JP2014165266A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014165266A JP2014165266A JP2013033469A JP2013033469A JP2014165266A JP 2014165266 A JP2014165266 A JP 2014165266A JP 2013033469 A JP2013033469 A JP 2013033469A JP 2013033469 A JP2013033469 A JP 2013033469A JP 2014165266 A JP2014165266 A JP 2014165266A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- light
- position detection
- photosensor
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 76
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 8
- 230000007274 generation of a signal involved in cell-cell signaling Effects 0.000 claims description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 17
- 238000000059 patterning Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】複数のフォトセンサP1〜PNを走査方向に沿って等間隔に配列させた位置検出部をステージに設置し、走査方向に沿って等間隔で並んだバー状パターンL1〜LMから成る位置検出パターン列LPを、走査時に基板へ投影する。そして、互いに隣接するフォトセンサの受光量が等しくなる位置を露光位置として時系列に検出し、検出される(N−1)×M個の露光位置に基づき、基準位置を補正する。
【選択図】図3
Description
J=T/M+T
SA=(N−1)M ・・・(1)
22 DMD(光変調素子アレイ)
28 位置検出部
30 コントローラ
Claims (12)
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを被描画体に対して相対移動させる走査部と、
前記露光エリアが通過するように配置される複数のフォトセンサを有する位置検出部と、
前記複数の光変調素子を制御し、パターン光を前記被描画体に投影する露光動作制御部とを備え、
前記露光動作制御部が、所定間隔で走査方向に並び、各パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きい位置検出パターン列の光を投影し、
前記位置検出部が、1つの位置検出パターンの光が隣り合うフォトセンサを通過する間にその隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を検出し、位置検出パターン列の光の通過に伴って一連の露光位置を時系列に検出することを特徴とする露光装置。 - 前記複数のフォトセンサが、3つ以上のフォトセンサで構成され、
前記位置検出パターン列が、2つ以上の位置検出パターンによって構成されることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記位置検出部が、
輝度信号の等しくなるタイミングでパルス信号を発生するパルス信号生成部と、
検出されたパルス信号に応じて露光位置を算出する位置算出部と
を備えたことを特徴とする請求項1乃至2のいずれかに記載の露光装置。 - 前記パルス信号生成部が、前記ステージに設けられていることを特徴とする請求項3に記載の露光装置。
- 前記露光動作制御部が、検出される一連のパルス信号を互いに異なるタイミングで発生させるように、位置検出パターン列の光を投影することを特徴とする請求項3乃至4のいずれかに記載の露光装置。
- 前記露光動作制御部が、ほぼ一定の時間間隔で一連のパルス信号が発生するように、所定のパターンピッチで位置検出パターン列の光を投影することを特徴とする請求項5に記載の露光装置。
- 前記複数のフォトセンサが、走査方向に沿って一定間隔に配置され、
前記位置検出パターン列が、一定間隔で並んだ位置検出パターンで構成されることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の露光装置。 - 前記複数のフォトセンサが、前記被描画体の搭載されるステージに一体的に設けられていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の露光装置。
- 検出された前記一連の露光位置と、あらかじめ定められた標準露光位置とに基づいて、露光基準位置を補正する補正部をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の露光装置。
- 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイによる露光エリアを、前記露光エリアが通過するように配置された複数のフォトセンサを配置させた被描画体に対し相対移動させ、
所定間隔で走査方向に並び、各パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きい位置検出パターン列の光を投影し、
1つの位置検出パターンの光が隣り合うフォトセンサを通過する間にその隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を検出し、位置検出パターン列の光の通過に伴って一連の露光位置を時系列に検出することを特徴とする露光位置検出方法。 - 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイと、
前記光変調素子アレイによる露光エリアを被描画体に対して相対移動させる走査部と、
前記露光エリアが通過するように配置される複数のフォトセンサを有する位置検出部と、
前記複数の光変調素子を制御し、パターン光を前記被描画体に投影する露光動作制御部とを備え、
前記露光動作制御部が、パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きい単一の位置検出パターンの光を投影し、
前記位置検出部が、前記位置検出パターンの光が隣り合うフォトセンサを通過する間にその隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を検出し、位置検出パターンの光の通過に伴って一連の露光位置を時系列に検出することを特徴とする露光装置。 - 複数の光変調素子をマトリクス状に配列した光変調素子アレイによる露光エリアを、前記露光エリアが通過するように配置される複数のフォトセンサを配置させた被描画体に対し相対移動させ、
パターン幅が、フォトセンサ幅よりも小さく、フォトセンサ間隔よりも大きい単一の位置検出パターンの光を投影し、
前記位置検出パターンの光が隣り合うフォトセンサを通過する間にその隣り合うフォトセンサから出力される輝度信号のレベルが等しくなる露光位置を検出し、位置検出パターンの光の通過に伴って一連の露光位置を時系列に検出する露光方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013033469A JP6129579B2 (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013033469A JP6129579B2 (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014165266A true JP2014165266A (ja) | 2014-09-08 |
JP6129579B2 JP6129579B2 (ja) | 2017-05-17 |
Family
ID=51615630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013033469A Active JP6129579B2 (ja) | 2013-02-22 | 2013-02-22 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6129579B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015065228A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
JP2019101114A (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-24 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
CN112540510A (zh) * | 2019-09-20 | 2021-03-23 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置及其性能评价方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03137517A (ja) * | 1989-10-23 | 1991-06-12 | Copal Co Ltd | 光学式変位検出装置 |
JPH09113316A (ja) * | 1995-05-08 | 1997-05-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学式エンコーダ |
JPH1090008A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-10 | Ricoh Co Ltd | エンコーダの原点位置検出装置 |
JP2005043555A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Pentax Corp | パターン描画装置 |
JP2008134370A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置 |
JP2012247221A (ja) * | 2011-05-25 | 2012-12-13 | Nikon Corp | エンコーダ、駆動システム、及び制御装置 |
-
2013
- 2013-02-22 JP JP2013033469A patent/JP6129579B2/ja active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03137517A (ja) * | 1989-10-23 | 1991-06-12 | Copal Co Ltd | 光学式変位検出装置 |
JPH09113316A (ja) * | 1995-05-08 | 1997-05-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学式エンコーダ |
JPH1090008A (ja) * | 1996-09-10 | 1998-04-10 | Ricoh Co Ltd | エンコーダの原点位置検出装置 |
JP2005043555A (ja) * | 2003-07-25 | 2005-02-17 | Pentax Corp | パターン描画装置 |
JP2008134370A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Orc Mfg Co Ltd | 露光装置 |
JP2012247221A (ja) * | 2011-05-25 | 2012-12-13 | Nikon Corp | エンコーダ、駆動システム、及び制御装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015065228A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
JP2019101114A (ja) * | 2017-11-29 | 2019-06-24 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
JP7037341B2 (ja) | 2017-11-29 | 2022-03-16 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置および露光方法 |
CN112540510A (zh) * | 2019-09-20 | 2021-03-23 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置及其性能评价方法 |
CN112540510B (zh) * | 2019-09-20 | 2024-06-04 | 株式会社Orc制作所 | 曝光装置及其性能评价方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6129579B2 (ja) | 2017-05-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6129579B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6818393B2 (ja) | 露光装置 | |
US20120050705A1 (en) | Photolithography system | |
JP2008089695A (ja) | 画像形成装置 | |
KR100686806B1 (ko) | 레이저 스캐너를 이용한 기판 패턴 노광 방법 | |
TWI688830B (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP6321386B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
WO2014174352A1 (ja) | 露光装置 | |
JP2008224943A5 (ja) | ||
JP6425522B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6148135B2 (ja) | 露光装置 | |
JP2005300805A (ja) | 描画装置 | |
JP7037341B2 (ja) | 露光装置および露光方法 | |
KR102413894B1 (ko) | 노광 장치 | |
JP6425521B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6904689B2 (ja) | 露光装置および露光装置用遮光部材 | |
JP2023139738A (ja) | 露光装置および露光位置測定方法 | |
JP2016188952A (ja) | 露光装置、露光装置用測光装置、および露光方法 | |
CN114967354A (zh) | 曝光装置和曝光方法 | |
JP7406946B2 (ja) | 露光装置およびその性能評価方法 | |
JP2004333874A (ja) | ビーム走査の制御信号を生成するパターン描画装置 | |
JP2013160934A5 (ja) | ||
CN1257226A (zh) | 打印机光学扫描系统和调整图像扫描起始点的方法 | |
TW202136922A (zh) | 曝光裝置及曝光方法 | |
JP6171654B2 (ja) | 画像形成装置、画像形成制御装置および画像形成装置制御方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160212 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161206 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170404 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170412 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6129579 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |