JP2007220767A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンを被処理体に投影する投影光学系とを備える露光装置であって、
   偏光状態を計測する偏光計測手段と、
   前記レチクルを照明するための有効光源分布内の複数の領域の偏光状態を各々調整可能な偏光調整手段と、
   前記偏光計測手段の計測結果に基づいて、前記偏光調整手段を介して前記複数の領域の各偏光状態を独立して制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置。
2. 前記偏光調整手段は、少なくとも２つの波長板を有することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
3. 前記少なくとも２つの波長板は、光軸に垂直な面内に配置されることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
4. 前記少なくとも２つの波長板は、光軸方向に重ねて配置されることを特徴とする請求項２記載の露光装置。
5. 前記偏光調整手段は、前記照明光学系の瞳位置に配置されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
6. 前記偏光調整手段は、前記投影光学系の瞳位置に配置されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
7. 前記制御部は、前記偏光計測手段の計測結果に基づいて、前記少なくとも２つの波長板の各々を独立して回転制御することを特徴とする請求項２記載の露光装置。
8. 前記偏光計測手段は、前記照明光学系の一部の光学素子又は前記照明光学系の全ての光学素子を経た光の偏光状態を計測することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
9. 前記偏光計測手段は、前記投影光学系を経た光の偏光状態を計測することを特徴とする請求項１記載の露光装置。
10. 請求項１乃至９のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
    露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。