JP5912654B2 - 基板保持装置及びパターン転写装置並びにパターン転写方法 - Google Patents
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Description
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1(a)及び図1(b)は、第1の実施形態に係る基板保持装置の構成を例示する模式図である。
図1(a)は、模式的上面図であり、図1(b)は、模式的断面図である。
図1(a)及び図1(b)に表したように、本実施形態に係る基板保持装置110は、本体部10と、複数の第1支持部11と、を備える。
基板保持装置110は、基板5を着脱可能に保持する。基板5は、例えば、板状である。より詳しくは、円板状である。基板5は、例えば、半導体ウェーハである。基板保持装置110は、例えば、半導体リソグラフィ工程において、パターンを転写させる基板5の保持に用いられる。
図2(a)及び図2(b)に表したように、第1支持部11は、例えば、第1筒部31と、第2筒部32と、第1垂直方向駆動部41と、を含む。
第1筒部31及び第2筒部32は、例えば、Z軸方向に沿う筒状である。第1筒部31は、本体部10に取り付けられる。第1筒部31の内径は、例えば、第2筒部32の外径と実質的に同じである。第2筒部32は、第1筒部31の内部に嵌っている。第2筒部32は、第1筒部31にガイドされ、Z軸方向に移動する。この例において、先端部20は、第2筒部32に形成される。吸引管路21は、第1筒部31の内部空間と、第2筒部32の内部空間と、によって形成される。第1筒部31は、内側に向かって突出する突出部31aを有する。第2筒部32は、内側に向かって突出する突出部32aを有する。
図3(a)〜図3(c)に表したように、第1支持部11は、主面10aと平行な方向に先端部20を移動させるための平行方向駆動部42を、さらに含む。
平行方向駆動部42は、X軸方向に先端部20を移動させるX軸方向駆動部43と、Y軸方向に先端部20を移動させるY軸方向駆動部44と、を含む。
このように、第1支持部11は、X軸方向駆動部43及びY軸方向駆動部44を介して、X軸方向及びY軸方向に沿って移動可能に本体部10に取り付けられる。
図4(a)及び図4(b)に表したように、第2支持部12は、例えば、可動部51と、第2垂直方向駆動部52と、を含む。
可動部51は、例えば、Z軸方向に沿って延びる棒状である。可動部51は、例えば、Z軸方向に移動可能に本体部10に取り付けられる。第2垂直方向駆動部52は、可動部51に駆動力を付与し、可動部51をZ軸方向に移動させる。第2垂直方向駆動部52には、例えば、圧電素子、モータ、または、ソレノイドなどが用いられる。
第1計測部61は、複数の第1支持部11のそれぞれの先端部20の主面10aからの高さを計測する。第1計測部61は、例えば、発光部61aと、受光部61bと、を含む。第1計測部61は、例えば、発光部61aから照射される光を受光部61bで受光し、その受光の具合によって先端部20の高さを計測する光学センサである。
ここで、複数の第2支持部12を、第1グループ12aと第2グループ12bとの2つのグループに分ける(図1参照)。
第1グループ12aは、主面10aの中心に対して比較的外側に位置する第2支持部12である。第2グループ12bは、主面10aの中心に対して比較的内側に位置する第2支持部12である。
図5(a)に表したように、中心付近において上向きに盛り上がるように歪んだ基板5を、第1グループ12aの第2支持部12で支持する。
図5(b)に表したように、第1グループ12aの第2支持部12の可動部51を、第2位置から第1位置に移動させ、複数の第1支持部11に基板5を支持させる。この場合、比較的大きな歪みが、基板5に残ってしまう。
図5(d)に表したように、第2グループ12bの第2支持部12の可動部51を、第2位置から第1位置に移動させ、複数の第1支持部11に基板5を支持させる。この場合、第1グループ12aを用いた場合に比べて、基板5に残る歪みが小さくなる。
図6(a)に表したように、基板保持装置112は、第3支持部13に弾性体14を含む。弾性体14は、例えば、第3支持部13の先端13aの上に設けられる。弾性体14は、例えば、円環状である。弾性体14の先端14aの主面10aからの高さは、例えば、基準位置にある第1支持部11の先端部20の主面10aからの高さよりも高い。弾性体14には、例えば、弾性を有する樹脂材料が用いられる。
図7(a)に表したように、第1垂直方向駆動部41の先端41aは、Y軸方向に見た場合において、三角形状に尖った形状でもよい。こうすれば、平面状に形成された先端41aに比べて、基板5との接触面積が、より小さくなり、基板5の傷付きをより適切に抑えることができる。
図8は、第2の実施形態に係るパターン転写装置の構成を例示する模式図である。
図8に表したように、パターン転写装置210は、基板保持装置110と、原版保持部120と、転写部130と、制御部140と、を備える。
基板保持装置110は、第1の実施形態において説明した構成を用いることができる。基板保持装置110は、ステージ115に取り付けられる。ステージ115は、基板保持装置110を任意の方向に移動させる。ステージ115は、例えば、基板保持装置110に基板5を保持させるための位置と、保持された基板5に対してパターンを転写させる位置と、の間で、基板保持装置110を移動させる。
図9(a)に表したように、転写部130によって新たに転写させる転写パターンTPは、基板5の歪みを抑えても、例えば、投影レンズ132のディストーションにより、基板5に既に形成されている既存パターンEPとずれる。すなわち、重ね合わせ精度は、基板5の歪みだけでなく、例えば、投影レンズ132のディストーションにも起因する。
図10に表したように、実施形態に係るパターン転写装置210のパターン転写方法は、基板保持装置110に基板5を保持させるステップS110と、原版保持部120に原版122を保持させるステップS120と、複数の第1支持部11の先端部20の移動を複数の第1支持部11のそれぞれについて個別に制御し、基板5の歪みを調整するステップS130と、原版122のパターンを基板5に転写させるステップS140と、を含む。ステップS110〜ステップS130は、技術的に可能な範囲で入れ替えることができる。
図11に表したように、パターン転写装置220の原版122には、例えば、反射型マスクが用いられる。
照明光学系131は、原版保持部120に保持された原版122に向けて光を照射する。投影レンズ132は、原版122を反射した光を基板5に投影する。これにより、原版122に形成されているパターンが、基板5に転写される。すなわち、パターン転写装置220は、反射型の露光装置である。
図12に表したように、パターン転写装置230の原版122には、例えば、インプリントテンプレートが用いられる。
転写部130は、光源133と、テンプレート駆動部134と、を含む。光源133は、例えば、原版122に向けて紫外光を照射する。テンプレート駆動部134は、例えば、原版保持部120をZ軸方向に移動させ、原版保持部120に保持された原版122を基板5に接触させる。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
Claims (11)
- 主面を有する板状の本体部と、
前記主面上に配置され、それぞれ独立して移動可能な複数の第1支持部であって、前記複数の第1支持部のそれぞれは、第1パターンが転写される基板を吸着可能な吸着部と、
前記主面に対して垂直な第1方向に前記吸着部を移動させる垂直方向駆動部と、前記主面に対して平行な第2方向に前記吸着部を移動させる平行方向駆動部と、を有し、前記吸着部は、転写される前記第1パターンに応じて、独立して前記第1方向及び前記第2方向に移動可能である複数の第1支持部と、
を備えた基板保持装置。 - 前記主面上に配置され、前記第1方向に沿って移動可能な複数の第2支持部をさらに備え、
前記吸着部は、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが低い第1状態と、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが前記第1状態よりも高い第2状態と、の間で、前記第1方向に沿って移動可能であり、
前記第1状態の前記吸着部の位置から前記第2状態の前記吸着部の位置に向かう方向の、前記複数の第2支持部の端は、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが前記第1状態の前記高さよりも低い第3状態と、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが前記第2状態の前記高さよりも高い第4状態と、を有する請求項1記載の基板保持装置。 - 前記主面上に配置され、前記基板の外周部を支持する第3支持部を、さらに備えた請求項2に記載の基板保持装置。
- 前記第3支持部は、前記複数の第1支持部に支持された前記基板によって圧縮される弾性体を含む請求項3に記載の基板保持装置。
- 前記複数の第1支持部のそれぞれの前記吸着部の前記主面からの高さを計測する第1計測部を、さらに備えた請求項1〜4のいずれか1つに記載の基板保持装置。
- 前記複数の第1支持部のそれぞれの前記吸着部の前記第2方向の位置を計測する第2計測部を、さらに備えた請求項1〜5のいずれか1つに記載の基板保持装置。
- 第1パターンが形成された原版を着脱可能に保持する原版保持部と、
主面を有する板状の本体部と、
前記主面上に配置され、それぞれ独立して移動可能な複数の第1支持部であって、前記複数の第1支持部のそれぞれは、前記第1パターンが転写される基板を吸着可能な吸着部と、前記主面に対して垂直な第1方向に前記吸着部を移動させる垂直方向駆動部と、前記主面に対して平行な第2方向に前記吸着部を移動させる平行方向駆動部と、を有し、転写される前記第1パターンに応じて、独立して前記第1方向及び前記第2方向に移動可能である前記複数の第1支持部と、
を含む基板保持装置と、
前記複数の第1支持部のそれぞれの、前記第1方向及び前記第2方向への前記吸着部の移動を制御する制御部と、
前記第1パターンを前記基板に転写させる転写部と、
を備えたパターン転写装置。 - 前記基板保持装置は、前記主面に配置され、前記第1方向に沿って移動可能な複数の第2支持部をさらに含み、
前記吸着部は、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが低い第1状態と、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが前記第1状態よりも高い第2状態と、の間で、前記第1方向に沿って移動可能であり、
前記第1状態の前記吸着部の位置から前記第2状態の前記吸着部の位置に向かう方向の、前記複数の第2支持部の端は、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが前記第1状態の前記高さよりも低い第3状態と、前記主面からみた前記第1方向に沿う高さが前記第2状態の前記高さよりも高い第4状態と、を有し、
前記制御部は、支持される前の前記基板の形状を予め測定した測定情報を基に、前記複数の第2支持部のうちの少なくともいずれかを選択的に動作させる請求項7に記載のパターン転写装置。 - 前記制御部は、支持される前の前記基板の形状に関する情報を基に、前記複数の第1支持部のそれぞれの前記吸着部の前記主面からの高さ及び前記第2方向の位置を調整する請求項7または8に記載のパターン転写装置。
- 前記制御部は、前記基板に既に形成されている第2パターンと、前記転写部によって新たに転写させる前記第1パターンとの、相対的な位置ずれに関する位置ずれ情報を基に、
前記複数の第1支持部のそれぞれの前記吸着部の前記主面からの高さ及び前記第2方向の位置を調整する請求項7〜9のいずれか1つに記載のパターン転写装置。 - 請求項7〜10のいずれか1つに記載されたパターン転写装置を用いるパターン転写方法であって、
前記基板保持装置に前記基板を保持させる工程と、
前記原版保持部に前記原版を保持させる工程と、
前記複数の第1支持部のそれぞれの、前記第1方向及び前記第2方向への前記吸着部の移動を制御し、前記基板の歪みを調整する工程と、
前記パターンを前記基板に転写させる工程と、
を備えたパターン転写方法。
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