JPH05190414A - 基板吸着装置 - Google Patents
基板吸着装置Info
- Publication number
- JPH05190414A JPH05190414A JP640892A JP640892A JPH05190414A JP H05190414 A JPH05190414 A JP H05190414A JP 640892 A JP640892 A JP 640892A JP 640892 A JP640892 A JP 640892A JP H05190414 A JPH05190414 A JP H05190414A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- suction
- substrate
- warp
- suction surface
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manipulator (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 そりの大きな基板であっても矯正可能とし、
基板の吸着保持をより確実なものとする。 【構成】 搬送部３の先端に吸着部２を設ける。吸着部
２には吸引口２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄが設けられてお
り、吸着部２は駆動部３により基板５の吸着面Ｓに直交
する方向に移動可能である。移動可能な吸着部２は基板
５のそりが大きい場合でも基板５に接触可能となり、さ
らに基板５の吸着面Ｓの形状に合わせて較正可能とな
る。この結果吸着孔４は十分な面積で基板５を吸着保持
可能となる。
基板の吸着保持をより確実なものとする。 【構成】 搬送部３の先端に吸着部２を設ける。吸着部
２には吸引口２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄが設けられてお
り、吸着部２は駆動部３により基板５の吸着面Ｓに直交
する方向に移動可能である。移動可能な吸着部２は基板
５のそりが大きい場合でも基板５に接触可能となり、さ
らに基板５の吸着面Ｓの形状に合わせて較正可能とな
る。この結果吸着孔４は十分な面積で基板５を吸着保持
可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基板吸着装置に関し、特
にパターン描画装置や露光装置でパターンが形成される
基板を吸着面に合わせて吸着保持する装置に関するもの
である。
にパターン描画装置や露光装置でパターンが形成される
基板を吸着面に合わせて吸着保持する装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】集積回路や液晶デイスプレイ用回路用の
露光装置においては、基板のそりやねじれを矯正して基
板表面を焦点面に合致させて状態で保持するための基板
ホルダが必要である。また、プリント配線板製造用のス
クリーン印刷機等においても基板表面を所定の平面に合
致させた状態で基板を保持する必要がある。
露光装置においては、基板のそりやねじれを矯正して基
板表面を焦点面に合致させて状態で保持するための基板
ホルダが必要である。また、プリント配線板製造用のス
クリーン印刷機等においても基板表面を所定の平面に合
致させた状態で基板を保持する必要がある。
【０００３】図２は従来のこの種の装置を示す概略図で
ある。図２（ｂ）に示すように基板５は搬送系６により
吸着保持部１まで搬送され、平面度よく加工された吸着
面Ｓに対して上下動可能な搬送部３に受渡しされる。吸
着保持部１には弾性を有する吸着部材２が吸着面Ｓから
弾性量とほぼ等しいだけ突出して設けられており、搬送
部３が下降し、基板５は吸着部材２の上に搬送設置され
る。吸着部材２の吸引口は弾性部Ｌ、配管１０１を介し
て吸引手段（不図示）に連通されており、吸着部材２を
真空に引くことにより、弾性部Ｌが縮み、基板５を吸着
面Ｓに密着させる。吸着孔４は配管１０２を介して吸引
手段（不図示）に連通されており、吸着孔４を真空に引
くことにより基板５を吸着保持する。この際、基板５が
面の歪み等により吸着面Ｓと異なった面形状を有してい
る場合でも、弾性部Ｌを変形させることにより、基板５
を吸着面に合わせて変形（較正）させ、図２（ｃ）に示
すように吸着面Ｓに密着させることができる。
ある。図２（ｂ）に示すように基板５は搬送系６により
吸着保持部１まで搬送され、平面度よく加工された吸着
面Ｓに対して上下動可能な搬送部３に受渡しされる。吸
着保持部１には弾性を有する吸着部材２が吸着面Ｓから
弾性量とほぼ等しいだけ突出して設けられており、搬送
部３が下降し、基板５は吸着部材２の上に搬送設置され
る。吸着部材２の吸引口は弾性部Ｌ、配管１０１を介し
て吸引手段（不図示）に連通されており、吸着部材２を
真空に引くことにより、弾性部Ｌが縮み、基板５を吸着
面Ｓに密着させる。吸着孔４は配管１０２を介して吸引
手段（不図示）に連通されており、吸着孔４を真空に引
くことにより基板５を吸着保持する。この際、基板５が
面の歪み等により吸着面Ｓと異なった面形状を有してい
る場合でも、弾性部Ｌを変形させることにより、基板５
を吸着面に合わせて変形（較正）させ、図２（ｃ）に示
すように吸着面Ｓに密着させることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の如き従
来の技術においては、基板５のそりやねじれが大きい場
合、基板５が吸着部材２のみで支持されず（例えば吸着
部材２の１つの吸引口と吸着面Ｓで支持される）、基板
５の吸着ができなくなるという問題点があった。また、
基板５の面変形量（面較正量）は吸着部材２の弾性部Ｌ
の変形量に依存するため、基板５のそりやねじれが大き
い場合、基板５が吸着面Ｓから浮き上がってしまい、基
板を吸着保持することができないという問題点があっ
た。これは、基板上に適正な画像が形成されず、あるい
は適正な印刷が行われず不良品を製造することになって
しまう。
来の技術においては、基板５のそりやねじれが大きい場
合、基板５が吸着部材２のみで支持されず（例えば吸着
部材２の１つの吸引口と吸着面Ｓで支持される）、基板
５の吸着ができなくなるという問題点があった。また、
基板５の面変形量（面較正量）は吸着部材２の弾性部Ｌ
の変形量に依存するため、基板５のそりやねじれが大き
い場合、基板５が吸着面Ｓから浮き上がってしまい、基
板を吸着保持することができないという問題点があっ
た。これは、基板上に適正な画像が形成されず、あるい
は適正な印刷が行われず不良品を製造することになって
しまう。
【０００５】また、基板搬送部３と吸着部材２とが別々
に設けられているため、吸着面Ｓに対する吸着部材２の
専有面積が大きくなる（図２（ｃ）参照）。これにより
基板保持用の吸着孔４の数が少なくなり、特に外形寸法
の小さい基板の場合、吸着力が不足するという問題点が
あった。この発明はかかる点に鑑みてなされたものであ
り、吸着面と大きく異なる面形状を有する基板でも面形
状を較正した状態で、かつ十分な吸引力で吸着保持可能
な装置を得ることを目的とする。
に設けられているため、吸着面Ｓに対する吸着部材２の
専有面積が大きくなる（図２（ｃ）参照）。これにより
基板保持用の吸着孔４の数が少なくなり、特に外形寸法
の小さい基板の場合、吸着力が不足するという問題点が
あった。この発明はかかる点に鑑みてなされたものであ
り、吸着面と大きく異なる面形状を有する基板でも面形
状を較正した状態で、かつ十分な吸引力で吸着保持可能
な装置を得ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決の為に
本発明では、基板（５）が吸着保持される吸着面であっ
て複数の吸着孔（４）を有する吸着面（Ｓ）と基板を吸
着面上に載置するように吸着面と直交する方向に可動可
能な搬送手段（３、２０１）と吸着孔と接続され、基板
を吸着面に吸着固定する吸引手段（１０１）とを備えた
基板吸着装置において、搬送手段と一体に設けられ、吸
引手段に接続された吸引口（２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ）
を表面に有する吸着部材（２）を備え、吸着部材が吸着
面と直交する方向に移動可能とした。
本発明では、基板（５）が吸着保持される吸着面であっ
て複数の吸着孔（４）を有する吸着面（Ｓ）と基板を吸
着面上に載置するように吸着面と直交する方向に可動可
能な搬送手段（３、２０１）と吸着孔と接続され、基板
を吸着面に吸着固定する吸引手段（１０１）とを備えた
基板吸着装置において、搬送手段と一体に設けられ、吸
引手段に接続された吸引口（２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ）
を表面に有する吸着部材（２）を備え、吸着部材が吸着
面と直交する方向に移動可能とした。
【０００７】
【作用】本発明の基板吸着装置においては、弾性部を有
する吸着部材２が搬送部３により吸着面Ｓから十分突出
した状態で基板５と当接するため、基板５は吸着部材２
のみで支持される。これにより、基板５が大きく変形し
ていても、吸着部材２の吸引口は基板５に接触するた
め、吸着部材２による基板５の吸着が可能となる。
する吸着部材２が搬送部３により吸着面Ｓから十分突出
した状態で基板５と当接するため、基板５は吸着部材２
のみで支持される。これにより、基板５が大きく変形し
ていても、吸着部材２の吸引口は基板５に接触するた
め、吸着部材２による基板５の吸着が可能となる。
【０００８】また、吸着部２が基板５を吸着した状態
で、搬送部３により吸着部２を吸着面Ｓに向かって移動
させることにより、基板５の面形状を吸着面Ｓにほぼ一
致するように較正可能となる。さらに、搬送部３の先端
に吸着部２の吸引口を設けて、搬送部３を上下動させる
構成としたので、前述の従来技術と比較して吸着孔４の
吸着面積に占める吸着部２，及び搬送部３の面積比を小
さくできる。
で、搬送部３により吸着部２を吸着面Ｓに向かって移動
させることにより、基板５の面形状を吸着面Ｓにほぼ一
致するように較正可能となる。さらに、搬送部３の先端
に吸着部２の吸引口を設けて、搬送部３を上下動させる
構成としたので、前述の従来技術と比較して吸着孔４の
吸着面積に占める吸着部２，及び搬送部３の面積比を小
さくできる。
【０００９】
【実施例】本発明の一実施例を図１を参照して説明す
る。図２と同様の部材には同様の符号が付してある。図
において、吸着保持部１の吸着面Ｓには吸着孔４が所定
の間隔で複数個設けられている。この吸着孔４は配管１
０２を介して吸引手段２００に連通されている。また、
吸着保持部１には吸着面Ｓに対して直交する方向（Ｚ方
向）に上下動可能な搬送部３が設けられている。搬送部
３はアーム３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄの４つのアームを有
しており、本実施例では各々のアームは駆動部２０１に
より一体に上下動可能となっている。各々のアームの先
端部には吸着部２が設けられており、吸着部２には各々
Ｚ方向に変位可能な弾性部Ｌが設けられている。弾性部
Ｌは側壁断面形状がベローズ状に形成されており、Ｚ方
向に伸縮可能な構造となっている。弾性部Ｌの構造はこ
れに限るものでなく、また、バネ等の弾性力を利用した
ものでもよい。
る。図２と同様の部材には同様の符号が付してある。図
において、吸着保持部１の吸着面Ｓには吸着孔４が所定
の間隔で複数個設けられている。この吸着孔４は配管１
０２を介して吸引手段２００に連通されている。また、
吸着保持部１には吸着面Ｓに対して直交する方向（Ｚ方
向）に上下動可能な搬送部３が設けられている。搬送部
３はアーム３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄの４つのアームを有
しており、本実施例では各々のアームは駆動部２０１に
より一体に上下動可能となっている。各々のアームの先
端部には吸着部２が設けられており、吸着部２には各々
Ｚ方向に変位可能な弾性部Ｌが設けられている。弾性部
Ｌは側壁断面形状がベローズ状に形成されており、Ｚ方
向に伸縮可能な構造となっている。弾性部Ｌの構造はこ
れに限るものでなく、また、バネ等の弾性力を利用した
ものでもよい。
【００１０】吸着部２の各々には吸引口２ａ、２ｂ、２
ｃ、２ｄが設けられており、各々の吸着口はアームの先
端部より突出して設けられている。この吸着口は配管１
０１を介して吸引手段２００に連通されている。搬送系
６はＸ方向に移動可能に構成されており、半導体ウエ
ハ、液晶ディスプレイ用のガラス基板等の基板５は搬送
系６により吸着保持部１上に搬送される。これらの構成
により搬送部３は基板５を吸着したままＺ方向に移動可
能であり、基板５の面形状を吸着面Ｓの面形状に合わせ
て較正することが可能である。従って本実施例の装置で
は基板５面が吸着面Ｓより大きくことなっている場合で
も較正可能であり、基板５は良好に吸着保持可能とな
る。尚、吸着面Ｓの面形状は直線、または曲線状に形成
されているものとする。また、ここではアームは４本
（支持点は４点）であるものとしたが、これに限るもの
でなく、支持点が３点であれば各点の吸着部材は確実に
基板５に接触する。
ｃ、２ｄが設けられており、各々の吸着口はアームの先
端部より突出して設けられている。この吸着口は配管１
０１を介して吸引手段２００に連通されている。搬送系
６はＸ方向に移動可能に構成されており、半導体ウエ
ハ、液晶ディスプレイ用のガラス基板等の基板５は搬送
系６により吸着保持部１上に搬送される。これらの構成
により搬送部３は基板５を吸着したままＺ方向に移動可
能であり、基板５の面形状を吸着面Ｓの面形状に合わせ
て較正することが可能である。従って本実施例の装置で
は基板５面が吸着面Ｓより大きくことなっている場合で
も較正可能であり、基板５は良好に吸着保持可能とな
る。尚、吸着面Ｓの面形状は直線、または曲線状に形成
されているものとする。また、ここではアームは４本
（支持点は４点）であるものとしたが、これに限るもの
でなく、支持点が３点であれば各点の吸着部材は確実に
基板５に接触する。
【００１１】本実施例における動作を簡単に説明する。
搬送部６は基板５を吸着保持部１上に搬送する。搬送部
３は吸引口２ａ〜２ｄが基板５と接触するまで基板５へ
向かってＺ方向に移動する。接触後ＶＡＣ１がＯＮさ
れ、基板５と吸引口２との間の空気が引き込まれる（真
空が引かれる）と吸着部２の弾性部Ｌが変形し、吸着部
２は基板５を吸着保持する。その後搬送部３は基板５を
吸着したまま、吸着面Ｓへ向かってＺ方向に移動し、基
板５の面形状が吸着面Ｓとほぼ一致するように移動を続
ける。そして吸着孔４の相当数が基板５と接触したとき
（基板５の面形状が較正されたとき）、ＶＡＣ２がＯＮ
して真空が引かれ基板５を吸着保持する。その後、ＶＡ
Ｃ２をＯＮしたまま、ＶＡＣ１をＯＦＦして真空を解除
する。図１（ｃ）この状態を示しており、ここでは吸着
部２が基板５を吸着した後も真空をひきつづけていたた
め、弾性部Ｌが下のほうに向かって変形している状態を
示している。真空の解除のタイミングによっては図２
（ｃ）ように変形する場合もある。
搬送部６は基板５を吸着保持部１上に搬送する。搬送部
３は吸引口２ａ〜２ｄが基板５と接触するまで基板５へ
向かってＺ方向に移動する。接触後ＶＡＣ１がＯＮさ
れ、基板５と吸引口２との間の空気が引き込まれる（真
空が引かれる）と吸着部２の弾性部Ｌが変形し、吸着部
２は基板５を吸着保持する。その後搬送部３は基板５を
吸着したまま、吸着面Ｓへ向かってＺ方向に移動し、基
板５の面形状が吸着面Ｓとほぼ一致するように移動を続
ける。そして吸着孔４の相当数が基板５と接触したとき
（基板５の面形状が較正されたとき）、ＶＡＣ２がＯＮ
して真空が引かれ基板５を吸着保持する。その後、ＶＡ
Ｃ２をＯＮしたまま、ＶＡＣ１をＯＦＦして真空を解除
する。図１（ｃ）この状態を示しており、ここでは吸着
部２が基板５を吸着した後も真空をひきつづけていたた
め、弾性部Ｌが下のほうに向かって変形している状態を
示している。真空の解除のタイミングによっては図２
（ｃ）ように変形する場合もある。
【００１２】以上の動作によりプレート５の吸着動作が
完了する。以上説明したように、そりの大きい基板であ
ってもそりを矯正した状態で吸着面に吸着することがで
きる。次に本発明における吸着機構の別の実施例を説明
する。図１に示す第１の実施例では搬送部３は駆動部２
０１により一体に移動する構成となっていたが、本実施
例ではアーム３ａ〜３ｄを個別に駆動可能とするもので
ある。このとき駆動部２０１は各々のアームを個別に駆
動できる。アームを個別に駆動可能とすることにより、
基板５の非対称な変形にたいしても変形の大きい部分の
みのアームの駆動量を多くする等、吸引口（２ａ〜２
ｄ）と基板５とを接触させることができ、良好な吸着が
可能となる。さらに、基板５の較正時に加える力（較正
時の駆動量）をアーム毎に調整可能となる。
完了する。以上説明したように、そりの大きい基板であ
ってもそりを矯正した状態で吸着面に吸着することがで
きる。次に本発明における吸着機構の別の実施例を説明
する。図１に示す第１の実施例では搬送部３は駆動部２
０１により一体に移動する構成となっていたが、本実施
例ではアーム３ａ〜３ｄを個別に駆動可能とするもので
ある。このとき駆動部２０１は各々のアームを個別に駆
動できる。アームを個別に駆動可能とすることにより、
基板５の非対称な変形にたいしても変形の大きい部分の
みのアームの駆動量を多くする等、吸引口（２ａ〜２
ｄ）と基板５とを接触させることができ、良好な吸着が
可能となる。さらに、基板５の較正時に加える力（較正
時の駆動量）をアーム毎に調整可能となる。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、そりの大
きな基板であっても、そりを矯正した状態で吸着保持す
ることが可能となる。また、基板を吸着保持する吸着孔
の面積和を増やすことができ、吸着保持を確実に行え
る。かかる基板吸着装置を用いれば、基板のそりによっ
て製造工程が乱れたり、不良品が発生することを回避で
きる。
きな基板であっても、そりを矯正した状態で吸着保持す
ることが可能となる。また、基板を吸着保持する吸着孔
の面積和を増やすことができ、吸着保持を確実に行え
る。かかる基板吸着装置を用いれば、基板のそりによっ
て製造工程が乱れたり、不良品が発生することを回避で
きる。
【図１】（ａ）本発明の一実施例による基板吸着装置を
吸着面方向からみた平面図、（ｂ）（ａ）の装置の基板
搬送後の側面図、（ｃ）（ａ）の装置の基板矯正後の側
面図、
吸着面方向からみた平面図、（ｂ）（ａ）の装置の基板
搬送後の側面図、（ｃ）（ａ）の装置の基板矯正後の側
面図、
【図２】（ａ）従来技術による基板吸着装置を吸着面方
向からみた平面図、（ｂ）（ａ）の装置の基板搬送後の
側面図、（ｃ）（ａ）の装置の基板矯正後の側面図であ
る。
向からみた平面図、（ｂ）（ａ）の装置の基板搬送後の
側面図、（ｃ）（ａ）の装置の基板矯正後の側面図であ
る。
１…吸着保持部 ２…吸着部 ２ａ、２ｂ、２ｃ、２ｄ…吸引口 ３…搬送系 ３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ…アーム ４…吸着孔 ５…基板 ６…搬送系 １０１、１０２…配管 ２００…吸引手段 ２０１…駆動部 Ｓ…吸着面 Ｌ弾性部
Claims (2)
- 【請求項１】基板が吸着保持される吸着面であって複数
の吸着孔を有する吸着面と、前記基板を吸着面上に載置
するように前記吸着面と直交する方向に可動可能な搬送
手段と、前記吸着孔と接続され、前記基板を前記吸着面
に吸着固定する吸引手段とを備えた基板吸着装置におい
て、 前記搬送手段と一体に設けられ、前記吸引手段に接続さ
れた吸引口を表面に有し、前記吸着面と直交する方向に
変位可能な弾性部を有する複数の吸着部材を備え、 該吸着部材が前記吸着面と直交する方向に移動可能であ
ることを特徴とする基板吸着装置。 - 【請求項２】前記吸着部材が個別に移動可能であること
を特徴とする請求項１記載の基板吸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP640892A JPH05190414A (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 基板吸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP640892A JPH05190414A (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 基板吸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05190414A true JPH05190414A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=11637547
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP640892A Pending JPH05190414A (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 基板吸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05190414A (ja) |
Cited By (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1992
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