JPH0410452A - 基板の縦型搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、縦向きのウェハなどの基板を裏面吸着して縦
にしたまま搬送する搬送ハンドと縦型ステージに設けら
れた基板保持手段との間で、前記基板を縦にしたまま該
基板の受渡しを行う基板の縦型搬送装置に関するもので
ある。

〔従来の技術〕

半導体装置、特に半導体メモリの大容量化に伴ない、半
導体製造装置における微細化技術の向上が叫ばれている
。

該微細化技術の向上の一手段として、シンクロトロン放
射光を光源とするＸ線露光装置があるが、該Ｘ線露光装
置は従来の遠紫外光などを光源とする露光装置と異なり
、ウェハおよびマスクを縦に配置した構成となっている
（たとえば、特願昭６３−２５２９９１号）。

このようなＸ線露光装置においては、次に示す理由によ
り、縦向きのウェハを搬送ハンドで裏面吸着して縦にし
たまま搬送して、縦型ステージに設けられた基板保持手
段と該搬送ハンドとの間で、前記ウェハを縦にしたまま
該ウェハの受渡しを行う基板の縦型搬送装置が用いられ
る。

（１）ウェハは前記縦型ステージに設置されて露光され
るため、従来のようにウェハを横にして搬送するもので
は、前記基板保持手段あるいは前記搬送ハンドのいずれ
かに該ウェハを縦にする機能が必要となる。

（２）ウェハ上に描かれるパターンの線幅の微細化に伴
ない、従来のようにウェハを横にして搬送するものでは
、該ウェハ搬送時のごみの付着が問題となる。

第４図（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ基板の縦型搬送装置の
従来例の一つを示す概略構成図である。

この基板の縦型搬送装置は、縦向きのウェハ１０１を裏
面吸着して縦にしたまま搬送する搬送ハンド１１２と、
該ウェハ１０１が設置される不図示の縦型ステージに設
けられた、前記ウェハ１０１を縦にしたまま前記搬送ハ
ンド１１２と該ウェハ１０１の受渡しをする基板保持手
段であるウェハチャック１１３と、前記搬送ハンド＋１
２が取り付けられている平行リンク＋０４と、該平行リ
ンク１０４が取り付けられているブロック１１４と、該
ブロック１１４が取り付けられており、前記搬送ハント
１１２を２軸方向（第４図（Ｂ）の紙面垂直方向）に移
動させるための２ステージ１１５とを有する。ここで、
ウェハチャック１１３と搬送ハンド１１２とはともにウ
ェハ１０１の裏面を吸着するため、該ウェハチャック１
１３は該ウェハ１０１の中心部の裏面を吸着し、前記搬
送ハント１１２は該ウェハ１０１の左半分（第４図（Ｂ
））の前記ウェハチャック１１３が当接する部分よりも
外側の裏面を吸着する構成となっている。

この基板の縦型搬送装置では、搬送ハンド１１２からウ
ェハチャック１１３ヘウエハ１０１を渡すときには、該
搬送ハンド１１２の位置を不図示のセンサで確認しつつ
、前記ウェハ１０１がウェハチャック１１３に少し押付
けられる位置まで２ステージ１１５を不図示の駆動装置
により移動させる。その後、前記ウェハチャック１１３
で前記ウェハ１０１の裏面を吸着させたのち、前記搬送
ハンド１１２の吸着を解除する。一方、ウェハチャック
１１３から搬送ハンド１１２ヘウエハ１０１を渡すとき
には、該ウェハチャック１１３により裏面が吸着されて
いる前記ウェハ１０１の裏面を前記搬送ハンド１１２に
よっても吸着させたのち、前記ウェハチャック１１３の
吸着を解除し、前記駆動装置により２ステージ１１５を
駆動して前記搬送ハンド１１２を次の工程の位置まで移
動させる。

〔発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上述した従来例の基板の縦型搬送装置で
は、次のような欠点があるため、ウェハチャック１１３
に十分な吸着力を持たせることが困難であったと同時に
、ウェハ】０１を脱落させることなく確実にウェハチャ
ック１１３と搬送ハンド１１２との間で該ウェハ１０１
を受渡しさせることが困難であった。

（１）ウェハチャック１１３と搬送ハンド１１２はとも
にウェハ１０１の裏面を吸着するため、両者の吸着力が
ほぼ等しくなるように両者の吸着面積を決める必要があ
る。しかし、前記ウェハ１０１の裏面の面積には限りが
あるため、該ウェハ１０１を脱落させない十分な吸着力
を両者ともに持たせるだけの吸着面積を確保することが
難しい。

（２）ウェハ１０１の受渡しのときに該ウェハ１０１を
脱落させないためには、該受渡し時のウェハチャック１
１３の吸着面と搬送ハンド１１２の吸着面との平行度を
高精度に調整する必要があるが、第４図に示した搬送ハ
ンド＋１２をＺステージ１１５で移動させるものでは、
前記平行度を高精度に調整することには限界がある。

本発明の目的は、基板保持手段に十分な吸着力を与えら
れると同時に、基板保持手段と搬送ハンド間の基板の受
渡しを、該基板が脱落することなく確実に行える信頼性
の高い基板の縦型搬送装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の基板の縦型搬送装置は、縦向きの基板を裏面吸
着して縦にしたまま搬送する搬送ハントと、前記基板を
縦にしたまま該搬送ハンドと該基板の受渡しをする基板
保持手段とを有するものであって、前記基板保持手段は
、第１の吸着チャックと、該第１の吸着チャックと同一
平面上に吸着面をもち、受渡し位置にある前記基板の面
の法線方向に移動可能な第２の吸着チャックとを有し、
該第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間で前記基板の
受渡しを行う。

また、前記基板保持手段は、前記第２の吸着チャックと
前記搬送ハンド間での前記基板の受渡し時の該基板の傾
き誤差を吸収し、該第２の吸着チャックを支持する誤差
吸収手段を有していてもよい。

［作用］ 基板保持手段は、第１の吸着チャックと、該第１の吸着
チャックと同一平面上に吸着面をもち、受渡し位置にあ
る基板の面の法線方向に移動可能な第２の吸着チャック
とを有し、該第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間で
前記基板の受渡しを行うことにより、該基板を受取った
前記第２の吸着チャックを、その吸着面が前記第１の吸
着チャックの吸着面と同一平面上にくる位置まで移動さ
せたのち、これら２つの吸着チャックで前記基板の裏面
を吸着させることができるので、前記基板保持手段に十
分な吸着力を与えられる。

また、前記基板保持手段は、前記第２の吸着チャックと
前記搬送ハンド間での前記基板の受渡し時の該基板の傾
き誤差を吸収し、該第２の吸着チャックを支持する誤差
吸収手段を有することにより、前記基板が多少傾いてい
ても前記第２の吸着チャックの吸着面を該基板の傾きに
応じて傾かせることができるため、該基板の受渡し時に
前記第２の吸着チャックまたは前記搬送ハンドの吸着面
の全面を該基板の裏面に押し当てることができるので、
前記基板の受渡し時の脱落を防止することができ、前記
基板保持手段と前記搬送ハンド間の該基板の受渡しの信
頼性を向上させることができる。

［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図（Ａ）、（Ｂ）はそれぞれ本発明の基板の縦型搬
送装置の第１の実施例を示す概略構成図、第２図は第１
図に示した第２の吸着チャック２０の支持方法を示す概
略構成図である。

本実施例の基板の縦型搬送装置では、縦向きのウェハ１
１は搬送ハンド１２により裏面吸着されて縦にしたまま
搬送される。また、該ウェハ１１が設置される不図示の
縦型ステージに設けられた、該ウェハ１１を縦にしたま
ま前記搬送ハンド１２と該ウェハ１１の受渡しをする基
板保持手段は、該ウェハ１１の周方向外側の裏面を吸着
する円筒の形状を有する第１の吸着チャック１７と、前
記ウェハ１１の中心部の裏面を吸着する、該第１の吸着
チャック１７と同一平面上に吸着面をもつ円板の形状を
有する第２の吸着チャック２０と、該第２の吸着チャッ
ク２０を前記ウェハ１１の受渡し位置［第１図（Ａ）で
第２の吸着チャック２０を破線で示す位置］まで該ウェ
ハ１１の面の法線方向（Ｚ軸方向）に沿って移動させる
、該第２の吸着チャック２０の直径と同じ外径を有する
２駆動軸１９と、第２図に示すように該Ｚ駆動軸１９と
該第２の吸着チャック２０との互いに対向する面の間に
等間隔に設けられた、前記ウェハ１１の受渡し時の該ウ
ェハ１１の傾き誤差を吸収し、該第２の吸着チャック２
０を支持する誤差吸収手段である４本の波形状に屈曲さ
れた板ばね２２１〜２２４とから構成されている。

ここで、前記搬送ハンド１２は、前記受渡し位置におい
て前記第２の吸着チャック２０と重ならないようにＵ字
形の形状をしており、支持アーム１４および固定ブロッ
ク１５を介してＸ軸方向（図中左右方向）に移動可能な
Ｘステージ１６に取り付けられている。また、前記第１
の吸着チャック１７の中心部に設けられたガイド孔１７
ａには、前記２駆動軸１９が反収着面側から嵌挿されて
おり該ガイド孔１７ａに案内されて軸方向に摺動自在に
構成されている。さらに、前記２駆動軸１９は、前記縦
型ステージに設けられたシリンダなどの直動のアクチュ
エータ（不図示）により駆動されてＺ軸方向にリニアに
移動する。

前記第１の吸着チャック１７には第１の吸着ライン１８
を介して、前記第２の吸着チャック２０には第２の吸着
ライン２１を介して、前記搬送ハンド１２には第３の吸
着ライン１３を介して、前記ウェハ１１を真空吸着する
ための不図示の真空発生源がそれぞれ接続されている。

次に、本実施例の基板の縦型搬送装置の動作について説
明する。

搬送ハンド１２から基板保持手段ヘウエハ１１を渡すと
きには、該搬送ハンド１２の位置を不図示のセンサで確
認しつつ、受渡し位置までＸステージ１６を不図示の駆
動装置により移動させる。その後、第２の吸着チャック
２０の吸着面が前記ウェハ１１の裏面に当接する位置ま
で、前記アクチュエータにより２駆動軸１９を２軸方向
（第１図（Ａ）の下方向に）に前進させる。このとき、
前記第２の吸着チャック２０はＺ軸方向。

Ｘ軸回転方向（ω、力方向、Ｙ軸回転方向（ωア方向）
に自由に移動できるように４本の前記板ばね２２１〜２
２４で前記Ｚ駆動軸１９に支持されているため、該第２
の吸着チャック２０が前記ウェハ１１の裏面に当接した
ときに該ウェハ１１が傾いていても、該第２の吸着チャ
ック２０の吸着面が該傾きに応じて傾くので、該吸着面
の全面を該ウェハ１１の裏面に押当てることができる。

前記２駆動軸１９の前進が終了すると、前記第２の吸着
ライン２１を前記真空発生源に連通させることにより前
記第２の吸着チャック２ｏの吸着面に前記ウェハ１１を
真空吸着させたのち、前記搬送ハンド１２の吸着を解除
する。

該搬送ハンド１２の吸着を解除したのち、前記ウェハ１
１の裏面が前記搬送ハンド１２の吸着面から完全に離れ
る位置（以下、不干渉位置と呼ぶ）まで、前記アクチュ
エータにより前記２駆動軸１９を２軸方向にさらに前進
させたのち、前記Ｘステージ１６を前記駆動装置により
第１図（Ａ）の図示左側に移動し、前記搬送ハンド１２
を退避させる。そして、前記第２の吸着チャック２０の
吸着面が前記第１の吸着チャック１７の吸着面と同一平
面上にくる位置（以下、初期位置と称する）まで、前記
アクチュエータにより前記２駆動軸１９を後退させたの
ち、前記第１の吸着ライン１８を前記真空発生源に連通
させることにより、前記第１の吸着チャック１７の吸着
面にも前記ウェハ１１を真空吸着させて、すべての動作
を終了する。

一方、基板保持手段から搬送ハンド１２ヘウエハ１１を
渡す場合には、まず、該ウェハ１１の裏面を真空吸着し
ている第１の吸着チャック１７および第２の吸着チャッ
ク２０のうち、該第１の吸着チャック１７による真空吸
着を解除したのち、前記アクチュエータにより２駆動軸
１９を前記不干渉位置まで前進させる。そして、Ｘステ
ージ１６を前記駆動装置により駆動して、前記搬送ハン
ド１２を受渡し位置まで進ませたのち、前記アクチュエ
ータによりＺ駆動軸１９を該受渡し位置まで後退させ、
前記ウェハ１１の裏面を前記搬送ハンド１２の吸着面に
当接させる。このとき、該ウェハ１１の面が該搬送ハン
ド１２の吸着面に対して傾いていても、前述したように
前記第２の吸着チャック２０を支持している４本の前記
板ばね２２、〜２２４により該傾きは吸収されるので、
該搬送ハンド１２の吸着面の全面に前記ウェハ１１の裏
面を押当てることができる。その後、該搬送ハンド１２
により該ウェハ１１の裏面を真空吸着したのち、前記第
２の吸着チャック２０による真空吸着を解除し、前記ア
クチュエータにより前記２駆動軸１９を前記初期位置ま
で後退させて、すべての動作を終了する。

以上説明したように、本実施例の基板の縦型搬送装置で
は、ウェハ１１を受取った基板保持手段は、第１の吸着
チャック１７と第２の吸着チャック２０とにより該ウェ
ハ１１の裏面の大部分を真空吸着するため、第４図に示
した従来例のものよりも大きな吸着力で該ウェハ１１を
吸着することができるので、該ウェハ１１の落下を防止
することができる。また、第２の吸着チャック２０と搬
送ハンド１２間でのウェハ１１の受渡し時において該ウ
ェハ１１が傾いていても、該傾きは該第２の吸着チャッ
ク２０を支持している４本の前記板ばね２２．〜２２４
により吸収されるので、該第２の吸着チャック２０の吸
着面と搬送ハンド１２の吸着面との平行度を高精度に調
整しなくても、前記ウェハ１１の受渡しを確実に行える
。

第３図は本発明の基板の縦型搬送装置の第２の実施例を
示すウェハ３１の受渡し部分の概略構成図である。

本実施例の基板の縦型搬送装置は、搬送ハンド３２とウ
ェハ３１の受渡しを行う第２の吸着チャック４０が該ウ
ェハ３１の周方向外側の裏面を吸着する点、および該第
２の吸着チャック４０と前記搬送ハンド３２間での前記
ウェハ３１の受渡し時の該ウェハ３１の傾き誤差を吸収
し、該第２の吸着チャック４０を支持する誤差吸収手段
として３本のコイルばね４２．〜４２．を用いている点
が、第１図に示した実施例のものと異なる。

本実施例の基板の縦型搬送装置では、第２の吸着チャッ
ク４０がウェハ３１の周方向外側の裏面を吸着するため
、該第２の吸着チャック４０は円板の一部をＵ字形にく
りぬいた形状を有し、搬送ハンド３２は該ウェハ３１の
受渡し時に前記第２の吸着チャック４０と重ならないよ
うに、該第２の吸着チャック４０のくりぬかれた部分と
同様の形状を有する。また、第１の吸着チャック３７は
前記搬送ハンド３２と同じ形状を有し、その吸着面と前
記第２の吸着チャック４０の吸着面とが初期位置におい
て同一平面上にくるように設けられている（第３図に示
している状態）。

また、前記第２の吸着チャック４０は、不図示のアクチ
ュエータによりＺ軸方向（第３図の右斜め下方向）に駆
動される２ステージ５２上に設けられている支持ブロッ
ク５１の該第２の吸着チャック４０と対向する面に、３
本のコイルばね４２１〜４２．により支持されている。

さらに、前記支持ブロック５１の中心部に設けられたガ
イド孔５１ａに嵌挿されているチャック固定棒５０の先
端を前記第１の吸着チャック３７の反吸着面側の面に固
着することにより、該第１の吸着チャック３７を前記チ
ャック固定棒５０で支持するとともに、前記支持ブロッ
ク５１が前記チャック固定棒５０の軸方向に摺動自在と
なるようにしている。

前記チャツク固定棒５０内部には、第１の吸着ライン３
８を介して前記第１の吸着チャック３７と不図示の真空
発生源とを接続する孔が設けられている。また、前記第
２の吸着チャック４０は第２の吸着ライン４１を介して
、また前記搬送ハンド３２は第３の吸着ライン３３を介
して、それぞれ不図示の真空発生源と接続されている。

次に、本実施例の基板の縦型搬送装置の動作について説
明する。

搬送ハンド３２から基板保持手段ヘウエハ３１を渡すと
きには、その位置を不図示のセンサで確認しつつ該搬送
ハント３２を受渡し位置まで移動させる。その後、第２
の吸着チャック４０の吸着面が前記ウェハ３１の裏面に
当接する位置まで、前記アクチュエータによりＺステー
ジ５２をＺ軸方向に前進させる。このとき、前記第２の
吸着チャック４０は３本のコイルばね４２．〜４２コに
よりＺ軸方向、Ｘ軸回転方向（ω１方向）、Ｙ軸回転方
向（ω、力方向に自由に移動できるように支持されてい
るため、該第２の吸着チャック４０が前記ウェハ３１の
裏面に当接したときに該ウェハ３１が傾いていても、該
第２の吸着チャック４０の吸着面が該傾きに応じて傾く
ので、該吸着面の全面を該ウェハ３１の裏面に押当てる
ことができる。前記２ステージ５２の前進が終了すると
、前記第２の吸着ライン４１を前記真空発生源に連通さ
せることにより、前記第２の吸着チャック４０の吸着面
に前記ウェハ３１を真空吸着させたのち、前記搬送ハン
ド３２の吸着を解除する。

該搬送ハンド３２の吸着を解除したのち、前記ウェハ３
１の裏面が前記搬送ハンド３２の吸着面から完全に離れ
る位置（不干渉位置）まで、前記アクチュエータにより
前記２ステージ５２を２軸方向にさらに前進させたのち
、前記搬送ハンド１２を図示左斜め下側に移動して退避
させる。そして、前記第２の吸着チャック４０の吸着面
が前記第１の吸着チャック３７の吸着面と同一平面上に
くる位置（初期位置）まで、前記アクチュエータにより
前記２ステージ５２を後退させたのち、前記第１の吸着
ライン３８を前記真空発生源に連通させることより前記
第１の吸着チャック３７の吸着面にも前記ウェハ３１を
真空吸着させて、すべての動作を終了する。

一方、基板保持手段から搬送ハンド３２ヘウエハ３１を
渡す場合には、まず、該ウェハ３１の裏面を真空吸着し
ている第１の吸着チャック３７および第２の吸着チャッ
ク４０のうち、該第１の吸着チャック３７による真空吸
着を解除したのち、前記アクチュエータにより２ステー
ジ５２を前記不干渉位置まで前進させる。そして、前記
搬送ハンド３２を受渡し位置まで進ませたのち、前記ア
クチュエータにより前記２ステージ５２を該受渡し位置
まで後退させ、前記ウェハ３１の裏面を前記搬送ハンド
３２の吸着面に当接させる。このとき、該ウェハ３１の
面が該搬送ハンド３２の吸着面に対して傾いていても、
前述したように前記第２の吸着チャック４０を支持して
いる３本のコイルばね４２．〜４２．により該傾きは吸
収されるので、該搬送ハンド３２の吸着面の全面に前記
ウェハ３１の裏面を押当てることができる。その後、該
搬送ハンド３２により該ウェハ３１の裏面を真空吸着し
たのち、前記第２の吸着チャック４０による真空吸着を
解除し、前記アクチュエータにより前記２ステージ５２
を前記初期位置まで後退させて、すべての動作を終了す
る。

本実施例においても、第１図に示した実施例と同様の効
果が得られる。

以上の説明において、第２の吸着チャックと搬送ハンド
間での基板の受渡し時の該基板の傾き誤差を吸収し、該
第２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段として、第
１図に示した第１の実施例では４本の前記板ばね２２１
〜２２４を用い、第２図に示した第２の実施例では３本
のコイルばね４２、〜４２．を用いたが、その他に渦巻
きばねなどを用いてもよい。

また、以上の説明では、ウェハを露光するための縦型ス
テージへのウェハの受渡しを例としたが、本発明の基板
の縦型搬送装置はこれに限るものではなく、たとえば、
前述した特願昭６３−２５２９９１号記載のＸ線露光装
置においては、ウェハの露光を行うウェハチャック部の
他に、ウェハのオリフラを検知するオリフラ検知チャッ
ク部でも用いることができる。

さらに、受渡しを行う対象としてはウェハに限るもので
はなく、薄膜トランジスタなどが形成される液晶デイス
プレィなどの基板であってもよい。

基板を吸着させる方法としては、真空吸着に限るもので
はなく、静電吸着（たとえば、特公昭６２−１９０６０
号公報）あるいは磁気吸着（たとえば、特開昭６３−１
９４３３１号公報）などでもよく、これらの組合せであ
ってもよい。

［発明の効果コ 本発明は、上述のとおり構成されているので、次に記載
する効果を奏する。

請求項第１項記載の基板の縦型搬送装置は、基板保持手
段が第１の吸着チャックと、該第１の吸着チャックと同
一平面上に吸着面をもち、受渡し位置にある基板の面の
法線方向に移動可能な第２の吸着チャックとを有し、該
第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間で前記基板の受
渡しを行うことにより、該基板を受取った前記第２の吸
着チャックと前記第１の吸着チャックの両方で該基板の
裏面を吸着させることができるので、前記基板保持手段
に十分な吸着力を与えることができるという効果がある
。

請求項第２項記載の基板の縦型搬送装置は、基板保持手
段が、前記第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間での
前記基板の受渡し時の該基板の傾き誤差を吸収し、該第
２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段を有すること
により、該受渡し時に前記基板が多少傾いていても、該
第２の吸着チャックまたは前記搬送ハンドの吸着面の全
面を該基板の裏面に押し当てることができるため、該基
板の受渡し時の脱落を防止することができ、前記基板保
持手段と前記搬送ハンド間の該基板の受渡しの信頼性を
向上させることができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の基板の縦型搬送装置の第１の実施例を
示す概略構成図であり、（Ａ）はその上面図、（Ｂ）は
その正面図、第２図は第１図に示した第２の吸着チャッ
クの支持方法を示す概略構成図、第３図は本発明の基板
の縦型搬送装置の第２の実施例を示すウェハの受渡し部
分の概略構成図、第４図は基板の縦型搬送装置の従来例
の一つを示す概略構成図であり、（Ａ）はその上面図、
（Ｂ）はその正面図である。 １１．３１・・・ウェハ、 １２．３２・・・搬送ハンド、 １３．３３・・・第３の吸着ライン、 １４．３４・・・支持アーム、 １５・・・固定ブロック、１６・・・Ｘステージ、１７
．３７・・・第１の吸着チャック、１７ａ、５１ａ　・
・・ガイド孔、 １８．３８・・・第１の吸着ライン、 １９・・・２駆動軸、 ２０．４０・・・第２の吸着チャック、２１．４１・・
・第２の吸着ライン、 ２２、〜２２４・・・板ばね、 ４２１〜４２．・・・コイルばね、 ５０・・・チャック固定棒、 ５１・・・支持ブロック、５２・・・２ステージ。 特許出願人　　キャノン株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する
   搬送ハンドと、 前記基板を縦にしたまま該搬送ハンドと該基板の受渡し
   をする基板保持手段とを有する基板の縦型搬送装置にお
   いて、 前記基板保持手段は、第１の吸着チャックと、該第１の
   吸着チャックと同一平面上に吸着面をもち、受渡し位置
   にある前記基板の面の法線方向に移動可能な第２の吸着
   チャックとを有し、 該第２の吸着チャックと前記搬送ハンド間で前記基板の
   受渡しを行うことを特徴とする基板の縦型搬送装置。 ２、基板保持手段は、第２の吸着チャックと搬送ハンド
   間での基板の受渡し時の該基板の傾き誤差を吸収し、該
   第２の吸着チャックを支持する誤差吸収手段を有するこ
   とを特徴とする請求項第１項記載の基板の縦型搬送装置
   。