JP5691264B2 - 露光装置 - Google Patents
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
通常は、その後ガラス基板6を載置したステージ5のX,Y方向の移動量がコンピュータで算出され、ステージ5が所定の移動量だけ機械的に動かされて、最終的に左右(上下)のマーク中心を全て一致させることで、フォトマスク1とガラス基板6の位置の合わせ込みが達成される。このフォトマスク1とガラス基板6の位置合わせを正確にすればするほど、フォトマスク1に描かれたパターンをガラス基板6側へ正確に転写することが可能となる。
尚、基本的にフォトマスクは移動しないため、井形マーク中心座標は演算上では同じ位置である。
また、ステージの初期位置が、パターニングしている工程(例えば、ブラックマトリクス工程)で、パターンの経時変化(投入ロットによるBMパターンのトータルピッチ変化、環境の変化に起因するパターン変動)等が起きて大きく変動した場合でも、自動的に好ましい別の初期位置に戻すフィードバックが作用するという効果がる。
|LX|≦アライメント許容差X(予め設定した値)
|RX|≦アライメント許容差X(予め設定した値)
|LY|≦アライメント許容差Y(予め設定した値)
|RY|≦アライメント許容差Y(予め設定した値)
||LX|−|RX||≦アライメント許容差S(予め設定した値)
という条件である。ここでR,Lは基板の左右方向にアライメントマークがあることを示す。より精度をあげるために、アライメントマークが左右だけでなく、上下、隅とか2箇所以上設定されることもある。
この図は、許容差を3μmとした場合であるが、概ね、4回の移動で十字マークが井桁マークの中心に一致するという結果であった。図中、◆、△、□、○、+ の印は、井桁マークを原点とした場合の、1回目、2回目、3回目、4回目、5回目の移動後の十字マークのXY面上の位置である。
その後は、基板を処理するごとに新しい初期位置とその後の移動位置のデータが追加されていくので、それらのデータが逐次的に初期位置決定に使用されることになる。初期位置が決まれば、その後は従来法と同じような手順で、基板左右のアライメントマークが許容差内に収まるまで、画像認識と移動操作が繰り返され、途中の移動後の位置データは全てメモリーに保存されることになる(図5(C))。
2、撮像カメラ付顕微鏡
3、フォトマスクのアライメントマーク
4、基板側のアライメントマーク
5、ステージ
6、ガラス基板
7、支持台
8、フォトマスク押えバー
9、マスクパターン
Claims (2)
- 少なくとも、
被露光基板を載置するステージと、
該ステージを移動するための位置情報を保存するメモリーと、
該ステージを該位置情報に基づいて移動するためのアクチュエータと、
フォトマスクと被露光基板の2つのアライメントマークの画像を読み取るカメラと、
該画像を使用して位置情報を保存・算出する機構とを備え、
該フォトマスクと該被露光基板を位置合わせした上で該被露光用基板を露光する露光装置であって、
(1)該ステージに被露光基板が載置されると、
(2)該メモリーに保存されている所定枚数のガラス基板の該移動履歴のデータから該初期位置の算出を行い、該メモリーに保存し、
(3)該ステージ移動機構が、該メモリーに予め保存されている設置すべき初期位置に該ステージを移動し、
(4)移動後の該フォトマスクと該被露光基板の2つのアライメントマークの位置を該カメラで得た画像から認識し、
(5)該位置情報を保存・算出する機構が、該2つのアライメントマーク間の距離を計算し、
(6)該2つのアライメントマークが重なるようにするために必要な移動距離を計算し、
(7)該ステージ移動機構により、該移動距離だけ該ステージを移動し、
(8)アライメントマークの画像を取得し、移動後の該ステージの位置を算出し、
(9)該算出した位置を該メモリーに保存し、
(10) 該2つのアライメントマーク間の距離が所定の許容差内に収まらない場合は、(4)〜(9)の手順を繰り返し、
(11)該2つのアライメントマークの距離が所定の許容差内に収まった場合は、該被露光基板に露光処理を行うことを特徴とする露光装置。 - 前記被露光基板の初期位置を算出する方法が、所定の範囲内にある保存された位置情報の算術平均値とすることを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
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