JP2011029655A5 - - Google Patents
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- 第1のマイクロリソグラフィー投影系、第2のマイクロリソグラフィー投影系、及び、単一の光源を備える、マイクロリソグラフィー投影露光装置であって、
前記第1のマイクロリソグラフィー投影系は、
第1のパターンを照明するようになった、第1の照明系、及び
前記第1のパターンを第1の基板上に結像させる、第1の投影対物系
を備え、
前記第2のマイクロリソグラフィー投影系は、前記第1のマイクロリソグラフィー投影系から空間的に分離され、
第2のパターンを照明するようになった、第2の照明系、及び
前記第2のパターンを第2の基板上に結像させる、第2の投影対物系
を備え、
前記単一の光源は、前記第1のマイクロリソグラフィー投影系及び前記第2のマイクロリソグラフィー投影系の両方に割り振られている
前記マイクロリソグラフィー投影露光装置。 - 前記単一の光源の下流において光路内に、調節可能な光偏向器をさらに備え、前記調節可能な光偏向器は、前記単一の光源からの光を、前記第1の投影系への第1の部分路に沿って、または前記第2の投影系への第2の部分路に沿って偏向させうる、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記調節可能な光偏向器は、回転可能かつ/または変位可能な鏡を備え、あるいは、前記調節可能な光偏向器は、回転可能かつ/または変位可能な偏向プリズムを備える、請求項2に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記単一の光源の下流において光路内に、光学装置をさらに備え、前記光学装置は、前記単一の光源からの光の第1の部分を、前記第1の投影系への第1の部分路へ案内するようになり、また前記光学装置は同時に、前記単一の光源からの光の第2の部分を、前記第2の投影系への第2の部分路へ案内するようになった、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記光学装置はビームスプリッターを備える、請求項4に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記単一の光源は、260nmよりも短い波長の光を供給するようになった、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記第2の基板は前記第1の基板と同じである、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記第2のパターンは前記第1のパターンとは異なる、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記第1のパターンは振幅マスクであり、前記第2のパターンは位相マスクである、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 前記第1のマイクロリソグラフィー投影系及び前記第2のマイクロリソグラフィー投影系は、位置決め装置をそれぞれ備え、前記位置決め装置は、前記第1の基板に対する前記第2の基板の位置を、基板上に投影される最小の構造寸法以下の位置誤差で設定しうるように、計測支援を用いて基板の位置決めをするようになった、請求項1に記載のマイクロリソグラフィー投影露光装置。
- 感光層で被覆された基板の多重露光方法であって、
光源及び第1のマイクロリソグラフィー投影系を使用して、第1組の第1の露光パラメータにしたがって前記基板の第1の露光を行なう段階と;
光源及び第2のマイクロリソグラフィー投影系を使用して、第2組の第2の露光パラメータにしたがって前記基板の第2の露光を行なう段階であって、前記第2のマイクロリソグラフィー投影系は、前記第1のマイクロリソグラフィー投影系から空間的に分離されている、前記段階と
を備える方法。 - 前記光源からの光を、前記第1のマイクロリソグラフィー投影系への第1の部分路に沿って偏向させて、前記第1の露光を行なう段階、及び/または、前記光源からの光を、前記第2のマイクロリソグラフィー投影系への第2の部分路に沿って偏向させて、前記第2の露光を行なう段階
をさらに備える、請求項11に記載の方法。 - 前記第1の露光は、第1のマスクを使用して行なわれ、前記第2の露光は、第2のマスクを使用して行なわれ、前記第2のマスクは前記第1のマスクとは異なる、請求項11に記載の方法。
- 前記第1のパターンは振幅マスクであり、前記第2のパターンは位相マスクである、請求項13に記載の方法。
- 基板上に投影される最小の構造寸法以下の位置誤差で、前記第1の投影系における基板に対する前記第2の投影系における基板の位置を設定する段階をさらに備える、請求項11に記載の方法。
- 前記第1のマイクロリソグラフィー投影系及び前記第2のマイクロリソグラフィー投影系は、照明放射を提供する照明系をそれぞれ備え、
前記第1のマイクロリソグラフィー投影系における少なくとも1つの露光パラメータの値は、前記第2のマイクロリソグラフィー投影系における少なくとも1つの露光パラメータの値とは異なり、また
前記少なくとも1つの露光パラメータは、照明放射のコヒーレンス度σ、照明放射の環状性、照明放射の極性、及びマスクの少なくとも1つの構造方向に対する照明放射の配向からなる群から選ばれる
請求項11に記載の方法。 - 第1の照明系であって、該第1の照明系を通過する第1の光路内に配列された第1のパターンを照明するようになった、前記第1の照明系、
前記第1の照明系から空間的に分離されている第2の照明系であって、前記第1のパターンから空間的に分離され、前記第2の照明系を通過する第2の光路内に配列された第2のパターンを照明するようになった、前記第2の照明系、及び
光学素子であって、該光学素子が前記第1の光路及び前記第2の光路の両方における放射に影響するように、前記第1の光路及び前記第2の光路に置かれた、前記光学素子
を備える装置であって、
前記装置はマイクロリソグラフィー投影露光装置である、前記装置。 - 前記光学素子は反射光学素子を備える、請求項17に記載の装置。
- 前記光学素子は反射プリズムを備える、請求項17に記載の装置。
- 前記光学素子は、前記第1の照明系及び前記第2の照明系の上流に、前記装置の光源と前記第1の照明系及び前記第2の照明系の各々との間に置かれる、請求項17に記載の装置。
- 前記第1のパターン及び前記第2のパターンの少なくとも1つを基板上に結像させるようになった投影対物系をさらに備え、前記基板を前記第1のパターンの像及び前記第2のパターンの像の両方で多重露光するようになった、請求項17に記載の装置。
- 前記第1の光路内の前記第1のパターンの下流で前記第1のパターンと前記基板との間に置かれた、少なくとも1つの第1の光学要素、及び
前記第1の光学要素から空間的に分離され、前記第2の光路内の前記第2のパターンの下流で前記第2のパターンと前記基板との間に置かれた、少なくとも1つの第2の光学要素
をさらに備える、請求項17に記載の装置。 - 前記装置の光源と前記装置の投影対物系との間に反射プリズムをさらに備える、請求項17に記載の装置。
- 前記装置の光源と前記装置の投影対物系との間に配置されたビームスプリッターをさらに備える、請求項17に記載の装置。
- 前記第2のパターンは前記第1のパターンとは異なる、請求項17に記載の装置。
- 前記第1の照明系は、第1組の露光パラメータにしたがって第1の照明放射を提供するようになり、前記第2の照明系は、第2組の露光パラメータにしたがって第2の照明放射を提供するようになり、前記第1組の露光パラメータと前記第2組の露光パラメータとの間で、少なくとも1つの露光パラメータが異なる、請求項17に記載の装置。
- 前記異なる少なくとも1つの露光パラメータは、照明放射のコヒーレンス度σ、照明放射の環状性、照明放射の極性、及びマスクの少なくとも1つの構造方向に対する照明放射の配向からなる群から選ばれる、請求項26に記載の装置。
- 前記第1の光路内の前記第1のパターンの下流に配置された、第1の投影対物系、及び 前記第1の投影対物系から空間的に分離され、前記第2の光路内の前記第2のパターンの下流に配置された、第2の投影対物系
をさらに備える、請求項17に記載の装置。 - 前記第1の照明系及び前記第2の照明系の両方に割り振られている単一の光源をさらに備える、請求項17に記載の装置。
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