにより、光を検出していたが、このような形態には限られない。検出部移動機構52が設けられておらず、検出部51がステージ31に対して固定設置される形態であっても構わない。この場合には、主走査機構25によるステージ31の主走査方向における移動、又は副走査機構23によるステージ31の副走査方向における移動によって、検出部51は、光照射部4が有する空間光変調器46に対して相対的に移動し、光照射部4からの光を検出する。
図7には本実施形態における制御部90のハードウェア構成が示されている。図7に示されるように、制御部90は一般的なコンピュータと同様のハードウェア構成を有する。即ち、制御部90は各種演算処理を行うCPU91、基本プログラムPを記憶する読み出し専用のメモリであるRОM92、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるRAM93、記録媒体(より具体的には、CD−ROM、DVD(Digital Versatile Disk))、フレキシブルディスクなどの可搬性記録媒体)Mからその中に記憶されている情報を読み出すメディアドライブ94、キーボード、マウスなどで構成される入力デバイスであり、コマンドや各種データの入力といったユーザ操作を受け付ける入力部95及びカラーLCDのようなディスプレイ等を備え、各種のデータや動作状態を可変表示する表示部96をバスライン99に接続して構成されている。また、バスライン99には、光源駆動部44、空間光変調器46、検出部搬送機構52、保持部移動機構2などが電気的に接続されている。
図8には、光照射部4のキャリブレーション動作に係る処理の流れを示すフローチャートが示されている。このフローチャートに沿って、上述の構成を有する検出部51の処理動作について説明する。
はじめに、基板保持部3を保持部移動駆動2によって主走査方向に沿って移動させて、各光学ヘッド41が検出部51の真上に配置された状態とする(ステップS11)。ただし、このとき、検出部搬送機構52は、検出部51を、これが有する対物レンズ512が最も−X側に配置された光学ヘッド41の光学系47の直下の位置に配置されるような位置に、配置する。
検出部51が上記の光学系47の直下の位置に到達すると、キャリブレーション動作が開始される。キャリブレーション動作においては、検出部51が+X方向に移動されつつ、光照射部4が備える複数の光学ヘッド41,41,・・,41のそれぞれについて、露光処理に使用される光の検査が次々と行われる。各光学ヘッド41について行われる当該検査の態様は同じであるので、以下においては、1個の光学ヘッド41に対する当該検査の態様を説明する。
まず、制御部90からの指令に応じて光源駆動部44の駆動が開始され、UV光源43から光が照射される(ステップS12)。UV光源43から照射された光は、光源光学系42にて断面が帯状に変形され、光照射部4に導入される。光照射部4に導入された光は空間光変調用空間に配置された空間光変調器46によって変調される。そして、変調された光は光学系47から外部に向けて照射される。
光学系47から照射された断面帯状の光の長手方向における端の部分は、検出部51の対物レンズ512に入射する。入射した光は、検出部51において、ミラー513及び分割ミラー514によって進行方向を変えられ、遮光板520に達する。遮光板520に形成された単位スリット515a,515bを透過した光は、一次元CCD素子516,519によって検出される(ステップS13)。なお、このとき検出される光は、いずれもステージ31の主走査方向(Y方向)、即ち光の短幅方向における一次元の光量分布を有する。
検出部51は検出部移動機構52によって、ステージ31の副走査軸(X軸)、即ち帯状の光の長手方向に沿って、+X方向に、変調光を受けながら移動される(ステップS14)。これによって、2つの一次元CCD素子516,519のそれぞれで検出された、帯状の光の短幅方向における一次元の光量分布に関する検出信号が連続的に制御部90に送られる。
図9には、2つの一次元CCD素子516,519のそれぞれで検出された光量分布の一例が示されている。例えば、図9(a)には、第1の一次元CCD素子516で検出された光量分布が示されており、図9(b)には、第2の一次元CCD素子519で検出された光量分布が示されている。検出部51がステージ31の副走査方向に沿って移動しながら光量分布を測定するため、図9に示されるように、帯状の光の短幅方向(Y方向)における一次元の光量分布が、断面帯状の光の長手方向(X方向)に沿って複数並べられた状態の二次元光量分布が得られる。この一次元光量分布各々が、空間光変調器46の各チャンネルに対応する。
このように、光学系47から照射された断面帯状の光の長手方向における光量分布と、短幅方向における光量分布とが同時に得られる。従って、副走査方向(X方向)における光量のバラツキのみならず、主走査方向(Y方向)も含めて、例えば主走査方向における所定のチャンネルでの部分的な光量の欠落など、断面帯状の光の全体的な光量のバラツキを確認することができる。
なお、本実施形態では、光学的距離の異なる位置に、複数の一次元CCD素子516,519が配置された形態であるが、上述の二次元光量分布を得るためだけであれば、単数の一次元CCD素子、又は二次元CCD素子のみが、検出部に設けられた形態であって構わない。
本実施形態では、空間光変調器46と複数の一次元CCD素子516,519との光学的距離が異なる。つまり、2つの一次元CCD素子516,519で検出された光量分布は、光学的距離が各々異なる二次元光量分布となる。
この光学的距離の異なる2つの二次元光量分布に基づいて、適切な光量分布が得られる焦点距離の設定値を決定する(ステップS15)。ここで決定された焦点距離が実際の露光処理において設定される。なお、ここでいう適切な光量分布とは、部分的に所望の光量が確保できていない分布であっても、光量の調整が最も容易に行える光量分布であればよい。また、光学的距離の異なる2つの二次元光量分布から、光学的距離と光量のばらつきとの傾向を把握し、光学的距離を再設定したうえで、再度、光量分布の測定を行う形態であってもよい。また、2つの二次元光量分布に基づいて、後述するコンボリューションをそれぞれ作成し、コンボリューションに基づいて、最適な焦点距離を決定する形態であってもよい。
焦点距離が決定されると、当該焦点距離での二次元光量分布に基づいて、図10に示されるコンボリューション(以下において、調整前コンボリューションとも称する。)が算出される(ステップS16)。具体的には、コンボリューションは、二次元光量分布に基づいて、所定のチャンネルでの一次元光量分布の光量と照射時間とを掛け合わせて積算光量を算出するとともに、複数のチャンネル毎に一次元光量分布における同位置での積算光量を足し合わせることによって算出される。つまり、露光面における実際の積算露光量に相当する。
このコンボリューションの形状に基づいて、基板W上の感光材料を露光する範囲では、積算露光量が閾値以上であり、感光材料を露光する必要のない範囲では、積算露光量が閾値以下である必要がある。部分的にそのようになっていない範囲がある場合には、光量の調整処理が行われる(ステップS17)。
図11には、調整処理が行われた各チャンネルでの露光時間が示されている。図11(a),図11(b),図11(c)は、それぞれ異なるチャンネルでの露光時間と光量の設定とが示されている。具体的な調整処理として、各チャンネルで露光時間を微調整する、部分的に空間光変調器46の可動幅を変化させて設定光量を変化させる、又はパラメータを設定するなどが挙げられる。図12には、各チャンネルでの光量の設定が示されている。このような光量の設定に基づいて、光の照射が行われると、例えば図13に示されるようなコンボリューションが得られる。図13に示されるコンボリューションでは、Y軸方向、即ち主走査方向における露光幅が比較的均一な形状で示されている。つまり、主走査方向における幅が比較的均一な露光光を得られる。
以上のように、本実施形態では、光照射部4から照射された光を受けて、少なくとも断面帯状の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する受光素子を断面帯状の光の長手方向に沿って相対的に移動させる。これによって、短幅方向における一次元光量分布が、光の長手方向の位置ごとに複数得られる。これを用いて演算することによって、空間光変調器46によって変調された断面帯状の光についての短幅方向及び長手方向における二次元光量分布を速やかに得ることが可能であり、当該光量分布を用いることによって、光量分布のバラツキを抑えるための光量設定を正確に行うことができる。従来であれば、例えば、副走査方向における光量分布のみが測定されていたため、主走査方向における光量のバラツキは分からず、部分的に感光材料を露光させることができない場合があったが、このような事態を防ぐことができる。
また、一次元CCD素子516,519の組み合わせのように、受光素子は複数設置されており、複数の受光素子各々が光学的距離の異なる位置に配設されている。このため、複数の異なる光学的距離での二次元光量分布を得られる。よって、光学的距離と二次元光量分布との変化傾向を容易に把握することができるため、所望の光量分布を得られる焦点距離を容易に設定することができる。よって、調整時間の短縮化を図れる。
また、一次元CCD素子516,519などのような同種の一次元光検出素子を複数使用することによって、素子特性のばらつきが少なく、より正確な光量分布を求めることができる。
また、光量分布の変化傾向が把握されることによって、オートフォーカス機構が採用された場合に、描画性能を予測することができる。
さらに、設定された光学的距離が、描画対象物である基板Wに照射される光の焦点距離と一致する場合、露光処理のための実際の焦点距離を基準にすることができるため、より焦点距離の設定を行いやすい。
また、検出部51は、対物レンズ512、光の進行方向を変化させるミラー513などで構成されているため、受光素子を他の装置と干渉しない位置に配設させることができる。
<2.第2の実施形態>
上記第1の実施形態では、二つの受光素子が用いられ、それぞれが異なる光学的距離に配置されることによって、光学的距離の異なる2つの二次元光量分布が得られる形態であったが、このような形態には限られない。
図14には、第2の実施形態における装置構成を表す概略図が示されている。第2の実施形態では、単数の二次元受光素子、例えば二次元CCD素子519bなどが、遮光板520bの光の照射面とは反対側に設けられている。特に、本実施形態では、二次元CCD素子519bは、副走査方向(X軸方向)に対して受光面LSが斜め方向になるように配設されている。図14(a)〜(c)のそれぞれの読み方は図6と同様である。
より具体的には、受光面LSの横倍率が10倍、縦倍率が100倍であって、焦点距離の変化量をプラスマイナス5マイクロメートルとする場合、二次元CCD素子519bは、プラスマイナス500マイクロメートルの傾きを設けて配置される。
そして、この傾きによってカバーされる範囲内には、基板Wに照射される光の焦点距離の基準値が含まれるようにしておく。好ましくは、受光面LSのX方向についての略中心位置が、基板Wの露光時における焦点距離に相当する高さにあるように、二次元CCD素子519bが設置される。
従って、遮光板520bに設けられた孔部(ウインドウ)515cを通って照射された光の光学的距離は、副走査方向における二次元CCD素子519bの受光面LSの部分ごと(正確にはX座標ごと)に異なる。具体的には、主走査方向、即ち帯状の光の短幅方向に設けられた二次元CCD素子519bが有する検出素子の列ごとに、検出する光の光学的距離が異なる。従って、光学的距離の異なる、断面帯状の光の短幅方向における一次元の光量分布が複数得られる。このような二次元CCD素子519bを有する検出部51が副走査方向に沿って相対的に移動させて走査することにより、二次元の光量分布が得られる。つまり、本実施形態では、単数の二次元受光素子という簡易な構成であるにも関わらず、光学的距離の異なる複数の二次元光量分布を得られる。
<3.変形例>
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
例えば、二次元CCD素子519bを固定的に配置するのにかえて、傾斜角度を変えられるように可動的に構成してもよい。この構成によると、検査用途に応じて二次元CCD素子519bの傾斜角度を切り換えることができる。
また、例えば、上記第1の実施形態では、受光素子として一次元CCD素子519が用いられていたが、このような形態には限られず、二次元光量分布を求められる二次元CCD素子であってもよい。
また、検出部51は、対物レンズ512、又はミラー513等の光学要素を必ずしも図4に示されるように配設させなくて構わない。検出部51の周囲に配設される他の装置類の状態に応じて、適宜配設される形態であってよい。また、構造上、受光素子を光照射部4の直下に配設可能であるならば、検出部51は、対物レンズ512、又はミラー513等を必ずしも備えなくてもよい。
上記実施の形態に係るパターン描画装置は、液晶表示装置用のカラーフィルタ基板に対するパターンの描画に利用されてもよく、また、プラズマ表示装置や有機EL(Electro Luminescence)表示装置等の平面表示装置用のガラス基板、半導体基板やプリント配線基板等に対するパターンの描画に利用することもできる。
また、上記の各実施形態では、空間光変調器46として回折格子型の空間光変調器であるGLVが用いられていたが、空間光変調器46は、GLVに限るものではない。例えば、DMD(Digital Micromirror Device:デジタルマイクロミラーデバイス:テキサスインスツルメンツ社製)のような変調単位であるマイクロミラーが二次元的に配列された空間光変調器が利用されてもよいし、液晶シャッタにより構成される空間光変調器が利用されてもよい。
また、上記の実施の形態に係るパターン描画装置1は、光学ヘッド41を複数個備えるものとしたが、光学ヘッド41は1個だけ設けられる構成でもよい。光学ヘッドの個数が比較的少ない場合(例えば、2個以下である場合)、光学ヘッドとステージとを、主走査方向および副走査方向について相対的に移動させる駆動機構を設け、パターンの描画動作において、光学ヘッドから変調光を出射させつつ、光学ヘッドを、ステージに対して、主走査方向だけでなく副走査方向にも相対的に移動させつつ(例えば、主走査と副走査とを繰り返して行わせつつ)、光学ヘッドに基板Wの全域を走査させればよい。この構成においては、検出部51をステージに対して固定し、上記の駆動機構に光学ヘッドとステージとを副走査方向について相対的に移動させることによって、光学ヘッドと検出部51とを副走査方向について相対的に移動させることができる。つまり、この変形例においては、当該駆動機構を、反射光LFの長手方向に沿って、検出部51を空間光変調器46に対して相対的に移動させる検出部搬送機構として機能させることができる。したがって、検出部51をステージに対して移動させる上述の検出部搬送機構52は省略することができる。
1 パターン描画装置
2 保持部移動機構
43 UV光源
46 空間光変調器
51 検出部
52 検出部移動機構
516,519 一次元CCD素子
519b 二次元CCD素子
W 基板

Claims (8)

  1. 光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される断面が帯状の第2の光を検査する検査装置であって、
    前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する受光素子と、
    前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる移動機構と、
    を備える検査装置。
  2. 請求項1に記載の検査装置であって、
    前記受光素子は前記第2の光の長手方向に沿って複数設置されており、
    複数の前記受光素子各々が前記第2の光の光学的距離の異なる位置に配設されることを特徴とする検査装置。
  3. 請求項2に記載の検査装置であって、
    複数の前記受光素子のそれぞれは、前記短幅方向における光量分布を測定する同種の一次元光検出素子で構成されていることを特徴とする検査装置。
  4. 請求項1に記載の検査装置であって、
    前記受光素子は、前記短幅方向のみならず、前記長手方向における光量分布も測定する単数の二次元受光素子で構成されており、
    前記二次元受光素子は前記長手方向に沿って斜めに配設されていることを特徴とする検査装置。
  5. 請求項2ないし4のいずれか一つに記載の検査装置であって、
    複数の前記光学的距離のうちの一つは、前記描画対象物に照射される前記第2の光の焦点距離の基準値と一致させていることを特徴とする検査装置。
  6. 請求項1ないし5のいずれか一つに記載の検査装置であって、
    前記第2の光が透過するレンズと、
    前記レンズを透過した前記第2の光を屈折させる屈折部と、をさらに備え、
    前記屈折部で屈折した前記第2の光が前記受光素子に入射することを特徴とする検査装置。
  7. 光源からの第1の光を所定の変調用空間に導く第1光路系と、
    前記変調用空間に配置され、前記第1の光を変調する空間光変調素子と、
    前記第2の光を描画対象物の表面に導く第2光路系と、
    前記描画対象物を保持する基板保持部と、
    前記第2の光と前記描画対象物とを、前記第2の光の短幅方向に沿う方向に相対的に移動させることにより、前記第2の光によって前記描画対象物の表面を走査させる走査駆動部と、
    請求項1ないし5のいずれか一つに記載の検査装置と、
    を備える露光装置。
  8. 光源から照射された第1の光が空間光変調素子で変換されて生成されるとともに、描画対象物への描画に使用される断面が帯状の第2の光を検査する検査方法であって、
    受光素子が、前記第2の光を受けて、少なくとも前記第2の光の短幅方向における一次元光量分布を測定する工程と、
    前記受光素子を前記第2の光の長手方向に沿って、前記空間光変調素子に対して相対的に移動させる工程と、
    を備える検査方法。
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