JP6491833B2 - 高さ測定装置 - Google Patents
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Description
なお、レーザー装置101は、偏光方向118が、P偏光が入射方向に対して縦になる様設置することが重要である。つまりは、S偏光がウエハ面に対して並行になる様マルチスリット像を入射する。これによって、ウエハ表面に透明薄膜が存在しても、多重干渉による測定誤差を小さくすることができる。
次に、計算した各画素単位で分割した数の重心座標305で平均算出する。
Claims (5)
- 試料に対して光を照射する光源と、試料からの反射光を検出する受光素子と、当該受光素子から出力される信号に基づいて前記試料の高さを求める演算装置を備えた高さ測定装置において、
前記光源と前記試料との間に、複数のスリットが配列された2次元スリットを備え、前記演算装置は、2次元状に画素が配列された前記受光素子に投影される前記2次元スリットの投影像から得られる第1の方向の第1の重心座標の演算に基づいて、前記試料の高さを求めるものであって、前記演算装置は、前記第1の方向とは異なる第2の方向の画素単位で、前記複数の各スリットに対応する輝度分布からそれぞれのピーク座標を取得し、前記第2の方向の画素単位で、前記ピーク座標の平均から複数のスリットの第2の重心座標を算出し、当該第2の方向の画素単位で算出された複数の第2の重心座標の平均値を算出することによって、前記第1の重心座標を求めることを特徴とする高さ測定装置。 - 請求項1において、
前記2次元スリットは、前記第2の方向に長手方向を持つ複数のスリットを備えていることを特徴とする高さ測定装置。 - 請求項2において、
前記複数のスリット間の複数の間隔は、等間隔であることを特徴とする高さ測定装置。 - 請求項3において、
前記複数のスリットの前記長手方向の長さ、前記複数のスリット間の間隔、及び前記第1の方向のスリット幅の少なくとも1つが、前記第1の方向の位置に応じて段階的に変化するように形成されていることを特徴とする高さ測定装置。 - 請求項1において、
前記試料と受光素子との間に絞りが配置されていることを特徴とする高さ測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2014155684A JP6491833B2 (ja) | 2014-07-31 | 2014-07-31 | 高さ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2016033461A JP2016033461A (ja) | 2016-03-10 |
JP6491833B2 true JP6491833B2 (ja) | 2019-03-27 |
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Country Status (1)
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JP (1) | JP6491833B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11586116B2 (en) | 2020-12-18 | 2023-02-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6704813B2 (ja) * | 2016-08-05 | 2020-06-03 | キヤノン株式会社 | 計測装置、露光装置、および物品の製造方法 |
US10832976B2 (en) | 2017-01-12 | 2020-11-10 | Hitachi High-Tech Corporation | Charged particle beam device and optical examination device |
KR20220142476A (ko) * | 2020-03-13 | 2022-10-21 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 다중 하전 입자 빔 검사에서의 레벨링 센서 |
JP2024021405A (ja) * | 2022-08-03 | 2024-02-16 | 株式会社ヴィーネックス | 検査装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11149895A (ja) * | 1997-08-11 | 1999-06-02 | Hitachi Ltd | 電子線式検査または測定装置およびその方法、高さ検出装置並びに電子線式描画装置 |
JP3542478B2 (ja) * | 1997-12-19 | 2004-07-14 | 株式会社日立製作所 | 電子線式検査または測定装置およびその方法並びに光学的高さ検出装置 |
JP4426519B2 (ja) * | 2005-11-11 | 2010-03-03 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 光学的高さ検出方法、電子線測定装置および電子線検査装置 |
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2014
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11586116B2 (en) | 2020-12-18 | 2023-02-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Measurement apparatus, exposure apparatus, and article manufacturing method |
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Publication number | Publication date |
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JP2016033461A (ja) | 2016-03-10 |
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