JP3219273B2 - 基板の受渡し方法 - Google Patents

基板の受渡し方法

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Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は基板の受渡し方法に関し、特に、ウエハなど
の基板を縦にして取扱うシンクロトロン放射光を光源と
するＸ線露光装置に好適な基板の受渡し方法に関するも
のである。
〔従来の技術〕
従来、遠紫外光を光源とする半導体露光装置では、ウ
エハなどの基板を横にしたまま露光を行うため、基板を
搬送する基板搬送ハンドと露光が行われるステージとの
間の基板の受渡しは、一般に、次のようにして行われて
いる。
（１）基板搬送ハンドは、複数枚の基板が収納されてい
るカセットから一枚だけ基板を取出し、その裏面を横に
したまま真空吸着または静電吸着して該基板を保持す
る。
（２）基板搬送ハンドは、たとえばパルスモータなどの
アクチュエータを使った駆動系により駆動され、コント
ローラおよびドライバにより所定のパルス量がパルスモ
ータに与えられることによって制御されて、ステージ上
の基準位置もしくはステージの吸着面と基板とが接触す
る位置にまで移動させられたのち、ステージへ基板を受
渡す。
（３）ステージへの基板の受渡しの確認は、真空センサ
や静電センサを用いて、所定の時間内にステージ側の保
持が確実になったか否かをチェックすることにより行わ
れる。
（４）ステージから基板搬送ハンドへの受渡しも、同様
にして行われる。
ここで、誤動作などにより、基板の受取り側の保持が
不完全な状態で受渡し側の保持が解除されたとしても、
基板搬送ハンドおよびステージは基板を横にしたまま保
持しているため、基板が落下することはないので、基板
の受渡しを行う際の基板の落下防止に関しては、特に対
策する必要がない。
ところが、近年、半導体メモリの大容量化が進むにつ
れて、半導体製造装置における微細化技術の向上が重要
な課題となってきており、その一手段として、シンクロ
トロン放射光（以下、「SOR光」と称する。）を光源と
するＸ線露光装置が注目されている。
このようなＸ線露光装置では、SOR光が必ず水平方向
に出射されること、およびSOR光に対する適当な反射鏡
がないことから、ウエハやマスクなどを縦にしたまま露
光を行う構成が用いられる（たとえば、特開平２−1003
11号公報）。
したがって、このようなＸ線露光装置においては、次
に示す理由により、縦向きの基板を基板搬送ハンドで裏
面吸着して縦にしたまま搬送するとともに、基板を縦に
したまま縦型ステージと基板搬送ハンドとの間での基板
の受渡しが行われる。
（１）基板は縦型ステージに設置されて露光されるた
め、従来のように基板を横にして搬送するものでは、縦
型ステージあるいは基板搬送ハンドのいずれかに基板の
縦にする機能が必要となる。
（２）基板上に描かれるパターンの線幅の微細化に伴な
い、従来のように基板を横にして搬送するものでは、該
基板搬送時のごみの付着が問題となる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このようなＸ線露光装置において、基
板搬送ハンドと縦型ステージとの間の基板の受渡しを前
述した従来方法で行うと、以下に示す理由により、受渡
し時に基板の落下が生じやすくなり、信頼性の点で問題
が生じる。
基板搬送ハンドから縦型ステージへ基板を受渡す場
合、基板搬送ハンドは縦型ステージ上の基準位置、もし
くは縦型ステージの吸着面と基板とが接触する位置にま
でパルスモータにより移動させられる。しかし、この移
動量は、パルスモータに与えられるパルス量に依存する
ため、たとえば、パルス量エラー，基板搬送ハンドの組
付け誤差および基板の反りなどの影響により、前記位置
の位置決めが精度よく行われず、縦型ステージ側の吸着
状態が不完全なままで基板搬送ハンドの吸着が解除され
た場合には、基板の落下が生じる。
縦型ステージから基板搬送ハンドへ基板を受渡す場合
も、同様である。
本発明の目的は、SOR光を光源とするＸ線露光装置の
ように、基板を縦にしたままで行なわれる縦型ステージ
と基板搬送ハンドとの間の基板の受渡しにおいても、高
い信頼性を確保できる基板の受渡し方法を提供すること
にある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の基板の受渡し方法は、 縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基
板搬送ハンドから、前記基板を縦にして保持するステー
ジへ、前記基板を縦にしたまま前記基板の受渡しを行う
ための方法であって、 前記ステージの吸着面と前記基板とが互いに接触する
ことなく対向する不干渉位置と前記ステージの吸着面と
の間に予め設定されているステージ吸着開始位置まで、
前記基板搬送ハンドを所定の速度で移動する工程と、 前記ステージによる前記基板の吸着を開始する工程
と、 前記基板搬送ハンドおよび前記ステージによる前記基
板の吸着が共に行われた状態で、前記ステージに対して
前記基板が押付けられるように前記ステージの吸着面か
ら所定の距離だけ前記不干渉位置の反対側に予め設定さ
れている受渡し位置まで、前記基板搬送ハンドを前記所
定の速度よりも低速度で移動する工程と、 前記ステージによる前記基板の吸着を確認する工程
と、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を解除する
工程と、 前記受渡し位置よりもさらに前記不干渉位置の反対側
に予め設定されている退避位置まで、前記基板搬送ハン
ドを移動する工程とを有するものである。
また、本発明の他の基板受渡し方法は、 基板を縦にして保持するステージから、縦向きの前記
基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基板搬送ハン
ドへ、前記基板を縦にしたまま前記基板の受渡しを行う
ための方法であって、 前記ステージの吸着面よりも該ステージ側の退避位置
と前記ステージの吸着面との間に予め設定されているハ
ンド吸着開始位置まで、前記退避位置にある前記基板搬
送ハンドを所定の速度で移動する工程と、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を開始する
工程と、 前記基板搬送ハンドおよび前記ステージによる前記基
板の吸着が共に行われた状態で、前記基板搬送ハンドに
対して前記基板が押付けられるように前記ステージの吸
着面から所定の距離だけ前記ハンド吸着開始位置の反対
側に予め設定されている受渡し位置まで、前記基板搬送
ハンドを前記所定の速度よりも低速度で移動する工程
と、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を確認する
工程と、 前記ステージによる前記基板の吸着を解除する工程
と、 前記ステージの吸着面と前記基板とが互いに接触する
ことなく対向する不干渉位置まで、前記基板搬送ハンド
を移動する工程とを有するものである。
本発明のさらに他の基板受渡し方法は、 基板を縦にして保持するステージと前記基板を縦にし
たまま搬送するハンドとの間で前記基板を受渡すための
方法であって、 ステージ吸着開始位置まで前記基板を保持する前記ハ
ンドを移動する工程と、 前記ステージによる、前記ハンドに保持されている前
記基板の吸着を開始する工程と、 前記ハンドによる前記基板の保持、および、前記ステ
ージによる前記基板の吸着が共に行われた状態で、前記
ステージに対して前記基板が押付けられるように前記ス
テージの吸着面に関して前記ステージ吸着開始位置の反
対側にある受渡し位置まで前記ハンドを移動する工程
と、 前記ハンドによる前記基板の保持を解除する工程とを
有するものである。
この場合、前記ハンドが受渡し位置まで移動した後、
前記ステージによる前記基板の吸着を確認することが好
ましい。
本発明のさらに他の基板受渡し方法は、 基板を縦にして保持するステージと前記基板を縦にし
たまま搬送するハンドとの間で前記基板を受渡すための
方法であって、 ハンド吸着開始位置まで前記ハンドを移動する工程
と、 前記ハンドによる、前記ステージに保持されている前
記基板の吸着を開始する工程と、 前記ハンドによる前記基板の吸着、および、前記ステ
ージによる前記基板の保持が共に行われた状態で、前記
基板搬送ハンドに対して前記基板が押付けられるように
前記ステージの基板保持面に関して前記ハンド吸着開始
位置の反対側にある受渡し位置まで前記ハンドを移動す
る工程と、 前記ステージによる前記基板の保持を解除する工程と
を有するものである。
この場合、前記ハンドが受渡し位置まで移動した後、
前記ハンドによる前記基板の吸着を確認することが好ま
しい。
［作用］ 基板搬送ハンドからステージに基板を受渡す場合に、
基板搬送ハンドをステージ吸着開始位置で一旦止めたの
ち、ステージによる基板の吸着を開始し、ステージの吸
着面から所定の第１の押付け距離だけ不干渉位置の反対
側に予め設定した第１の受渡し位置まで、基板搬送ハン
ドをそれまでよりも低速度で移動することにより、受渡
される基板を前記吸着面に十分接触させることができる
ため、また、基板の受渡し時には、基板搬送ハンドとス
テージの両方で基板を吸着し、かつ受渡される側である
ステージによる基板の吸着を確認したのち、受渡す側で
ある基板搬送ハンドによる基板の吸着を解除するため、
基板の受渡しを確実に行うことができる。
一方、ステージから基板搬送ハンドに基板を受渡す場
合には、基板搬送ハンドをハンド吸着開始位置で一旦止
めたのちに、基板搬送ハンドによる基板の吸着を開始
し、ステージの吸着面から所定の第２の押付け距離だけ
不干渉位置側に予め設定した第２の受渡し位置まで、基
板搬送ハンドをそれまでよりも低速度で移動することに
より、受渡される基板を基板搬送ハンドのハンド吸着面
に十分接触させることができるため、また、基板の受渡
し時には、基板搬送ハンドとステージの両方で基板を吸
着し、かつ受渡される側である基板搬送ハンドによる基
板の吸着を確認したのち、受渡す側であるステージによ
る基板の吸着を解除するため、基板の受渡しを確実に行
うことができる。
［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明す
る。
第２図は本発明の基板の受渡し方法の一実施例を示す
ウエハ搬送装置の概略構成図、第３図は第２図に示した
ウエハ搬送装置が有する制御装置20のブロック図であ
る。
このウエハ搬送装置は、縦向きの基板であるウエハ１
を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基板搬送ハンドで
あるウエハ搬送ハンド２と、ウエハ１を縦にしたままウ
エハ搬送ハンド２とウエハ１の受渡しを行う、ウエハ１
を縦にして保持するステージ（本実施例では縦型ステー
ジ）３と、第３図に示す制御装置20とから構成されてい
る。
ウエハ搬送ハンド２は、ハンドＹ軸方向駆動用パルス
モータ７で駆動される公知のボールねじ機構により第２
図図示Ｙ軸方向に往復移動させられるハンドＹ軸方向支
持台６上に載設され、また、ハンドＹ軸方向支持台６
は、不図示のハンドＸ軸方向駆動用パルスモータで駆動
されるボールねじ機構により図示Ｘ軸方向に往復移動さ
せられるハンドＸ軸方向支持台８上に摺動自在に設けら
れている。したがって、ウエハ搬送ハンド２は、図示Ｘ
軸およびＹ軸方向に移動可能となっている。
ステージ３は、ステージＺ軸方向駆動用パルスモータ
40（第３図参照）で駆動されるボールねじ機構により図
示Ｚ軸方向に往復移動させられるステージＺ軸方向支持
台12上に載設されている。また、ステージＺ軸方向支持
台12は、ステージベース台９に図示Ｚ軸方向に摺動自在
に取付けられてる。
不図示の真空発生源と接続された配管13が設けられて
おり、配管13はハンド用配管15とステージ用配管14とに
２分岐され、ハンド用配管15はウエハ搬送ハンド２に、
またステージ用配管14はステージ３にそれぞれ接続され
ている。その結果、ウエハ１は前記真空発生源によりウ
エハ搬送ハンド２およびステージ３に真空吸着されて保
持される。
ハンド用配管15とステージ用配管14とには、ウエハ搬
送ハンド２とステージ３とにおけるウエハ１の吸着およ
び非吸着の制御を行うハンド用電磁バルブ11とステージ
用電磁バルブ10とがそれぞれ介在されている。
ハンド用配管15のウエハ搬送ハンド２とハンド用電磁
バルブ11との間には、ハンド用圧力センサ５が介在さ
れ、またステージ用配管14の縦型ステージ３とステージ
用電磁バルブ10との間には、ステージ用圧力センサ４が
介在されており、ウエハ搬送ハンド２およびステージ３
におけるウエハ１の吸着力の検出がそれぞれ行われる。
次に、このウエハ搬送装置が有する制御装置20の構成
について、第３図を用いて説明する。
この制御装置20は、ステージ用圧力センサ４およびハ
ンド用圧力センサ５の出力信号をそれぞれ増幅する第１
および第２のアンプ21,22と、第１のアンプ21の出力信
号の電圧と第１の基準電圧V01との大小比較を行い、第
１のアンプ21の出力信号を２値化する第１のコンパレー
タ23と、第２のアンプ22の出力信号の電圧と第２の基準
電圧V02との大小比較を行い、第２のアンプ22の出力信
号を２値化する第２のコンパレータ24と、該２つのコン
パレータ23,24の出力信号をホストコンピュータである
マイクロコントローラ（以下、「CPU」と称する。）27
に入力させるための入力側インターフェース25とを有す
る。
また、この制御装置20は、ステージ用電磁バルブ10,
ハンド用電磁バルブ11,ステージＺ軸方向駆動用パルス
モータ40およびハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７を
それぞれ駆動する第1,第2,第３および第４のドライバ31
〜34と、第１および第２のドライバ31,32の制御を行う
バルブコントローラ29と、第３および第４のドライバ3
3,34の制御を行うパルスモータコントローラ30と、CPU2
7の出力信号をバルブコントローラ29およびパルスモー
タコントローラ30に出力させる出力側インターフェース
28とを有する。
次に、このウエハ搬送装置の動作について、第１図〜
第５図を参照して説明する。
（１）ウエハ搬送ハンド２からステージ３へのウエハ１
の受渡し（第４図参照） まず、不図示のハンドＸ軸方向駆動用パルスモータが
制御装置20（第３図参照）とは別の制御装置によって駆
動されて、第２図に示すハンドＸ軸方向支持台８が所定
の距離だけ移動させられることにより、ウエハ搬送ハン
ド２はウエハ１を縦にしたまま真空吸着して保持しなが
らＸ、第１図（ａ）に示す不干渉位置A0まで移動させら
れる。ここで、不干渉位置A0は、ステージ３の吸着面31
とウエハ１とが互いに接触することなく対向する位置と
なるように予め設定されている。
ウエハ搬送ハンド２が不干渉位置A0まで移動すると、
制御装置20のCPU27は、ハンド用圧力センサ５の出力信
号を第２のアンプ22,第２のコンパレータ24および入力
側インターフェース25を介して取込み、該出力信号が示
すハンド用配管15内の圧力より、ウエハ搬送ハンド２が
ウエハ１を保持しているか確認する（ステップ51）。
ウエハ搬送ハンド２がウエハ１を保持していることを
確認すると、CPU27は、出力側インターフェース28,パル
スモータコントローラ30および第４のドライバ34を介し
てハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、所定の周波
数および所定のクロック数のパルスと回転方向を指示す
る信号とを出力することにより、ハンドＹ軸方向支持台
６を−Ｙ軸方向に移動させて、ウエハ搬送ハンド２を第
１図（ｂ）に示すステージ吸着開始位置A1まで、所定の
第１の速度で移動させる（ステップ52）。ここで、ステ
ージ吸着開始位置A1は、不干渉位置A0とステージ３の吸
着面31との間に予め設定されており、ウエハ１の裏面が
前記吸着面31に接触しない位置（たとえば、ウエハ１の
裏面と該吸着面31との間隔が0.3mmの位置）となってい
る。
ウエハ搬送ハンド２がステージ吸着開始位置A1まで移
動すると、CPU27は、出力側インターフェース28,バルブ
コントローラ29および第１のドライバ31を介してステー
ジ用電磁バルブ10を開かせて、前記吸着面31と不図示の
真空発生源とを連通させることにより、ステージ３によ
るウエハ１の真空吸着を開始させる（ステップ53）。
ステージ３によるウエハ１の真空吸着が開始される
と、CPU27は、出力側インターフェース28,パルスモータ
コントローラ30および第４のドライバ34を介してハンド
Ｙ軸方向駆動用パルスモータ７に、該パルスモータ７の
自起動周波数と等しい周波数および所定のクロック数の
パルスと回転方向を指示する信号とを出力して、前記第
１の速度よりも低速度でハンドＹ軸方向支持台６を−Ｙ
軸方向に移動させることにより、ウエハ搬送ハンド２の
ハンド吸着面21を第１図（ｃ）に示す第１の受渡し位置
A2まで移動させる（ステップ54）。ここで、第１の受渡
し位置A2は、ステージ３の吸着面31よりも第１の押付け
距離ΔＡ（たとえば、ΔＡ＝0.05mm）だけ不干渉位置A0
の反対側（すなわち、同図（ｃ）で上にくる位置）に予
め設定されているため、ウエハ１は前記吸着面31に押付
けられた状態となっている。
また、ウエハ搬送ハンド２には、第１の押付け距離Δ
Ａに対して前記第１の速度よりも低い速度でウエハ搬送
ハンド２を移動させてウエハ１をステージ３に接触させ
てもウエハ１を脱落させない程度の剛性をもたせてあ
る。すなわち、第１図（ｃ）では、第１の押付け距離Δ
Ａを明確に示すため、ウエハ搬送ハンド２の剛性が非常
に強い場合の状態を示したが、実際には、ウエハ搬送ハ
ンド２は、第１の受渡し位置A2まで移動させられても、
ウエハ搬送ハンド２のウエハ吸着面21とステージ３の吸
着面31との位置が等しくなる程度の剛性（Ｙ軸方向）と
している。したがって、このとき、ウエハ１は、その裏
面と前記吸着面31と前記ウエハ吸着面21とが一致する位
置において、その裏面が前記吸着面31と前記ウエハ吸着
面21の両方に接触した状態で、ステージ３とウエハ搬送
ハンド２との両方で真空吸着されているため、ウエハ１
の落下を防ぐことができる。
ウエハ搬送ハンド２が第１の受渡し位置A2まで移動す
ると、CPU27は、第１のアンプ21,第１のコンパレータ23
および入力側インターフェース25を介してステージ用圧
力センサ４の出力信号を所定のタイミングで取込み、該
出力信号が示すステージ用配管14内の圧力より、ステー
ジ３によるウエハ１の真空吸着を確認する（ステップ5
5）。
ステージ３によるウエハ１の真空吸着を確認すると、
CPU27は、出力側インターフェース28,バルブコントロー
ラ29および第２のドライバ32を介してハンド用電磁バル
ブ11を閉じさせ、前記ハンド吸着面21と不図示の真空発
生源との連通を断たせることにより、ウエハ搬送ハンド
２によるウエハ１の真空吸着を解除させる（ステップ5
6）。一方、ステージ用配管14内の圧力が、ステージ３
がウエハ１を保持するのに十分な値でない場合には、CP
U27は所定のタイミングでの前記圧力の取込み動作を繰
返す（ステップ55）。
ウエハ搬送ハンド２の真空吸着が解除されると、CPU2
7は、出力側インターフェース28,パルスモータコントロ
ーラ30および第４のドライバ34を介してハンドＹ軸方向
駆動用パルスモータ７に、所定の周波数および所定のク
ロック数のパルスと回転方向を指示する信号とを出力す
ることにより、ハンドＹ軸方向支持台６を−Ｙ軸方向に
さらに移動させることにより、ウエハ搬送ハンド２を不
図示の退避位置まで移動させる（ステップ57）。ここ
で、該退避位置は、第１の受渡し位置A2よりもさらに不
干渉位置A0の反対側に予め設定されている。
ウエハ搬送ハンド２が前記退避位置まで移動すると、
CPU27は、出力側インターフェース28,パルスモータコン
トローラ30および第３のドライバ33を介してステージＺ
軸方向駆動用パルスモータ40に、所定の周波数および所
定のクロック数のパルスと回転方向を指示する信号とを
出力することにより、ステージ３を露光位置まで第２図
図示Ｚ軸方向へ移動させる（ステップ58）。
（２）ステージ３からウエハ搬送ハンド２へのウエハ１
の受渡し（第５図参照） まず、制御装置20のCPU27は、ステージ用圧力センサ
４の出力信号を第１のアンプ21,第１のコンパレータ23
および入力側インターフェース25を介して取込み、該出
力信号が示すステージ用配管14内の圧力より、ステージ
３がウエハ１を保持しているか確認する（ステップ6
1）。
ステージ３がウエハ１を保持していることを確認する
と、CPU27は、出力側インターフェース28,パルスモータ
コントローラ30および第３のドライバ33を介してステー
ジＺ軸方向駆動用パルスモータ40に、所定の周波数およ
び所定のクロック数のパルスと回転方向を指示する信号
とを出力することにより、ステージ３を前記露光位置か
ら第２図に示す位置である受渡し位置まで移動させる
（ステップ62）。
ステージ３が前記受渡し位置まで移動すると、CPU27
は、出力側インターフェース28,パルスモータコントロ
ーラ30および第４のドライバ34を介してハンドＹ軸方向
駆動用パルスモータ７に、所定の周波数および所定のク
ロック数のパルスと回転方向を指示する信号とを出力す
ることにより、ハンドＹ軸方向支持台６をＹ軸方向に移
動させて、前記退避位置にあるウエハ搬送ハンド２を第
１図（ｄ）に示すハンド吸着開始位置B1まで、所定の第
２の速度で移動させる（ステップ63）。ここで、ハンド
吸着開始位置B1は、ステージ３の吸着面31から第１の受
渡し位置A2よりもさらに不干渉位置A0の反対側に予め設
定されており、ウエハ１の裏面が前記ハンド吸着面21に
接触しない位置（たとえば、該ハンド吸着面21と前記吸
着面31との間隔が0.3mmの位置）となっている。
ウエハ搬送ハンド２がハンド吸着開始位置B1まで移動
すると、CPU27は、出力側インターフェース28,バルブコ
ントローラ29および第２のドライバ32を介してハンド用
電磁バルブ11を開かせて、ウエハ搬送ハンド２のハンド
吸着面21と不図示の真空発生源とを連通させることによ
り、ウエハ搬送ハンド２によるウエハ１の真空吸着を開
始させる（ステップ64）。
ウエハ搬送ハンド２によるウエハ１の真空吸着が開始
されると、CPU27は、出力側インターフェース28,パルス
モータコントローラ30および第４のドライバ34を介して
ハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ７に、該パルスモー
タ７の自起動周波数と等しい周波数および所定のクロッ
ク数のパルスと回転方向を指示する信号とを出力して、
前記第２の速度よりも低速度でハンドＹ軸方向支持台６
をＹ軸方向に移動させることにより、ウエハ搬送ハンド
２のハンド吸着面21を第１図（ｅ）に示す第２の受渡し
位置B2まで移動させる（ステップ65）。ここで、第２の
受渡し位置B2は、ステージ３の吸着面31よりも第２図の
押付け距離ΔＢ（たとえば、ΔＢ＝0.05mm）だけ不干渉
位置A0側（すなわち、同図（ｅ）で下にくる位置）に予
め設定されているため、ウエハ１はウエハ搬送ハンド２
に押付けられた状態となっている。
また、ウエハ搬送ハンド２には、第２の押付け距離Δ
Ｂに対して前記第２の速度よりも低い速度でウエハ搬送
ハンド２を移動させてウエハ１をウエハ搬送ハンド２に
接触させてもウエハ１を脱落させない程度の剛性をもた
せてある。すなわち、第１図（ｅ）では、第２の押付け
距離ΔＢを明確に示すため、ウエハ搬送ハンド２の剛性
が非常に強い場合の状態を示したが、実際には、ウエハ
搬送ハンド２は第２の受渡し位置B2まで移動させられて
も、ウエハ搬送ハンド２のハンド吸着面21とステージ３
の吸着面31との位置が等しくなる程度の剛性（−Ｙ軸方
向）としている。したがって、このとき、ウエハ１は、
その裏面と前記吸着面31と前記ハンド吸着面21とが一致
する位置において、その裏面が前記吸着面31と前記ハン
ド吸着面21の両方に接触した状態で、ステージ３とウエ
ハ搬送ハンド２との両方で真空吸着されているため、ウ
エハ１の落下を防ぐことができる。
ウエハ搬送ハンド２が第２の受渡し位置B2まで移動す
ると、CPU27は、第２のアンプ22,第２のコンパレータ24
および入力側インターフェース25を介してハンド用圧力
センサ５の出力信号を所定のタイミングで取込み、該出
力信号が示すハンド用配管15内の圧力より、ウエハ搬送
ハンド２によるウエハ１の真空吸着を確認する（ステッ
プ66）。
ウエハ搬送ハンド２によるウエハ１の真空吸着を確認
すると、CPU27は、出力側インターフェース28,バルブコ
ントローラ29および第１のドライバ31を介してステージ
用電磁バルブ10を閉じさせ、前記吸着面31と不図示の真
空発生源との連通を断たせることにより、ステージ３に
よるウエハ１の真空吸着を解除させる（ステージ67）。
一方、ハンド用配管15内の圧力が、ウエハ搬送ハンド２
がウエハ１を保持するのに十分な値でない場合には、CP
U27は所定のタイミングでの前記圧力の取込み動作を繰
返す（ステップ66）。
ステージ３の真空吸着が解除されると、CPU27は、出
力側インターフェース28,パルスモータコントローラ30
および第４のドライバ34を介してハンドＹ軸方向駆動用
パルスモータ７に、所定の周波数および所定のクロック
数のパルスと回転方向を指示する信号とを出力すること
により、ハンドＹ軸方向支持台６をＹ軸方向にさらに移
動させることにより、ウエハ搬送ハンド２を不干渉位置
A0まで移動させる（ステップ68）。
以上説明した実施例においては、ウエハ搬送ハンド２
およびステージ３は真空吸着によりウエハ１を保持した
が、静電吸着によりウエハ１を保持するものであっても
よい。この場合には、ウエハ搬送ハンド２およびステー
ジ３におけるウエハ１の保持の確認は、ハンド用圧力セ
ンサ５およびステージ用圧力センサ４の代わりに、ハン
ド用静電センサおよびステージ用静電センサを用いて行
えばよい。
また、ウエハ搬送ハンド２およびステージ３の移動
は、パルスモータを用いて行ったが、DCモータとエンコ
ーダとを組合せたものを用いて行ってもよい。ただし、
第１図に示したステージ吸着開始位置A1およびハンド吸
着開始位置B1は、ステージ３およびウエハ搬送ハンド２
による吸着の開始を行わせるためのものであることか
ら、また第１の受渡し位置A2および第２の受渡し位置B2
は、ウエハ搬送ハンド２の剛性に依存するものであるこ
とから、これらの位置の位置決め精度はパルスモータに
よる位置決め精度であれば十分である。
第１図に示した実施例では、ウエハ搬送ハンド２とス
テージ３との間で、ウエハ１を受渡する方法について示
したが、ウエハ搬送ハンド２からステージ３へウエハ１
を受渡すだけでよい場合（ステージ３からは他の手段に
よりウエハ１を受取る場合）には、第４図に示したステ
ップ51からステップ58までの動作をさせればよい。一
方、ステージ３からウエハ搬送ハンド２へウエハ１を受
渡すだけでよい場合には、ウエハ搬送ハンド２を前記退
避位置に移動させたのち、第５図に示したステップ61か
らステップ68までの動作をさせればよい。
また、本発明の基板の受渡し方法は、マスクまたはレ
チクルなどの基板を縦にしたまま搬送する基板搬送系に
おいても、第２図に示したウエハ搬送ハンド２のハンド
吸着面21およびステージ３の吸着面31の構造をマスクま
たはレチクルの外周部の裏面を吸着・保持するように変
えるだけで、適用可能である。
［発明の効果］ 本発明は、上述のとおり構成されているので、次に記
載する効果を奏する。
基板搬送ハンドからステージに基板を受渡す場合に、
基板搬送ハンドをステージ吸着開始位置で一旦止めたの
ち、ステージによる基板の吸着を開始し、ステージの吸
着面から所定の第１の押付け距離だけ不干渉位置の反対
側に設定された第１の受渡し位置まで、基板搬送ハンド
をそれまでよりも低速度で移動し、また、基板の受渡し
時には、基板搬送ハンドとステージの両方で基板を吸着
し、かつ受渡される側であるステージによる基板の吸着
を確認したのちに、受渡す側である基板搬送ハンドによ
る基板の吸着を解除することにより、一方、ステージか
ら基板搬送ハンドに基板を受渡す場合には、基板搬送ハ
ンドをハンド吸着開始位置で一旦止めたのち、基板搬送
ハンドによる基板の吸着を開始し、ステージの吸着面か
ら所定の第２の押付け距離だけ不干渉位置側に設定され
た第２の受渡し位置まで、基板搬送ハンドをそれまでよ
りも低速度で移動し、また、基板の受渡し時には、基板
搬送ハンドとステージの両方で基板を吸着し、かつ受渡
される側である基板搬送ハンドによる基板の吸着を確認
したのちに、受渡す側であるステージによる基板の吸着
を解除することにより、基板の受渡しを確実に行うこと
ができるため、信頼性の向上が図れるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の基板の受渡し方法の一実施例における
ウエハ搬送ハンドの動きを示す図であり、（ａ）〜
（ｃ）はそれぞれウエハ搬送ハンドからステージにウエ
ハを受渡すときの図、（ｄ）〜（ｆ）はそれぞれステー
ジからウエハ搬送ハンドにウエハを受渡すときの図、第
２図は本発明の基板の受渡し方法の一実施例を示す基板
搬送装置の概略構成図、第３図は第２図に示した基板搬
送装置が有する制御装置のブロック図、第４図はウエハ
搬送ハンドからステージにウエハを受渡すときの第３図
に示した制御装置の動作を説明するフローチャート、第
５図はステージからウエハ搬送ハンドにウエハを受渡す
ときの第３図に示した制御装置の動作を説明するフロー
チャートである。 １……ウエハ、 ２……ウエハ搬送ハンド、 21……ハンド吸着面、 ３……ステージ、 31……吸着面、 ４……ステージ用圧力センサ、 ５……ハンド用圧力センサ、 ６……ハンドＹ軸方向支持台、 ７……ハンドＹ軸方向駆動用パルスモータ、 ８……ハンドＸ軸方向支持台、 ９……ステージベース台、 10……ステージ用電磁バルブ、 11……ハンド用電磁バルブ、 12……ステージＺ軸方向支持台、 13……配管、14……ステージ用配管、 15……ハンド用配管、 20……制御装置、21,22……アンプ、 23,24……コンパレータ、 25……入力側インターフェース、 27……CPU, 28……出力側インターフェース、 29……バルブコントローラ、 30……パルスモータコントローラ、 31〜34……ドライバ、 40……ステージＺ軸方向駆動用パルスモータ、 A0……不干渉位置、 A1……ステージ吸着開始位置、 A2……第１の受渡し位置、 B1……ハンド吸着開始位置、 B2……第２の受渡し位置、 ΔＡ……第１の押付け距離、 ΔＢ……第２の押付け距離、 V01,V02……基準電圧、 X,Y,Z……軸。

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】縦向きの基板を裏面吸着して縦にしたまま
    搬送する基板搬送ハンドから、前記基板を縦にして保持
    するステージへ、前記基板を縦にしたまま前記基板の受
    渡しを行うための方法であって、 前記ステージの吸着面と前記基板とが互いに接触するこ
    となく対向する不干渉位置と前記ステージの吸着面との
    間に予め設定されているステージ吸着開始位置まで、前
    記基板搬送ハンドを所定の速度で移動する工程と、 前記ステージによる前記基板の吸着を開始する工程と、 前記基板搬送ハンドおよび前記ステージによる前記基板
    の吸着が共に行われた状態で、前記ステージに対して前
    記基板が押付けられるように前記ステージの吸着面から
    所定の距離だけ前記不干渉位置の反対側に予め設定され
    ている受渡し位置まで、前記基板搬送ハンドを前記所定
    の速度よりも低速度で移動する工程と、 前記ステージによる前記基板の吸着を確認する工程と、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を解除する工
    程と、 前記受渡し位置よりもさらに前記不干渉位置の反対側に
    予め設定されている退避位置まで、前記基板搬送ハンド
    を移動する工程とを有することを特徴とする基板の受渡
    し方法。
  2. 【請求項２】基板を縦にして保持するステージから、縦
    向きの前記基板を裏面吸着して縦にしたまま搬送する基
    板搬送ハンドへ、前記基板を縦にしたまま前記基板の受
    渡しを行うための方法であって、 前記ステージの吸着面よりも該ステージ側の退避位置と
    前記ステージの吸着面との間に予め設定されているハン
    ド吸着開始位置まで、前記退避位置にある前記基板搬送
    ハンドを所定の速度で移動する工程と、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を開始する工
    程と、 前記基板搬送ハンドおよび前記ステージによる前記基板
    の吸着が共に行われた状態で、前記基板搬送ハンドに対
    して前記基板が押付けられるように前記ステージの吸着
    面から所定の距離だけ前記ハンド吸着開始位置の反対側
    に予め設定されている受渡し位置まで、前記基板搬送ハ
    ンドを前記所定の速度よりも低速度で移動する工程と、 前記基板搬送ハンドによる前記基板の吸着を確認する工
    程と、 前記ステージによる前記基板の吸着を解除する工程と、 前記ステージの吸着面と前記基板とが互いに接触するこ
    となく対向する不干渉位置まで、前記基板搬送ハンドを
    移動する工程とを有することを特徴とする基板の受渡し
    方法。
  3. 【請求項３】基板を縦にして保持するステージと前記基
    板を縦にしたまま搬送するハンドとの間で前記基板を受
    渡すための方法であって、 ステージ吸着開始位置まで前記基板を保持する前記ハン
    ドを移動する工程と、 前記ステージによる、前記ハンドに保持されている前記
    基板の吸着を開始する工程と、 前記ハンドによる前記基板の保持、および、前記ステー
    ジによる前記基板の吸着が共に行われた状態で、前記ス
    テージに対して前記基板が押付けられるように前記ステ
    ージの吸着面に関して前記ステージ吸着開始位置の反対
    側にある受渡し位置まで前記ハンドを移動する工程と、 前記ハンドによる前記基板の保持を解除する工程とを有
    することを特徴とする基板の受渡し方法。
  4. 【請求項４】前記ハンドが受渡し位置まで移動した後、
    前記ステージによる前記基板の吸着を確認することを特
    徴とする請求項３に記載の基板の受渡し方法。
  5. 【請求項５】基板を縦にして保持するステージと前記基
    板を縦にしたまま搬送するハンドとの間で前記基板を受
    渡すための方法であって、 ハンド吸着開始位置まで前記ハンドを移動する工程と、 前記ハンドによる、前記ステージに保持されている前記
    基板の吸着を開始する工程と、 前記ハンドによる前記基板の吸着、および、前記ステー
    ジによる前記基板の保持が共に行われた状態で、前記基
    板搬送ハンドに対して前記基板が押付けられるように前
    記ステージの基板保持面に関して前記ハンド吸着開始位
    置の反対側にある受渡し位置まで前記ハンドを移動する
    工程と、 前記ステージによる前記基板の保持を解除する工程とを
    有することを特徴とする基板の受渡し方法。
  6. 【請求項６】前記ハンドが受渡し位置まで移動した後、
    前記ハンドによる前記基板の吸着を確認することを特徴
    とする請求項５に記載の基板の受渡し方法。
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