TW201901313A - 搬運手、搬運設備、微影設備、物品的製造方法及保持機構 - Google Patents

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Abstract

本發明提供了一種用於保持被搬運物體的搬運手，該搬運手包括：基部；墊，其配置來吸附被搬運物體；以及第一彈性構件，其被固定到基部且配置來支撐墊，其中，第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐墊，且第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向上的剛性，從而使得墊符合被搬運物體的形狀。

Description

搬運手、搬運設備、微影設備、物品的製造方法及保持機構
本發明關於一種搬運手、一種搬運設備、一種微影設備、一種物品的製造方法以及一種保持機構。
在基板(例如，用於半導體裝置製造的晶圓或用於液晶顯示裝置製造的玻璃板)為被搬運物體的搬運設備中，被搬運物體通常由具有吸附墊的搬運手來吸附(保持)並進行搬運。然而，當在被搬運物體中發生翹曲或變形時，被搬運物體的表面(目標吸附表面)和吸附墊的吸附表面無法匹配，而使得良好的吸附為不可能的。因此，在日本專利第5929947號以及日本專利公開第2016-157822號中提出了一種搬運手，其中，吸附墊由彈性構件所支撐，且當使得吸附墊的吸附表面採取被搬運物體的表面形狀時，藉由被佈置在吸附墊下方的彈性構件來形成真空。
近年來，在半導體曝光處理中，存在搬運晶片已在樹脂上被重新組態的基板(重組態基板( reconfiguration substrate))的需求。在重組態基板中，基板的翹曲傾向於比普通基板(矽晶圓)更大。此外，在重組態基板中，翹曲形狀可能根據基板的周邊位置而有所不同，且翹曲方向可為相對於基板表面的縱向和橫向兩個方向。
在日本專利第5929947號和日本專利公開第2016-157822號所揭露的技術中，使吸附墊的吸附表面採取被搬運物體的表面形狀所需的力(剛性)，會根據用於支撐吸附墊的彈性構件的佈置方向而變化。因此，在被搬運物體以複雜方式翹曲的情況下，彈性構件在特定方向上的變形量為不足的，被搬運物體的表面與吸附墊的吸附表面將無法匹配，則良好的吸附將為不可能的。此外，當為了增加彈性構件在特定方向上的變形量，它的剛性被降低，在搬運方向上的剛性變低，且因此其不再能夠以高定位精度來保持被搬運物體。
本發明提供了一種有利於以高定位精度來保持被搬運物體的搬運手。
根據本發明的一個態樣，提供了一種用於保持被搬運物體的搬運手，搬運手包括基部、配置來吸附被搬運物體的墊，以及固定到基部且配置來支撐墊的第一彈性構件，其中，第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐墊，且第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向上的剛性，從而使得墊符合被搬運物體的形狀。
從參照所附圖式對例示性實施例的以下說明，本發明的進一步特徵將變得清楚明瞭。
下面將參照所附圖式說明本發明的較佳實施例。應當注意的是，在所有圖式中，相同的標號表示相同的構件，且將不給予其重複說明。
圖1是顯示根據本發明的態樣之搬運手10的配置的立體示意圖。搬運手10可拆卸地安裝在搬運設備中，用於搬運作為被搬運物體的基板(例如，用於製造半導體裝置的晶圓或用於製造液晶顯示裝置的玻璃板)，且搬運手10藉由吸附來保持被搬運物體。在下文中，與保持表面(搬運手10在保持表面上保持被搬運物體)垂直的方向被定義為Z軸，且在相應保持表面中，搬運手10被附接到搬運設備的方向被定義為X軸，且與X軸垂直的方向被定義為Y軸。
如圖1中所示，搬運手10包括構成搬運手10的主體之基部2、佈置在基部2上的吸附墊單元11、以及佈置在基部2上的支撐墊單元12。吸附墊單元11和支撐墊單元12藉由與被搬運物體的背面接觸來支撐被搬運物體。吸附墊單元11由於對被搬運物體的負壓而產生吸附力。支撐墊單元12在Z軸方向上支撐被搬運物體。
在本實施例中，兩個吸附墊單元11和一個支撐墊單元12被佈置在基部2上，如圖1中所示。然而，被佈置在基部2上的吸附墊單元11和支撐墊單元12的數量並不限於此。例如，當能夠相對於重量以良好的平衡來保持被搬運物體時，亦可在未佈置支撐墊單元12的情況下佈置三個或更多吸附墊單元11。此外，基部2整體為平面構件，並具有其能夠將吸附墊單元11佈置在相對於重量以良好的平衡來保持被搬運物體的位置(例如，捕獲被搬運物體的重心的位置)之形狀。
圖2A和圖2B是吸附墊單元11的平面圖。圖3是吸附墊單元11的剖視圖。吸附墊單元11包括墊1、板片彈簧3、以及O形環4。在此，墊1和板片彈簧3作用為使用在搬運手10上的保持機構，用於保持被搬運物體。
墊1具有圓形的外部形狀，並形成用於吸附被搬運物體的吸附表面(吸附區域)。具體地說，墊1包括吸附槽1a以及通孔1b，吸附槽1a形成吸附表面，吸附表面在吸附表面與被搬運物體接觸的狀態下面對被搬運物體。通孔1b的一端與吸附槽1a連通，且通孔1b的另一端開口於基部2(朝向基部2開口)。
基部2在內部包括排氣孔2a和通道2b。排氣孔2a的一端開口於墊1(朝向墊1開口)。例如，排氣孔2a形成為當墊1被佈置在基部2上時與墊1的吸附槽1a大致同心。通道2b的一端與排氣孔2a連通，且通道2b的另一端開口於外部，以便與用於排出吸附槽1a(朝向外部開口)的空氣的排氣單元(未示出)連通。因此，與通道2b配合的排氣孔2a作用為孔。孔的一端與排氣單元連通，且孔的另一端開口於墊1。
板片彈簧3被固定到基部2，並作用為第一彈性構件，第一彈性構件在三點或更多點處支撐墊1。在本實施例中，板片彈簧3配置為使得其包括三個或更多的支撐單元3a(每一個支撐單元3a支撐墊1)，且在垂直方向上(Z軸方向)的剛性小於在水平方向上(X軸方向和Y軸方向)的剛性，使得墊1符合被搬運物體的形狀。換言之，板片彈簧3支撐墊1，使得其允許墊1在垂直方向上的位移，並限制墊1在水平方向上的位移。以此方式，板片彈簧3藉由被搬運物體的重量而具有符合被搬運物體形狀的彈性，換言之，符合被搬運物體在Z傾斜方向(ωx方向和ωy方向)上的翹曲或變形的傾斜，且板片彈簧3具有剛性，其能夠限制墊1在XY平面方向上的位置。
板片彈簧3可配置為具有三個支撐構件3a，如圖2A中所示，且可配置為具有四個支撐構件3a，如圖2B中所示。支撐單元3a越多，在XY平面方向上的剛性提高越多，雖然在Z傾斜方向上的彈性降低。此外，每一個支撐單元3a包括彎曲部分3d，其沿著墊1的周邊在同一方向上相對於墊1從接觸部分3c延伸。為了達成在Z傾斜方向上之足夠的彈性，支撐單元3a具有總長度L2，其較在墊1的中心位置與板片彈簧3被固定於基部2的固定位置之間的距離L1更長，如圖2A中所示。
板片彈簧3的支撐單元3a被佈置成圍繞墊1旋轉對稱。藉此，能夠降低在Z傾斜方向上之沿ωx方向和ωy方向的剛性差異，且因此，無關於板片彈簧3的方向，具體地無關於支撐單元3a相對於墊1的佈置關係，墊1能夠符合被搬運物體的形狀。
如圖3中所示，板片彈簧3的一端(支撐單元3a)被連接到墊1的底表面(在與吸附表面相反側上的背面)，且板片彈簧3的另一端(稍後說明的連接部分3b)被連接到形成在基部2上的支撐件基部2c的頂表面，以便具有恆定高度。如圖3中所示，在墊1的底表面上形成槽1c。此外，如圖3和圖4中所示，在支撐件基部2c中形成槽2d。黏接劑被施加於槽1c，且墊1和板片彈簧3因此被連接。類似地，黏接劑被施加於槽2d，且支撐件基部2c和板片彈簧3因此被連接。藉此，墊1和支撐件基部2c(基部2)均與板片彈簧3直接接觸，且因此其能夠保證從墊1經由板片彈簧3至基部2的導電性。在此，圖4是墊1和板片彈簧3被從圖2A所顯示的吸附墊單元11移除時的(特別是基部2的)狀態的平面圖。
在本實施例中，如圖2A中所示，板片彈簧3包括連接部分3b，其具有環形形狀，環形形狀連接支撐單元3a之在與墊1接觸的一側上的端部(接觸部分3c)相反的一側上的端部。如圖3中所示，板片彈簧3經由連接部分3b而被固定於基部2。據此，由於能夠將三個或更多支撐單元3a一體地固定到基部2，能夠簡化將支撐單元3a固定到基部2的工作。然而，如圖5中所示，可採用使得板片彈簧3不包括連接部分3b的配置。在這種情況下，每一個支撐單元3a之在與墊1接觸的一側上的端部相反的一側上的端部可被固定到基部2。圖5是吸附墊單元11的平面圖。
板片彈簧3由，例如，SUS(不鏽鋼)材料所構成，並製成為具有0.03mm的厚度及3mm的寬度，且支撐單元3a的長度為15mm。在這種情況下，板片彈簧3的彈簧常數的量級在XY平面方向上為106 N/m且在Z傾斜方向上為10N/m，並其能夠滿足在垂直方向上的剛性比在水平方向上的剛性更低的條件。
O形環4是包括空心部分4a的環形構件，且在墊1和基部2之間均與它們接觸，且可在Z軸方向上變形。O形環4藉由形成在基部2上的支撐單元2e而在X軸方向和Y軸方向上受到限制。以此方式，O形環4被佈置在基部2和墊1之間，且可在墊1的垂直方向上變形，並作用為用於支撐墊1的第二彈性構件。
如圖3中所示，O形環4被佈置在基部2和墊1之間，以形成通道4b，空心部分4a經由通道4b而與通孔1b和排氣孔2a連通。因此，維持由吸附槽1a、通孔1b、通道4b、排氣孔2a以及通道2b所形成的空間的氣密性。
此外，O形環4藉由黏接劑之類而相對於基部2被固定，且可與墊1接觸(黏接)和分離，而並未被固定到墊1。應當注意的是，在圖3中，O形環4只與墊1接觸，但若能夠維持板片彈簧3的接觸表面中的氣密性，可採取使O形環與板片彈簧3接觸的配置。
圖6顯示板片彈簧3承受被搬運物體W的重量並在Z傾斜方向上變形(扭曲和彎曲)的狀態，在此狀態中，使被支撐在板片彈簧3上的墊1傾斜，以符合被搬運物體W的形狀(翹曲等)。在本實施例中，如上所述，板片彈簧3在水平方向上的剛性大於在垂直方向上的剛性。據此，由於對於墊1(吸附墊單元11)能夠在符合被搬運物體W的形狀的同時，抑制在水平方向上的移動(位置偏移)，搬運手10可相對於被搬運物體W維持高定位精度。此時，由於O形環藉由其彈性而變形，維持由吸附槽1a、通孔1b、通道4b、排氣孔2a和通道2b所形成的空間的氣密性。
圖7A至圖7C是顯示作為被搬運物體的實例的基板(重組態基板)的形狀的視圖。到目前為止，基板的翹曲通常是周邊均勻地變形的形狀(碗形狀)。然而，在最近幾年，在半導體曝光處理中，存在晶片在樹脂上被重新組態的重組態基板，且在這種重組態基板中的翹曲通常是在周邊上不均勻的形狀(鞍形狀)。例如，重組態基板可在直徑方向上具有如圖7A中所示的形狀，並在周圍方向上具有如圖7B中所示的形狀。在圖7A中，縱坐標指示重組態基板的翹曲量，且橫坐標指示重組態基板在直徑方向上的位置。在圖7B中，縱坐標指示重組態基板的翹曲量，且橫坐標指示重組態基板在周圍方向上的位置(角度)。此外，圖7C以等高線(contour line)表示圖7A和圖7B中所顯示的重組態基板的形狀。為了使得墊1的(吸附表面)符合這樣的基板，在Z傾斜方向上的剛性必須為低於在ωx方向和ωy方向(任何方向)兩者上的剛性。
在此，將說明先前技術的吸附墊單元1100。圖8A是吸附墊單元1100的平面圖。圖8B是吸附墊單元1100的YZ剖視圖。圖8C是吸附墊單元1100的ZX剖視圖。在吸附墊單元1100中，如圖8A至圖8C中所示，被固定到基部1120的板片彈簧1130在兩個點處支撐墊1110，換言之，其藉由在X方向上延伸的兩個支撐單元來支撐墊1110。此外，O形環1140被佈置在基部1120和墊1110之間。在這種情況下，對於在Z傾斜方向上的彈性，在ωx方向上具有較大的彈性，且在ωy方向上具有較小的彈性。
板片彈簧1130由，例如，SUS(不鏽鋼)材料所構成，且具有0.03mm的厚度、10mm的寬度以及30mm的長度。在這種情況下，板片彈簧1130的彈簧常數的量級在ωx方向上為10N/m且在ωy方向上為10-1 N/m，且具有大約10倍的量級差異。據此，在吸附墊單元1100中，在ωy方向上的變形量為不足的，且如圖9A和圖9B中所示，由於墊1110(的吸附表面)並未完全符合被搬運物體W，被搬運物體W無法被良好地吸附。在此，可考慮降低在ωy方向上的剛性，使得墊1110符合被搬運物體W，但由於在XY平面方向上的剛性最終也會變低，以高定位精度保持被搬運物體W為困難的。
據此，在本實施例中，藉由在三點或更多點處支撐墊1的板片彈簧3，使得在ωx方向上的剛性和在ωy方向上的剛性大致相等，且維持在XY平面方向上的剛性。因此，即使在被搬運物體為如圖7A至圖7C中所示的重組態基板的情況下，也能夠維持在X軸方向和Y軸方向上的高定位精度，同時使得墊1符合被搬運物體。
此外，當在基部2中設置多個吸附墊單元11的情況下，由於構件的公差和裝配誤差，墊1(的吸附表面)的高度以及平面平行度可能產生差異。然而，在本實施例中，藉由在多個吸附墊單元11中的每一個吸附墊單元11中之由板片彈簧3以及O形環4變形引起的墊1傾斜，能夠吸收這種差異。
此外，在被搬運物體從搬運手10搬運至特定目標的情況下，為了抑制對被搬運物體的損壞，通常會釋放對被搬運物體的吸附。此時，被搬運物體停止由搬運手10保持，且存在被搬運物體的定位精度將會因為周圍單元等的振動而降低的可能性。在本實施例中，如上所述，由於O形環4能夠相對於墊1接觸和分離，O形環4與墊1接觸的面積較墊1吸附被搬運物體的面積更小。據此，即使當被搬運物體在搬運手10吸附被搬運物體的狀態下被搬運時，在墊1從被搬運物體分離之前，O形環4從墊1分離，且空氣在O形環4與墊1之間被釋放。為此原因，在本實施例中，即使當被搬運物體在搬運手10吸附被搬運物體的狀態下被搬運時，也能夠抑制對被搬運物體的損壞。
此外，在被搬運物體為基板的情況下，存在當基板帶電時因ESD(靜電放電(electrostatic discharge))而損壞被形成在基板上之用於製造半導體裝置的圖案的情況。據此，搬運手10必須由具有合適導電性的材料來構成。因此，在本實施例中，藉由以具有導電性的材料來構成墊1，具體而言由陶瓷來構成墊1，且由SUS材料來構成板片彈簧3，確保從吸附被搬運物體的墊1至基部2的導電性，且抑制被搬運物體的帶電。在此，墊1的導電率可以是103 Ω-cm至108 Ω-cm，在此導電率下，存在電荷抑制。同時，在板片彈簧3由導體(例如，SUS材料)所構成的情況下，藉由對板片彈簧3的表面施加絕緣處理而形成絕緣層，能夠抑制ESD。
以此方式，本實施例可提供一種有利於以高定位精度來保持被搬運物體的搬運手10。
下面將參照圖10說明作為本發明的一個態樣之搬運設備。圖10是顯示根據本發明的態樣之搬運設備100的配置的示意圖。搬運設備100將作為被搬運物體的基板(晶圓或玻璃板)搬運至基板台等。
搬運設備100包括用於保持被搬運物體W的搬運手10、用於支撐搬運手10且能夠移動的臂部分102、以及用於驅動臂部分102的驅動單元103。此外，搬運設備100包括排氣單元104，其經由管道而被連接到搬運手10的吸附墊單元11，且其控制被搬運物體W的吸附(真空吸附)(換言之，吸附槽1a的排氣)。由於搬運設備100採用有利於以高定位精度來保持被搬運物體W的搬運手10，搬運設備100能夠在以高定位精度保持被搬運物體W的同時搬運被搬運物體W。
下面將參照圖11說明作為本發明的一個態樣之曝光設備。圖11是顯示根據本發明的態樣之曝光設備200的配置的示意圖。曝光設備200是在微影處理中所採用的微影設備，微影處理為用於半導體裝置或液晶顯示裝置的製造處理，且曝光設備200在基板上形成圖案。曝光設備200採用，例如，分步重複(step-and-repeat)方法，且將形成在標線片R上的圖案轉印至基板S上。
如圖11中所示，曝光設備200包括照明光學系統201、標線片台210、投影光學系統211、基板台(保持單元)204、搬運設備100以及控制單元206。
照明光學系統201以從光源(未示出)所發射的光來照射標線片R。標線片R為要被轉印到基板S的圖案(例如，電路圖案)被形成於其上的原件，且由，例如，石英玻璃所構成。標線片台210保持標線片R，且沿著在X軸和Y軸上的各個方向移動。
投影光學系統211以預定放大因數(例如，1/2)將通過標線片R的光投影至基板S上。基板S為，例如，由單晶矽所構成的基板，且抗蝕劑(光阻劑( photoresist))被施加到其表面上。基板台204經由卡盤205來保持基板S，且至少在沿著X軸和Y軸的各個方向上移動。控制單元206由，例如，包括CPU、記憶體等的電腦所構成，且根據程式來全面控制曝光設備200的每一個單元。
曝光設備200採用將作為被搬運物體的基板S搬運至基板台204的搬運設備100。據此，由於曝光設備200能夠在相對於基板台204以較高的定位精度來保持基板S的同時搬運基板S，可減小基板S在基板台204上的位置偏移，且因此，例如，能夠提高產量。
例如，在本發明實施例中的製造物品的方法適用於製造像是裝置(半導體元件、磁性儲存介質、液晶顯示元件等)的物品。這種製造方法包括藉由使用曝光設備200來使得光阻劑被施加於其上的基板曝光(在基板上形成圖案)的步驟；以及在基板曝光之後使基板顯影(處理該基板)的步驟。此外，這種製造方法可包括其它的已知步驟(氧化、沉積、氣相沉積、摻雜、平面化、蝕刻、抗蝕劑剝離、切割、接合、封裝等)。相較於傳統方法，本實施例中的製造物品的方法在產品性能、品質、生產率和製造成本中的至少一個方面為有利的。
在本發明中，微影設備並不侷限於曝光設備，且可能應用於像是壓印設備、繪圖設備等的微影設備。在此，藉由使被供給到基板上的壓印材料及模具接觸並施加能量使壓印材料固化的壓印設備，形成模具的圖案被轉印於其上的固化產物。此外，繪圖設備藉由以帶電粒子束(電子束)或雷射光束在基板上執行描繪而在基板上形成圖案(潛像圖案)。上述製造物品的方法可使用這些微影設備來執行。
雖然已參照例示性實施例說明了本發明，但應當理解的是，本發明並不侷限於所揭露的例示性實施例。以下的申請專利範圍的範疇應被賦予最寬廣的解釋，以涵蓋所有這類型的修改以及等效的結構和功能。
1‧‧‧墊
1a‧‧‧吸附槽
1b‧‧‧通孔
1c‧‧‧槽
2‧‧‧基部
2a‧‧‧排氣孔
2b‧‧‧通道
2c‧‧‧支撐件基部
2d‧‧‧槽
2e‧‧‧支撐單元
3‧‧‧板片彈簧
3a‧‧‧支撐單元(支撐構件)
3b‧‧‧連接部分
3c‧‧‧接觸部分
3d‧‧‧彎曲部分
4‧‧‧O形環
4a‧‧‧空心部分
4b‧‧‧通道
10‧‧‧搬運手
11‧‧‧吸附墊單元
12‧‧‧支撐墊單元
100‧‧‧搬運設備
102‧‧‧臂部分
103‧‧‧驅動單元
104‧‧‧排氣單元
200‧‧‧曝光設備
201‧‧‧照明光學系統
204‧‧‧基板台
205‧‧‧卡盤
206‧‧‧控制單元
210‧‧‧標線片台
211‧‧‧投影光學系統
1100‧‧‧吸附墊單元
1110‧‧‧墊
1120‧‧‧基部
1130‧‧‧板片彈簧
1140‧‧‧O形環
L1‧‧‧距離
L2‧‧‧總長度
R‧‧‧標線片
S‧‧‧基板
W‧‧‧被搬運物體
圖1是顯示根據本發明的態樣之搬運手的配置的立體示意圖。
圖2A和圖2B是圖1中所顯示的搬運手的吸附墊單元的平面圖。
圖3是圖1中所顯示的搬運手的吸附墊單元的剖視圖。
圖4是圖2A、圖2B和圖3中所顯示的吸附墊單元的基部的平面圖。
圖5是圖1中所顯示的搬運手的吸附墊單元的平面圖。
圖6是圖1中所顯示的搬運手的吸附墊單元的剖視圖。
圖7A至圖7C是顯示被搬運物體(重組態基板)的形狀的實例的視圖。
圖8A至圖8C是顯示在先前技術中的吸附墊單元的配置的視圖。
圖9A和圖9B是顯示在先前技術中的吸附墊單元的配置的視圖。
圖10是顯示根據本發明的態樣之搬運設備的配置的示意圖。
圖11是顯示根據本發明的態樣之曝光設備的配置的示意圖。

Claims (19)

  1. 一種用於保持被搬運物體的搬運手，該搬運手包括： 　　基部； 　　墊，其配置來吸附該被搬運物體；以及 　　第一彈性構件，其被固定到該基部，且配置來支撐該墊， 　　其中，該第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐該墊，且該第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向上的剛性，從而使得該墊符合該被搬運物體的形狀。
  2. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該第一彈性構件支撐該墊，以使該墊能夠在該垂直方向上位移並限制該墊在該水平方向上的位移。
  3. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該墊具有圓形外部形狀，並且， 　　該三個或更多支撐單元中的每一個支撐單元包括彎曲部分，該彎曲部分沿著該墊的周邊從接觸部分延伸，該支撐單元在該接觸部分處與該墊接觸。
  4. 如申請專利範圍第3項之搬運手，其中，該三個或更多支撐單元中的每一個支撐單元的該彎曲部分沿著該墊的周邊在同一方向上延伸。
  5. 如申請專利範圍第4項之搬運手，其中，該三個或更多支撐單元中的每一個支撐單元的該彎曲部分具有總長度，該總長度較該墊的中心位置與該第一彈性構件被固定到該基部的固定位置之間的距離更長。
  6. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該第一彈性構件包括連接部分，該連接部分連接該三個或更多支撐單元中的每一個支撐單元之與接觸該墊的側上的端部相反的側上的端部，且該第一彈性構件經由該連接部分被固定到該基部。
  7. 如申請專利範圍第6項之搬運手，其中，該連接部分具有環形形狀。
  8. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該三個或更多支撐單元被佈置成關於該墊旋轉對稱。
  9. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該第一彈性構件包括板片彈簧。
  10. 如申請專利範圍第1項之搬運手，還包括第二彈性構件，該第二彈性構件被佈置在該基部和該墊之間，能夠在該墊的垂直方向上變形，且配置來支撐該墊。
  11. 如申請專利範圍第10項之搬運手，其中，該墊包括通孔，其中，該通孔的一端與用於吸附該被搬運物體的吸附槽連通，且該通孔的另一端開口於該基部，並且 　　該基部包括排氣孔，其中，該排氣孔的一端與用於排出該吸附槽的空氣的排氣單元連通，且該排氣孔的另一端開口於該墊，並且 　　該第二彈性構件是包括空心部分的環形構件，且被佈置在該基部和該墊之間，以便形成通道，該空心部分經由該通道而與該通孔和該排氣孔連通。
  12. 如申請專利範圍第10項之搬運手，其中，該第二彈性構件被固定到該基部，且被可分離地佈置在該墊上。
  13. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該第一彈性構件由具有導電性的材料來構成。
  14. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，絕緣層形成在該第一彈性構件的表面上。
  15. 如申請專利範圍第1項之搬運手，其中，該搬運手具有從該墊到該基部的導電性。
  16. 一種用於搬運被搬運物體的搬運設備，該搬運設備包括： 　　搬運手，其配置來保持該被搬運物體； 　　臂部分，其配置來支撐該搬運手；以及 　　驅動單元，其配置來驅動該臂部分， 　　其中，該搬運手包括： 　　基部； 　　墊，其配置來吸附該被搬運物體；以及 　　第一彈性構件，其被固定到該基部，且配置來支撐該墊， 　　其中，該第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐該墊，且該第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向的剛性，從而使得該墊符合該被搬運物體的形狀。
  17. 一種用於在基板上形成圖案的微影設備，該微影設備包括： 　　保持單元，其配置來保持該基板；以及 　　搬運設備，其配置來將作為被搬運物體的該基板搬運到該保持單元， 　　其中，該搬運設備包括： 　　搬運手，其配置來保持該被搬運物體； 　　臂部分，其配置來支撐該搬運手；以及 　　驅動單元，其配置來驅動該臂部分， 　　該搬運手包括： 　　基部； 　　墊，其配置來吸附該被搬運物體；以及 　　第一彈性構件，其被固定到該基部，且配置來支撐該墊， 　　其中，該第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐該墊，且該第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向上的剛性，從而使得該墊符合該被搬運物體的形狀。
  18. 一種製造物品的方法，該方法包括： 　　藉由使用微影設備在基板上形成圖案； 　　在該圖案被形成於該基板上之後處理該基板；以及 　　由處理後的該基板來製造該物品， 　　其中，該微影設備包括： 　　保持單元，其配置來保持該基板；以及 　　搬運設備，其配置來將作為被搬運物體的該基板搬運到該保持單元， 　　該搬運設備包括： 　　搬運手，其配置來保持該被搬運物體； 　　臂部分，其配置來支撐該搬運手；以及 　　驅動單元，其配置來驅動該臂部分，並且 　　該搬運手包括： 　　基部； 　　墊，其配置來吸附該被搬運物體；以及 　　第一彈性構件，其被固定到該基部，且配置來支撐該墊， 　　其中，該第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐該墊，且該第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向上的剛性，從而使得該墊符合該被搬運物體的形狀。
  19. 一種保持機構，其將被使用在搬運手中，用於保持被搬運物體，該保持機構包括： 　　墊，其配置來吸附該被搬運物體；以及 　　第一彈性構件，其被固定到該搬運手的基部，且配置來支撐該墊， 　　其中，該第一彈性構件包括三個或更多支撐單元，每一個支撐單元配置來支撐該墊，且該第一彈性構件配置為使得在垂直方向上的剛性低於在水平方向上的剛性，從而使得該墊符合該被搬運物體的形狀。
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