JP2009016762A5 - - Google Patents
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Claims (8)
- レチクルを介して基板を露光する露光装置に用いられ、前記レチクルの位置及び前記基板の位置の少なくとも一方を検出する位置検出装置であって、
位置を変更可能な光学部材を含む光学系と、
前記光学系を介して前記レチクルの位置及び前記基板の位置の少なくとも一方を検出するためのマークからの光を受光して検出信号を出力する光電変換素子と、
前記光学部材の複数の位置と前記検出信号の波形の対称性との関係を表す波形対称性、及び、前記光学部材の複数の位置と、前記光学系の光軸方向の前記マークの位置を変えた際の前記マークの中心位置の傾きと、の関係を表すデフォーカス特性が許容値を満たすように、前記光学部材の位置を調整する制御部とを有し、
前記制御部は、前記波形対称性の情報を予め有していることを特徴とする位置検出装置。 - 前記波形対称性の許容値及び前記デフォーカス特性の許容値を設定する設定部を更に有することを特徴とする請求項1記載の位置検出装置。
- 前記制御部は、前記波形対称性の許容値を満たす前記光学部材の位置と前記デフォーカス特性の許容値を満たす前記光学部材の位置との中間の位置に前記光学部材が位置するように調整することを特徴とする請求項1記載の位置検出装置。
- 前記制御部は、前記波形対称性及び前記デフォーカス特性の各々に重み付けした重み付け量に基づいて、前記光学部材の位置を調整することを特徴とする請求項1記載の位置検出装置。
- 前記光学部材は、前記マークを照明するための光を射出する光源又は前記光学系の瞳面に配置された開口絞りを含むことを特徴とする請求項1記載の位置検出装置。
- レチクルを介して基板を露光する露光装置であって、
請求項1乃至5のうちいずれか1項に記載の位置検出装置を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項6に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。 - 位置を変更可能な光学部材を含む光学系を備え、被検物体の位置を検出する位置検出装置の調整方法であって、
前記被検物体の位置を検出するためのマークの前記光学系の光軸方向の位置を変えて、前記光学系を介して前記マークからの光を受光して検出信号を検出するステップと、
前記光学部材の複数の位置と前記検出信号の波形の対称性との関係を表す波形対称性、及び、前記光学部材の複数の位置と、前記光学系の光軸方向の前記マークの位置を変えた際の前記マークの中心位置の傾きと、の関係を表すデフォーカス特性が許容値を満たすように、前記光学部材の位置を調整するステップとを有することを特徴とする調整方法。
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