JP6129579B2 - 露光装置 - Google Patents
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
J=T/M+T
SA=(N−1)M ・・・(1)
22 DMD(光変調素子アレイ)
28 位置検出部
30 コントローラ
Claims (10)
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを被描画体に対して相対移動させる走査部と、
前記露光エリアが通過するように配置される複数のフォトセンサを有する位置検出部と、
前記複数の光変調素子を制御し、パターン光を前記被描画体に投影する露光動作制御部とを備え、
前記露光動作制御部が、所定間隔で走査方向に並び、各パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きい位置検出パターン列の光を投影し、
前記位置検出部が、1つの位置検出パターンの光が隣り合うフォトセンサを通過する間にその隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を検出し、位置検出パターン列の光の通過に伴って一連の露光位置を時系列に検出することを特徴とする露光装置。 - 前記複数のフォトセンサが、3つ以上のフォトセンサで構成され、
前記位置検出パターン列が、2つ以上の位置検出パターンによって構成されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記位置検出部が、
輝度信号の等しくなるタイミングでパルス信号を発生するパルス信号生成部と、
検出されたパルス信号に応じて露光位置を算出する位置算出部と
を備えたことを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の露光装置。 - 前記パルス信号生成部が、前記ステージに設けられていることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記露光動作制御部が、検出される一連のパルス信号を互いに異なるタイミングで発生させるように、位置検出パターン列の光を投影することを特徴とする請求項3乃至4のいずれかに記載の露光装置。
- 前記露光動作制御部が、ほぼ一定の時間間隔で一連のパルス信号が発生するように、所定のパターンピッチで位置検出パターン列の光を投影することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記複数のフォトセンサが、走査方向に沿って一定間隔に配置され、
前記位置検出パターン列が、一定間隔で並んだ位置検出パターンで構成されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の露光装置。 - 前記複数のフォトセンサが、前記被描画体の搭載されるステージに一体的に設けられていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の露光装置。
- 検出された前記一連の露光位置と、あらかじめ定められた標準露光位置とに基づいて、露光基準位置を補正する補正部をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の露光装置。
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイによる露光エリアを、前記露光エリアが通過するように配置された複数のフォトセンサを配置させた被描画体に対し相対移動させ、
所定間隔で走査方向に並び、各パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きい位置検出パターン列の光を投影し、
1つの位置検出パターンの光が隣り合うフォトセンサを通過する間にその隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を検出し、位置検出パターン列の光の通過に伴って一連の露光位置を時系列に検出することを特徴とする露光位置検出方法。
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