JPH10335435A - 枚葉式ウエハ用化学気相堆積/エッチングプロセスチャンバのための石英ピンリフト - Google Patents
枚葉式ウエハ用化学気相堆積/エッチングプロセスチャンバのための石英ピンリフトInfo
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- JPH10335435A JPH10335435A JP10121230A JP12123098A JPH10335435A JP H10335435 A JPH10335435 A JP H10335435A JP 10121230 A JP10121230 A JP 10121230A JP 12123098 A JP12123098 A JP 12123098A JP H10335435 A JPH10335435 A JP H10335435A
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- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
Abstract
るために配置された面を有するサセプタを含む。 サセ
プタは複数の案内用凹みを有する。 ウエハ支持装置は
リフトピン自身から延びる複数のピンを有するピンリフ
トを含む。複数のピンは、サセプタの複数の案内用凹み
を通り、ウエハの底面と係合するように構成されてい
る。 サセプタは、サセプタの面にほぼ垂直の方向に複
数のピンに対して動かされるように構成されている。
Description
で利用される装置に関する。特に、本発明はウエハ支持
装置に関する。
れる過程においては、プロセスが発生される密閉チャン
バ内に配置された、加熱サセプタ或いはウエハ支持体の
使用を含む特定のプロセスが利用される。これらのプロ
セスのいくつかは、例えば、エピタキシャルシリコン層
の成長、シリコンの上の熱酸化物或いは熱窒化物層の形
成、すでにウエハの上に形成されている集積回路構造の
急速熱アニーリングなどを含む。通常は、サセプタ、サ
セプタ支持体或いはウエハ支持体等の装置が、下から水
平にウエハを支持するために使用されているであろう。
めのアセンブリ100を示す。アセンブリ100は、半
導体ウエハ104が載置されて水平に支持されたサセプ
タ102を含む。サセプタ102は、通常サセプタ支持
体108によって支持され、サセプタ支持体108は、
互いに120°の角度に配置された方向に沿って外方に
延びる3つのサセプタ腕部109を有するシャフト11
6を含む。サセプタ支持体108は、更に3本の脚部1
10を含む。脚部110は各々、サセプタ腕部109の
対応する遠隔端(remote end)から上方へ延びており、
サセプタ102の底面と係合して、もってサセプタ10
2を支持している。更に、サセプタ支持体108は、シ
ャフト116から中央のサセプタ102まで上方へ延び
た中央の脚部117を含む。
た3つの貫通穴(through-hole)113を含み、その3
つは、ウエハ104の直径より小さい直径を有する円の
上に互いに120°の角度で配置されている。ウエハ1
04を支持する3本のリフトピン112が、ウエハ10
4を支持するために、アセンブリ100のサセプタ10
2の3つの穴113を通して取り付けられている。図1
は、アセンブリ100にウエハ104を搬入或いは除去
するために、ウエハ104とサセプタ102との間にロ
ボットアーム103が配置されることができるように、
ウエハ104がサセプタ102から取り外された位置で
リフトピン112によって支持されているウエハ104
を示している。ウエハ104とサセプタ102の間の変
位は、ウエハ104を同位置で固定させて維持している
最中に、サセプタ支持体108をウエハ104に関して
下方に動かすことによって形成されるであろう。
に増加する直径でテーパ削りされた、サセプタ102の
上面に隣接して位置する上部を有しているであろう。徐
々に増加する直径でテーパ削りされた部分が、リフトピ
ン112の上の端部に同様に形成されている。このテー
パ削りされた部分は、ウエハ104がサセプタの上に直
接載置されたときにリフトピン112をサセプタの高さ
で止めるために、貫通穴113のテーパ削りされた部分
と一致するようになっており、それによって、リフトピ
ン112がサセプタを通って落ちることが防止されてい
る。
通常、サセプタ102の貫通穴113及びサセプタ支持
腕部109の貫通穴115を通して降下されて上から取
り付けられる。リフトピン112の取り付けは、サセプ
タ102が不透明なグラファイトから作られており、ピ
ン112が貫通穴113を通して差し込まれた後、サセ
プタの上からサセプタ腕部109の貫通穴115を見る
ことが実際不可能にされるために、困難である。
エハ104は、シールされた処理チャンバ(図示せず)
内に位置している。チャンバは、例えば二重のドーム形
のチャンバ(図示せず)であり、そこでこれらの装置
は、チャンバ内のサセプタの下に、上のウエハ104と
同様に対称的に配置された複数の加熱装置(加熱ラン
プ)によって加熱される。加熱ランプからの熱は、上に
載置されたウエハ104とともに、サセプタ102を加
熱するためにサセプタの裏側にドームを通して発散され
る。ウエハはまた、ウエハとサセプタの上に置かれた上
部ドームの上方に位置する加熱ランプの第2のセットに
よって加熱される。
部117の使用によって、加熱ランプによって行われる
加熱に関して、サセプタ102全体にわたってむらのあ
る熱分配がもたらされる。これは、サセプタ102の中
央部が、中央の脚部117を通してシャフト116に熱
的に結合していることと、中央の脚部117によってサ
セプタ102の下側に影ができることによって、加熱ラ
ンプからサセプタ102まで発散している熱分配にむら
ができることとによる。このようなむらのある加熱、或
いは、サセプタ102の熱の不均一性は、更にウエハ1
04の加熱のむらをもたらすであろう。
中央部リフト122から外方に延びる3つのウエハリフ
ト腕部120を有するウエハリフト装置を含むであろ
う。ウエハリフト腕部120は、ウエハ中央部リフト1
22と通常一体になっているであろう。この設計は、異
なった直径を有するウエハが処理されるときに、全部の
ウエハリフト装置(ウエハリフト腕部120とウエハ中
央部リフト122)の交換を必要とするため、不利であ
る。この設計の他の不利な点は、下方へのサセプタ支持
体108の動きがウエハリフト腕部120によって限定
され、もってウエハ104とサセプタ102の間に提供
される変位が制限されることである。更に他の不利な点
は、ピン112を支持するパッド123を有するウエハ
リフト腕部120が、それらの配置によって影を作ると
いうことである。
108は、シャフト116の下部に取り付けられている
回転機構によって回転されるであろう。このような回転
が起こるときは、ウエハリフト腕部120とウエハ中央
リフト122は静止されている。このような構成では、
シャフト116が回転するときに、回転機構が、シャフ
トのサセプタの特定の位置に取り付けられていることが
必要である。この特定の位置とは、シャフト116の回
転が終了するときに腕部109を案内しているピン11
2の底部がパッド123と一致するように、腕部がウエ
ハリフト腕部120と整列される位置で止められること
を確保する位置である。このような回転機構の正確な取
り付けは、制限的であって望ましくない。
び熱的均一性又は熱分配を行うことができるサセプタ支
持体を、ウエハ支持装置に提供し、もって、処理される
半導体ウエハ全体にわたるより均一な加熱又は熱分配を
達成することが望ましい。異なった大きさを有するウエ
ハに対して中央部ウエハリフトの交換が不要なウエハ支
持装置を提供することも望ましい。また、サセプタ支持
体の調整を妨害しないウエハ支持体を提供することも望
ましい。
装置を提供する。ウエハ支持装置は、ウエハを支持する
ように構成された面を有するサセプタを含む。サセプタ
は複数の案内用凹みを有する。ウエハ支持装置はウエハ
支持体も含んでおり、そのウエハ支持体には複数のウエ
ハ支持部材が接続されている。複数のウエハ支持部材
は、サセプタの複数の案内用凹みを通ってウエハと係合
するように構成されている。サセプタは、複数のウエハ
支持部材に対して、サセプタの面にほぼ垂直方向に動く
ように構成されている。
下の詳細な説明 、添付請求項及び付随図面から一層明
白になるであろう。
発明の完全な理解を提供するために明らかにされる。し
かしながら、当業者は、本発明がこれらの特定の細部な
しで実施され得ることを認識するであろう。場合によっ
ては、既知の構造と技術については、本発明を不明瞭に
するのを避けるために、詳細に示されていない。
0を説明したものである。通常、ウエハ支持装置200
は、半導体製造装置のプロセスチャンバ(図示せず)の
中で、ウエハ205の底面207から水平にウエハ20
5を支持するように構成されている。ウエハ支持装置2
00はサセプタ208を含み、その上面210はウエハ
205の底面207と係合するように構成されている。
サセプタ208は通常円板の形をしている。また、サセ
プタ208は良好な熱伝導率を提供するようにグラファ
イトから作られている。しかしながら、本発明はグラフ
ァイトから作られている円板の形をしたサセプタに限定
されない。サセプタは、ウエハ205を支持するために
他の適切な形を有していてもよく、良好な熱伝導率を提
供するグラファイト以外の材料から作られていてもよ
い。サセプタ208は、ウエハ支持装置200とウエハ
205を内蔵するプロセスチャンバ(図示せず)内に存
在し得る腐食性の材料に対する化学的安定性を強めるた
めに、シリコンカーバイドのコーティングを施されてい
るであろう。
直径より小さい直径を有する円形に配置された複数の案
内用凹み212を含む。しかしながら、当業者は、本発
明を、サセプタの上に配置された案内用凹み212がウ
エハ205の周囲と整列されるように実行することもで
きる。本明細書で記述されている本発明の実施形態で
は、案内用凹み212は貫通穴である。サセプタ208
はサセプタ支持体によって支持されており、サセプタ支
持体は、シャフト204と、シャフト204から外方に
延びる第1の複数のサセプタ支持腕部216(以下、
「サセプタ支持スポーク」と呼ぶ)とを含む。本発明の
1つの実施形態において、3本のサセプタ支持スポーク
216は、互いに約120°の角度でシャフト204か
ら延びている。スポーク216は、シャフト204に溶
接されていてもよく、或いはシャフト204が軸方向に
上下に動かされたときに、シャフト204と共にスポー
ク216が軸方向に動くことができるような他の方法で
取り付けられていてもよい。図2に関して記述した本発
明の実施形態では、スポーク216はサセプタ208の
方向にわずかに上方に向かって延びている。しかし、本
発明はこの形状に限定されない。更に、サセプタ支持体
は、各サセプタ支持スポーク216に関してサセプタ支
持脚部218を含んでおり、サセプタ支持脚部218は
サセプタ支持スポーク216の各自由端から上方へ延び
てサセプタ208の底面と係合し、もってサセプタ20
8の直径より小さい直径を有する円形で互いに120°
の角度で配置された3点においてサセプタ208を支持
する。
を支持する3本のサセプタ支持脚部218に限定されて
いないことは、当業者によって正当に評価されるべきで
ある。しかし、このようなサセプタ支持脚部の数は特定
の具体例のよって変わるであろう。また、不連続の数を
有するサセプタ支持脚部の代わりに、本発明に従って、
円筒状のカラー等の連続的な(360°の)のサセプタ
支持「脚部」を用いるウエハ支持装置も設計され得る。
が低部においてモータに結合され得るために、上下動す
るであろう。モータは、シャフトの上下動を引き起こ
し、もってサセプタ支持体の上下動を引き起こすことが
できる。サセプタ支持体の上下動は、ウエハ205に対
するサセプタ208の変位を引き起こすことができ、ウ
エハ205はウエハ支持体222(以下、「ピンリフト
装置222」と呼ぶ)によって支持される。ピンリフト
装置222は通常石英から作られている。しかし、当業
者は石英と密接に関係がある特性を有する他の材料を使
ってもよい。ピンリフト装置222は、中央部分、ハブ
223を含む。ハブは、シャフト204の上部の、サセ
プタ支持腕部216が外方に延びている部分に隣接し
た、サセプタ支持スポーク216に取り付けられてい
る。ピンリフト装置222は、更に、ハブ223の上の
部分に接続された複数のピンリフト腕部226(以下、
「ピンリフトスポーク226」と呼ぶ)を含む。更に、
ピンリフト装置222は、スポーク226の(ハブ22
3から離れた)自由端に付けられた複数のウエハ支持部
材224(以下、「リフトピン」と呼ぶ)を含む。本明
細書に記述した本発明による実施形態において、ピンリ
フト装置222は、3本のピンリフトスポーク226
と、ピンリフトスポーク226に対応している3本のリ
フトピン224とを含む。しかしながら、本発明は3本
のスポーク226と3本のリフトピン224の点に関し
てはこれに限定されない。
0°の角度で配置されており、ウエハの周辺部220に
向かって外方且つわずかに上方に延びている。スポーク
226は、ハブ223とスポーク226が軸方向に上下
に、或いは回転方向に、共に動くように、ハブ223に
付けられている。スポーク226はハブ223と一体形
成されていてもよいが、本発明はこの点に関して限定さ
れない。また、リフトピン224は、ハブ223が軸方
向に上下動されたときハブ223と共に上下動するよう
に、或いはハブ223が回転されたときに、ともに移動
するようにスポーク226と一体形成されていてもよ
い。本明細書に記述した本発明による実施形態におい
て、リフトピン224はスポーク226の両側に垂直に
延びており、各ピン224は、スポーク226の下に延
びる下部230と、案内用凹み212に向かってスポー
ク226の上に延びる上部232とを有する。
4がサセプタ208の案内用凹み212と整列されるよ
うに構成されており、サセプタ208がピンリフト装置
222に対して上下動されるときに、リフトピン224
の上部232の一部が案内用凹み212を通るようにな
っている。ピンリフト装置222は、サセプタ208の
案内用凹み212がテーパ構成された上部を有する必要
なく、クリアランスホールを単に含めばよい態様でリフ
トピン224を支持し、サセプタ208の製造コストが
低減される。各リフトピン224の下部230は、複数
のスポーク216を通して構成された対応する貫通穴2
50を通過するように構成されている。従って、ピン2
24は、サセプタ支持腕部216及びサセプタ208に
対して上下動する。ピンリフト装置222の、ゆえにピ
ン224の、サセプタ208に対する上下動は、ピンリ
フト装置222が静止中の、サセプタ支持体の垂直動に
よって引き起こされるであろう。ハブ223を有するサ
セプタ支持腕部216、スポーク226とピン224
は、回転が回転装置(図示せず)によって誘発されると
きに、共に回転され得ることに注意されたい。回転装置
は、サセプタ支持体に回転の動きを与えるためにシャフ
ト204の下部に取り付けられているであろう。
るウエハ支持装置は、サセプタ支持体の腕部216と実
質的に(重ねられて)整列された腕部226を備える。
これらの腕部は、回転装置が取り付けられてシャフト2
04が回転されたときに、腕部216と整列された状態
で共に動かされるであろう。腕部216の上方で腕部2
16と整列されて配置された腕部226を有することに
よって、図1で示した実施形態に関連して説明した陰に
なる問題は、実質的に低減される。更に、腕部216と
共に回転し、腕部216と整列された腕部26を有する
ことによって、回転装置はシャフト204のどの位置に
取り付けられてもよく、図1に関連して示したアセンブ
リのように3箇所の位置のみに限定される必要がなくな
る。本発明に関して使用され得る回転装置或いは回転機
構に関する情報のためには、アプライド マテリアルズ
インコーポレイテッドに譲渡された、米国特許出願第
5,421,893号明細書を参照されたい。
23を含むピンリフト装置222と、外方に延びるスポ
ーク226と、スポーク226から垂直に延びるリフト
ピン224を示す。中央ハブ223は、一般に円筒中空
形状であって、ハブ223に沿って縦に延びるスリット
238を含む。スリット238は、ハブ223のベース
240から上方の棟部(ridges)242まで延びてい
る。スリット238は、サセプタ支持スポーク216を
通るように構成されている(図2に示す)。上方の棟部
242は、サセプタ支持スポーク216が上方の棟部2
42と係合した後、サセプタ支持スポーク216がハブ
223に対して更に上方に動くことを阻止するために構
成されている。スポーク226は、スリット238を通
してサセプタ支持スポーク216を取り付ける際に、ス
ポーク226と216が整列するように、スリット23
8に重ねられることに注目されたい。このような整列に
よって 、スポーク226がスポーク216と整列され
ていない場合に引き起こされたであろう影になる問題が
低減される。
08の間に変位を引き起こす一つの方法は、ピンリフト
装置222が固定されているとき、ハブ223(図3)
のスリット238を通してサセプタ支持スポーク216
の相対的な動きを作り出すことである。この相対的な動
きは、ハブ223(図3)のベース240がウエハ中央
リフト装置252のリム253に係合するときに起こ
る。ウエハ中央リフト装置252は、シャフト204を
収容するように構成された中空の一般に円筒状の形を有
する。ウエハ中央リフト装置252は、(図示せず)モ
ータの下部254に取り付けられていてもよく、そのモ
ータは、ウエハ中央リフト装置252を「上」或いは
「下」に動かす。ハブ223(図3)のベース240が
ウエハリフト装置252の上部リム253と係合し、ウ
エハ中央リフト装置252が静止しているならば、シャ
フト204は、ハブ223(図3)のスリット238を
通してサセプタ支持スポーク216を下方に「引っ張っ
て」下方に動き、これにより、サセプタ208を下方に
動かす。ウエハ中央リフト装置252を静止させておく
ことによって、従って、ピンリフト装置222を静止さ
せておくことによって、サセプタ支持体の下方への動き
は、ピン224によって支持されている間、静止してい
るウエハ205と、サセプタ支持体の垂直動によって下
方に動かされるサセプタ208との間に変位を引き起こ
す。ピンリフト装置222を有する本発明の構成によ
り、従来のウエハ支持装置によるサセプタ支持体の変位
と比較して、サセプタ支持体の変位が増加される。
ウエハ205とサセプタ208との間の変位は減少す
る。サセプタ支持スポーク216がハブ223の上部棟
部242に到達すると、サセプタ支持スポーク216の
いかなる上方の動きに対しても、ピンリフト装置222
とウエハ205をサセプタ208とともに動かして、ウ
エハ205とサセプタ208の間の距離が変化しないよ
うになっている。
2の第2の実施形態を示す。この実施形態では、ピンリ
フト装置422は、スポーク426の1つの面(上面)
からのピンリフト装置422のスポーク426から上方
に延びるリフトピン424を含む。この実施形態によれ
ば、サセプタ支持スポーク416を通ってピン424の
上下動を許容する案内用凹みを用いる必要がなく、リフ
トピン424を上下に案内するのにはサセプタ408に
設けられた穴412で十分である。従ってピンリフト装
置422は壊れにくくなり、ウエハ支持装置402への
取り付けは、単にピン424を貫通穴412に通すこと
によって成されるので、大いに容易にされる。
れたセンタポスト440を含んでいてもよい。センタポ
スト440は、シャフト404の直径より小さい直径を
有し、ピンリフト装置422に追加の案内を提供する段
階として構成されている。図4に示すピンリフト装置4
22は、ポスト440の直径とほぼ等しい直径の中空部
を有する環状部材450を含む。また、センタポスト4
40は、サセプタ支持体が、ウエハリフト装置452の
上のリム453に向かい重力によって移動するのを助長
する追加重量を提供する。
2の第3の実施形態を示す。この実施形態では、ピンリ
フト装置522は、スポーク526の自由端から上方に
延びるリフトピン524が周囲520においてウエハ5
05と係合するように構成されている。周囲からウエハ
505を持ち上げることによって、この実施形態では、
図1のピン224で引き起こされる可能性のあるウエハ
体の過冷点/過熱点を低減するために役立つ。更に、任
意で、ウエハ支持体502は、段になったポスト550
と552を有する上部を設けたシャフト504を備える
ようにしてもよい。ポスト550は、シャフト504の
直径より小さい直径を有する。更に、ポスト552は、
ポスト550の直径より小さい直径を有する。ポスト5
22は、サセプタ508を真中に置くために提供されて
いる。ポスト552の比較的小さい直径によってサセプ
タ支持体508の中心に作られる影が最小化されること
に注意されたい。
ウエハに支持体を提供するプロセスのフローチャートを
示す。プロセスは602で始まり、そこからブロック6
04に至る。ブロック604において、ウエハ支持体が
サセプタ支持体に取り付けられる。ウエハ支持体は、ウ
エハ支持体自身から延びた複数のウエハ支持部材を有す
る。ウエハ支持体は、図2〜図5に関連して説明したよ
うなウエハ支持体であってもよい。ウエハ支持体から延
びるウエハ支持部材は、図2〜図5で示されるリフトピ
ンであってもよい。プロセスはブロック606に至り、
そこではサセプタがサセプタ支持体に取り付けられる。
サセプタは、サセプタがサセプタ支持体に取り付けられ
るときの部材となるように構成された複数の案内用凹み
を有する。サセプタは、図2〜図5に関連して説明され
た実施形態に示されたように、サセプタ支持体が多くの
不連続点でサセプタを保つように、サセプタ支持体に取
り付けられてもよい。プロセスはブロック608に至
り、ウエハ支持部材(ピン)が案内用凹みを通して突き
出ないならば、ウエハはサセプタに置かれる。ウエハは
代わりに、ウエハがウエハ支持体と整列されるように、
ウエハ支持部材に取り付けられてもよい。
態に関して記述された。しかし、種々の変形と変更を、
添付請求項に示された発明の精神と範囲から外れること
なく行い得ることは明白であろう。明細書と図面は、従
って、限定するものではなく、例示のためのものであ
る。それゆえ、発明の範囲は添付請求項によってのみ限
定されるべきである。
す図である。
れるウエハ支持体を示す図である。
を示す図である。
を示す図である。
法を示す図である。
04、504…シャフト、205、405、505…ウ
エハ、208…サセプタ、212…案内用凹み、216
…サセプタ支持スポーク、218…サセプタ支持脚部、
222、422、522…ピンリフト装置、223…ハ
ブ、224、424、524…リフトピン、226…ピ
ンリフトスポーク、238…スリット、240…ベー
ス、242…棟部、412…穴、440…センタポス
ト、450…環状部材、452…ウエハリフト装置、4
53…リム。
Claims (37)
- 【請求項1】 ウエハを支持するように構成された面を
有するサセプタであって、複数の案内用凹みを有するサ
セプタと、 中央部及び前記中央部に接続された複数のウエハ支持部
材を有するウエハ支持体であって、前記複数のウエハ支
持部材が前記サセプタの前記複数の案内用凹みを通して
前記ウエハと係合するように構成されたウエハ支持体
と、を備え、 前記サセプタが、前記面に対してほぼ垂直方向に動くよ
うに構成されているウエハ支持装置。 - 【請求項2】 前記ウエハ支持体が前記中央部から外方
に延びた第1の複数の腕部を含み、前記第1の複数の腕
部が自由端を有する請求項1に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項3】 前記ウエハ支持体の各前記複数のウエハ
支持部材が、前記第1の複数の腕部の対応した腕部か
ら、前記サセプタの対応する案内用凹みに向かって延び
た請求項2に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項4】 前記複数のウエハ支持部材が、前記サセ
プタの前記複数の案内用凹みと整列されている請求項1
に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項5】 前記ウエハ支持体と係合し、前記ウエハ
支持体を前記サセプタの前記面に対してほぼ垂直の方向
に動かすように構成されたウエハリフト装置を更に含む
請求項1に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項6】 前記サセプタを支持し、且つ前記サセプ
タの前記面とほぼ垂直方向に動くように構成されたサセ
プタ支持体を更に含む請求項1に記載のウエハ支持装
置。 - 【請求項7】 シャフト、及び前記シャフトから延びた
第2の複数の腕部を含む請求項6に記載のウエハ支持装
置。 - 【請求項8】 前記第1の複数の腕部が、前記第2の複
数の腕部と整列するように構成された請求項7に記載の
ウエハ支持装置。 - 【請求項9】 前記サセプタが前記サセプタ支持体によ
って支持されたときに、前記サセプタの前記案内用凹み
と整列するように構成された複数の貫通穴を、前記第2
の複数の腕部が含む請求項7に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項10】 前記中央部が複数のスリットを有する
ハブを含み、前記第2の複数の腕部が前記ハブを通して
案内される請求項7に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項11】 前記ハブが前記スリットの末端を成す
複数の棟部を含んでおり、前記複数の棟部は、前記第2
の複数の腕部が前記複数の棟部と係合したときに、前記
第2の複数の腕部が前記ハブに対して上方に動くことを
停止するように構成されている請求項10に記載のウエ
ハ支持装置。 - 【請求項12】 前記複数のスリットが前記第1の複数
の腕部と整列されている請求項10に記載のウエハ支持
装置。 - 【請求項13】 前記ウエハ支持部材が、前記ウエハと
周囲で係合するように構成された請求項1に記載のウエ
ハ支持装置。 - 【請求項14】 前記サセプタ支持体に回転運動を与え
る装置を更に備えた請求項6に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項15】 回転運動が前記サセプタ支持体に与え
られたときに、前記ウエハ支持体がサセプタ支持体とと
もに回転されるように構成された請求項14に記載のウ
エハ支持装置。 - 【請求項16】 前記複数のウエハ支持部材が複数のウ
エハ支持ピンを含む請求項1に記載の支持装置。 - 【請求項17】 前記ウエハ支持体が動かされたとき
に、前記ウエハ支持部材が前記ウエハ支持体とともに動
かされるように構成された請求項1に記載のウエハ支持
装置。 - 【請求項18】 ウエハを支持するように構成された面
を有するサセプタであって、複数の案内用凹みを有する
サセプタと、 中央部及び前記中央部に接続された複数のウエハ支持部
材を有するウエハ支持体であって、前記複数のウエハ支
持部材が前記サセプタの前記複数の案内用凹みを通して
前記ウエハに係合するように構成されたウエハ支持体
と、を含むチャンバを備え、 前記サセプタが前記面にほぼ垂直の方向に動かされるよ
うに構成された装置。 - 【請求項19】 前記ウエハ支持体が、前記中央部から
外方に延びた第1の複数の腕部を含み、前記第1の複数
の腕部が自由端を有する請求項18に記載の装置。 - 【請求項20】 前記ウエハ支持体の各前記複数のウエ
ハ支持部材が、対応した前記第1の複数の腕部から前記
サセプタの対応した案内用凹みに向かって延びた請求項
19に記載の装置。 - 【請求項21】 前記複数のウエハ支持部材が、前記サ
セプタの前記複数の案内用凹みと整列された請求項18
に記載のウエハ支持装置。 - 【請求項22】 前記ウエハ支持体と係合し、前記サセ
プタの前記面に対してほぼ垂直の方向に前記ウエハ支持
体を動かすように構成されたウエハリフト装置を更に備
えた請求項18に記載の装置。 - 【請求項23】 前記サセプタを支持し、且つ前記サセ
プタの前記面にほぼ垂直の方向に動かされるように構成
されたサセプタ支持体を更に含む請求項18に記載の装
置。 - 【請求項24】 前記サセプタ支持体が、シャフト及び
前記シャフトから延びた第2の複数の腕部を含む請求項
23に記載の装置。 - 【請求項25】 前記第2の複数の腕部が、前記サセプ
タが前記サセプタ支持体によって支持されたときに、前
記サセプタの前記案内用凹みと整列するように構成され
た複数の貫通穴を含む請求項24に記載のウエハ支持装
置。 - 【請求項26】 前記中央部が、前記第2の複数の腕部
を通るように案内する複数のスリットを有するハブを含
む請求項24に記載の装置。 - 【請求項27】 前記ハブは前記スリットに達する複数
の棟部を含み、前記複数の棟部は前記第2の複数の腕部
が前記複数の棟部に係合したときに、前記第2の複数の
腕部が前記ハブに対して上方に動くのを阻止するように
構成された請求項26に記載の装置。 - 【請求項28】 前記ウエハ支持部材が、前記ウエハの
周囲で前記ウエハと係合するように構成された請求項1
8に記載の装置。 - 【請求項29】 前記サセプタ支持体に回転運動を与え
る装置を更に備えた請求項23に記載の装置。 - 【請求項30】 回転運動が前記サセプタ支持体に与え
られたときに、前記ウエハ支持体が前記サセプタ支持体
とともに回転されるように構成された請求項29に記載
の装置。 - 【請求項31】 前記複数のウエハ支持部材が複数のウ
エハ支持ピンを含む請求項18に記載の装置。 - 【請求項32】 前記ウエハ支持体が動かされたとき
に、前記ウエハ支持部材が前記ウエハ支持体とともに動
かされるように構成された請求項18に記載の装置。 - 【請求項33】a)ウエハ支持体自身から延びた複数の
ウエハ支持部材を有するウエハ支持体を、サセプタ支持
体に取り付けるステップであって、 b)前記サセプタ支持体に取り付けられるときに前記ウ
エハ支持部材と整列されるように構成された複数の案内
用凹みを有するサセプタを、前記サセプタ支持体に取り
付けるステップと、 c)ウエハを前記サセプタ及び前記ウエハ支持部材の一
方の上に置くステップと、を備えた半導体ウエハを処理
する装置におけるウエハを支持する方法。 - 【請求項34】 前記サセプタ支持体が前記ウエハ支持
部材に対して下方に動かされたときに、前記ウエハ支持
部材によって前記ウエハを支持するステップを更に備え
た請求項33に記載の方法。 - 【請求項35】 前記サセプタ支持体とともに前記ウエ
ハ支持体を回転することを更に含む請求項33に記載の
方法。 - 【請求項36】 複数の案内用凹みを有し、ウエハを支
持するように構成された面を有するサセプタと、 前記サセプタを支持するように構成されたサセプタ支持
体と、 前記サセプタ及び前記サセプタ支持体の間に配置された
ウエハ支持体と、を備え、 前記ウエハ支持体は中央部及び該中央部に接続された複
数のウエハ支持部材を有し、前記複数のウエハ支持部材
は、前記サセプタの前記複数の案内用凹みを通って前記
ウエハと係合するように構成されており、 前記サセプタ支持体は、前記ウエハ支持体の下を前記面
とほぼ垂直の方向に動くように構成されたウエハ支持装
置。 - 【請求項37】 複数の案内用凹みを有し、ウエハを支
持するように構成された面を有するサセプタと、 前記サセプタを支持するように構成されたサセプタ支持
体と、 前記サセプタ及び前記サセプタ支持体の間に配置された
ウエハ支持体と、を備え、 前記ウエハ支持体は中央部及び該中央部に接続された複
数のウエハ支持部材を有し、前記複数のウエハ支持部材
は、前記サセプタの前記複数の案内用凹みを通って前記
ウエハと係合するように構成されており、 前記ウエハ支持体に係合し、前記サセプタの前記面にほ
ぼ垂直の方向に前記ウエハ支持体を動かすように構成さ
れたウエハリフトを備えたウエハ支持装置。
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