JPH05323251A - 近接露光装置の基板搬送機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 近接露光装置のスループットを向上する基板
搬送機構を提供する。 【構成】 基板搬送機構６は、基板搬送経路に沿って対
向するように、分離配置された一対の基板搬送アーム６
１ａ，６１ｂを備え、これらのアームはモータ６７によ
って同期して駆動される。基板搬送アーム６１ａ，６１
ｂには、基板搬入用の吸着パッド６２ａ，６２ｂと、基
板搬出用の吸着パッド６３ａ，６３ｂがある。ローダ位
置ＬＰで、吸着パッド６２ａ，６２ｂに吸着保持された
基板１は、基板搬送アーム６１ａ，６１ｂが同期し駆動
されることにより、露光ステージ３の上方に搬入され、
露光ステージ３の上昇により露光ステージ３に受け渡さ
れる。基板１の搬入と同時に、吸着パッド６３ａ，６３
ｂに吸着保持された露光済みの基板１’はアンローダ位
置ＵＰに搬出される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶表示器用ガ
ラス基板等の表面に感光剤を塗布した基板とマスクとを
近接させて露光し、マスクのパターンを感光剤に焼き付
ける近接露光装置に係り、特に、基板の露光位置への搬
入および、露光位置からの搬出を行う基板搬送機構に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来の近接露光装置における、角型基板
（以下、基板とする）の露光位置への搬入および、露光
位置からの搬出を行う搬送機構としては、例えば、以下
に示すようなものがある。これを図１２に示し、以下に
説明する。図１２は、従来の基板搬送機構の外観を示す
正面図である。基板搬送機構１０１は、搬送機本体１０
２と、前記搬送機本体１０２によって昇降および旋回駆
動される支持軸１０３と、前記支持軸１０３に連結され
たアーム支持台１０４と、前記アーム支持台１０４上を
水平往復移動する水平移動部材１０５と、前記水平移動
部材１０５に連結された基板吸着用のアーム１０６とに
よって構成されている。

【０００３】次に、上述の構成を有する基板搬送機構を
使って、基板を基板カセットから露光位置に搬入する動
作を図１３に従って説明する。まず、図１３（ａ）に示
すように、基板搬送機構１０１は、基板カセット１１０
方向に水平移動部材１０５を移動させアーム１０６を基
板カセット１１０に挿入し、支持軸１０３を少し上昇さ
せ、基板１００をアーム１０６に吸着保持して、再び水
平移動部材１０５を元の位置に戻す。次に、支持軸１０
３を回転駆動して、基板１００を保持したアーム１０６
を１８０°旋回させた後、水平移動部材１０５を前進さ
せて基板１００を露光ステージ１２０の上方に移動させ
る。図１３（ｂ）に示すように、露光ステージ１２０
は、昇降自在の複数本の支持ピン１２１を備えており、
これらの支持ピン１２１を上昇させることにより、基板
１００をアーム１０６から支持ピン１２１上へ移載す
る。基板１００が支持ピン１２１で支持されると、水平
移動部材１０５が後退駆動されることにより、アーム１
０６が露光ステージ１２０の外へ退避する。アーム１０
６が退避すると、支持ピン１２１が下降して、基板１０
０が露光ステージ１２０上に吸着保持される。その後、
露光ステージ１２０が上昇して、基板１００を図示しな
いマスクに近接保持し、基板１００の位置合わせが行わ
れた後、露光処理される。一方、基板搬送機構１０１
は、支持軸１０３を駆動して、アーム１０６を元の状態
に復帰させ、次の基板の搬入まで待機する。

【０００４】また、露光が終了した基板１００を露光位
置から搬出する場合は、露光ステージ１２０と図示しな
い露光済基板収納用カセットとの間に設けられた、同様
の基板搬送機構を使い、この基板搬送機構を上述した基
板搬入動作とは逆の順序で駆動することにより、基板１
００を露光ステージ１２０から搬出してカセットへ収納
する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来の基板搬送機構によれば、基板１
００を露光ステージ１２０の上方に搬入した後、基板１
００を露光ステージ１２０の上に移載するまでに、支持
ピン１２１の上昇行程、アーム１０６の退避行程、およ
び支持ピン１２１の下降行程という３つの行程を経なけ
ればならない。露光済みの基板１００を露光ステージ１
２０から搬出する場合も同様で、まず、露光済みの基板
１００を支持ピン１２１で持ち上げ、基板搬出のために
基板１００と露光ステージ１２０との間にアーム１０６
を侵入させ、そして、支持ピン１２１を下降させること
により基板１００をアーム１０６に移載するという各行
程を経た後でなければ、基板１００を露光ステージ１２
０から搬出することができない。このように、従来の基
板搬送機構は、基板の搬入・搬出にそれぞれ３行程を必
要とするので、基板の搬入・搬出に要する時間が長くな
り、その結果として、近接露光装置のスループットが低
下するという問題点がある。

【０００６】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、近接露光装置における露光処理全体の
スループットを向上させる基板搬送機構を提供すること
を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載した発明は、感光剤が塗布された基
板をローダ位置から昇降自在の露光ステージへ搬入する
とともに、露光済みの基板を前記露光ステージからアン
ローダ位置へ搬出する近接露光装置の基板搬送機構であ
って、少なくとも前記露光ステージの昇降を許容するよ
うに、前記基板の搬送経路に沿って対向して分離配置さ
れ、前記搬送経路に沿って各々移動可能で、かつ、前記
ローダ位置側に基板搬入用の基板支持機構と、前記アン
ローダ位置側に基板搬出用の基板支持機構とを備えた一
対の基板搬送アームと、前記一対の基板搬送アームを同
期して駆動する駆動手段と、を備えたものである。

【０００８】また、請求項２に記載した発明は、上述の
近接露光装置の基板搬送機構において、前記基板支持機
構は、前記基板の端部を吸着保持する吸着面を有する吸
着部を弾性体によって支持したものである。

【０００９】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。基板をローダ位置から露光ステージに搬入する場
合、一対の基板搬送アームの一端はローダ位置にあり、
この位置で基板搬入用の基板支持機構によって基板を支
持する。次に、一対の基板搬送アームは駆動手段によっ
て同期して露光ステージ側に移動される。基板が露光ス
テージの上方に搬入されると、露光ステージが上昇する
ことにより、基板搬送アーム上の基板が露光ステージに
移載される。露光ステージが基板を保持して位置合わせ
等を行っている間に、基板搬送アームは露光ステージに
阻まれることなく、ローダ位置側に戻り、次の基板を基
板搬入用の基板支持機構によって支持する。露光ステー
ジ上の基板の露光が終了すると、露光ステージが下降す
る。このとき、基板搬送アームの他端側の基板搬出用の
基板支持機構は、露光ステージに対向する位置にあるの
で、露光ステージの下降により、露光済みの基板が基板
搬送アームの基板搬出用の基板支持機構に移載される。
そして、基板搬送アームが再び同期して駆動されると、
基板搬入用の基板支持機構に支持された基板がローダ位
置から露光ステージの上方へ搬入されると同時に、基板
搬出用の基板支持機構に支持された露光済みの基板が露
光位置からアンローダ位置に搬出される。以下、露光ス
テージへの基板の搬入と、露光ステージからの基板の搬
出とが並行して行われる。

【００１０】また、請求項２に記載の発明では、上述の
基板搬送アームの基板支持機構として、基板端部を吸着
する吸着面を有する吸着部を弾性体によって支持してい
るので、保持した基板が大サイズのもので、基板の中央
部を保持していないことにより、自重で中央部がたわん
でも、吸着部を支持する弾性体は基板のたわみに応じて
変位する。従って、基板を吸着保持する吸着部の吸着面
は常に基板に密着した状態を保つことができ、空気が入
る隙間をつくらないので、搬送中、吸着部の吸引力を保
つことができる。

【００１１】

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図１は、本実施例に係る近接露光装置の概略の
構成を示す正面図であり、図２は、その平面図である。
ただし、図２では露光光学部を省略してある。本実施例
装置は、基板１を基板カセット２７からローダ位置ＬＰ
にロードするローダロボット２、露光位置ＲＰに搬入さ
れた基板１を吸着保持して、マスク１１に近接させて露
光させる露光ステージ３、基板１に露光する露光光学部
４、露光済の基板１’をアンローダ位置ＵＰから露光済
基板カセット５７にアンロードするアンローダロボット
５および、基板１をローダ位置ＬＰから露光位置ＲＰへ
搬入するとももに、露光済基板１’を露光位置ＲＰから
アンローダ位置ＵＰへ搬出する実施例の要部である基板
搬送機構６等によって構成されている。詳細な構成は後
述するが、基板搬送機構６は、基板搬送経路に沿って対
向配置され、それぞれ同期して水平駆動される一対の基
板搬送アーム６１ａ，６１ｂで構成されており、各基板
搬送アーム６１ａ，６１ｂの基板ロード側には、搬入基
板を吸着保持するためのそれぞれ一対の吸着パッド６２
ａ，６２ｂが設けられており、また、基板アンロード側
には搬出基板を吸着保持するためのそれぞれ一対の吸着
パッド６３ａ，６３ｂが設けられている。

【００１２】図３に示すように、ローダロボット２は、
ロボット本体２１と、前記ロボット本体２１によって昇
降駆動される支持軸２２と、前記支持軸２２に連結され
たアーム支持台２３と、前記アーム支持台２３上を往復
駆動される水平移動部材２４と、前記水平移動部材２４
に片持ち支持されたアーム２５と、前記アーム２５に取
り付けられた基板吸着保持用の吸着部２６とから構成さ
れている。

【００１３】次に、上述の構成を有するローダロボット
２が、基板１を基板カセット２７からローダ位置ＬＰに
ロードする動作を図４に従って説明する。まず、図４
（ａ）に示すように、ロボット本体２１は、待機位置か
ら基板カセット２７方向へ水平移動部材２４を移動させ
アーム２５を基板カセット２７に挿入し、支持軸２２を
上昇させて基板１をアーム２５の吸着部２６に吸着保持
する。次に、同図（ｂ）に示すように、水平移動部材２
４を後退移動させて、基板１を吸着保持したアーム２５
をローダ位置ＬＰに戻し、支持軸２２を降下させなが
ら、基板１の吸着を解除する。このとき、同図（ｃ）の
平面図に示すように、ロードした基板１の端部は、既に
待機している基板搬送機構６の搬入基板用吸着パッド６
２ａ、６２ｂの上に載置される。基板搬送機構６は、搬
入基板用吸着パッド６２ａ、６２ｂで基板１を吸着保持
した状態で基板１を露光位置ＲＰに搬入する。

【００１４】露光ステージ３は、その下部に設置された
複数個のアクチュエータによって構成されるＺ軸ユニッ
ト３１によって、昇降駆動される。露光ステージ３の上
面、すなわち、基板の保持面には、格子状の吸着溝が穿
設されており、その吸着溝には、図示しない吸引ポンプ
に連通した吸着孔が穿設されている。露光ステージ３
は、この吸着溝で、基板の保持面に載置された基板１を
吸着して保持する。さらに、露光ステージ３は、基板の
保持面を含む平面上でＸ、Ｙ、θ方向に変位可能なよう
に、その下部と、Ｚ軸ユニット３１との間に、図示しな
い水平変位駆動部を備えている。

【００１５】次に、露光位置ＲＰでの露光ステージ３の
動作を説明する。基板搬送機構６は、露光位置ＲＰに基
板１を搬入すると、基板１の吸着を解除して待機する。
この状態で、図示しないセンサによって、露光ステージ
３の上方に設置されたマスク１１に対する、搬入時の基
板１の位置ズレが検出される。露光ステージ３は、Ｚ軸
ユニット３１によって、上昇させられながら、検出され
た位置ズレ量に相当する変位量だけ、上述した水平変位
駆動部によって、Ｘ、Ｙ、θ方向に変位させられる。そ
の後、露光ステージ３は、基板搬送機構６から基板１を
受け取って吸着溝で吸着保持し、さらに、マスク１１に
向かって上昇しながら、上述した水平変位駆動部によっ
て、原点復帰されることにより基板１の位置ズレが補正
される。基板１とマスク１１とのギャップが所定量にな
ると露光ステージ３の上昇駆動が停止される。また、こ
のとき、基板搬送構機６は、後述するように、ローダ位
置ＬＰ方向に移動する。露光ステージ３は、露光前に、
基板１とマスク１１とのギャップの微調整を行う。基板
１とマスク１１とが所定のギャップで水平に保持され、
また、顕微光学系による精密な基板位置合わせが行われ
た後、後述する露光光学部４によって露光され、基板１
の表面に塗布された感光材料に、マスクに描画されたパ
ターンが焼き付けられる。露光が終了すると露光ステー
ジ３は、露光済基板１’の吸着を解除し、Ｚ軸ユニット
３１によって、降下させられ、既に待機している基板搬
送機構６の搬出基板用吸着パッド６３ａ、６３ｂ上に基
板１を移載し、さらに、Ｚ軸ユニット３１によって、露
光ステージ３の待機位置まで降下させられる。基板搬送
機構６は、搬出基板用吸着パッド６３ａ、６３ｂに載置
された露光済基板１’を吸着保持して、アンローダ位置
ＵＰに搬出する。

【００１６】露光光学部４においては、紫外線照射用の
例えば、図示しないキセノン（Ｘｒ）ランプからの照射
光がフレネルレンズに入射して、マスク１１に垂直な平
行光となって、マスク１１を通って基板１の表面に照射
される。

【００１７】アンローダロボット５は、上述したローダ
ロボット２と同様の構成であるのでここでの説明は省略
する。以下、アンローダロボット５が、露光済基板１’
をアンローダ位置ＵＰから露光済基板カセット５７にア
ンロードする動作を図５に従って説明する。基板搬送機
構６は、露光済基板１’を吸着保持して、アンローダ位
置ＵＰに搬出し、露光済基板１’の吸着を解除する。こ
の状態で、図５（ａ）、（ｂ）に示すように、ロボット
本体５１は、待機位置から支持軸５２を上昇させ、露光
済基板１’を吸着保持して、露光済基板カセット５７方
向へ水平移動部材５４を移動させ、露光済基板１’を保
持したアーム５５を露光済基板カセット５７に挿入し、
露光済基板１’の吸着を解除して基板１’を露光済基板
カセット５７に格納する。次に、同図（ｃ）に示すよう
に、水平移動部材５４がアンローダ位置ＵＰに戻り、支
持軸５２が降下して待機状態に復帰する。

【００１８】基板搬送機構６の構成を図６、図７に示
し、以下に説明する。図６は、基板搬送機構６の外観を
示す平面図、図７は、その側面図である。基板搬送機構
６は、基板搬送経路に沿って対向配置されたガイドレー
ル６０ａ、６０ｂに沿って各々摺動する分離された一対
の基板搬送アーム６１ａ、６１ｂを備えている。各基板
搬送アーム６１ａ、６１ｂは、ローダ位置ＬＰから露光
位置ＲＰ（露光位置ＲＰからアンローダ位置ＵＰ）にわ
たる長さを有し、両アームの間隔はローダロボット２、
露光ステージ３、およびアンローダロボット５の昇降を
許容する程度に設定されている。各基板搬送アーム６１
ａ、６１ｂのローダ側の内側面には、露光ステージ３に
搬入する基板を吸着保持するためのそれぞれ一対の吸着
パッド６２ａ、６２ｂが取り付けられており、また、ア
ンローダ側の内側面には、露光ステージ３から搬出する
基板を吸着保持するためのそれぞれ一対の吸着パッド６
３ａ、６３ｂが取り付けられている。なお、各吸着パッ
ドの詳細な構成は後述する。各搬送アーム６１ａ、６１
ｂにはナット６４ａ、６４ｂがそれぞれ連結されてお
り、これらのナット６４ａ、６４ｂがネジ軸６５ａ、６
５ｂに螺合されている。ネジ軸６５ａ、６５ｂのローダ
側端部には、それぞれプーリ６６ａ、６６ｂが取り付け
られている。また、ネジ軸６５ａ、６５ｂのローダ側端
部の中間下方にモーター６７が配設されており、このモ
ータ６７の出力軸にプーリ６９ａ、６９ｂが取り付けら
れている。そして、プーリ６６ａとプーリ６９ａとの間
に無端ベルト７０ａが、プーリ６６ｂとプーリ６９ｂと
の間に無端ベルト７０ｂが、それぞれ掛けられている。
以上の構成により、モーター６７が回転駆動されると、
その回転力がねじ軸６５ａ、６５ｂに伝達され、ナット
６４ａ、６４ｂとともに、基板搬送アーム６１ａ、６１
ｂが同期して基板搬送経路に沿って移動する。

【００１９】なお、各基板搬送アーム６１ａ、６１ｂを
同期して移動させる手段は、上述した１個のモーター６
７の回転力をベルト７０ａ、７０ｂでネジ軸６５ａ、６
５ｂに伝達する以外にも、２個のモーターをそれぞれ電
気的に同期回転させて各ネジ軸６５ａ、６５ｂを駆動す
るようにしてもよい。

【００２０】上述の搬入基板用吸着パッド６２ａ、６２
ｂ、搬出基板用吸着パッド６３ａ、６３ｂとして用いる
吸着パッドの構造を図８に示し、以下に説明する。吸着
パッドは、吸着部７２が、筒状の支持材７３とコイルバ
ネ７４とによって、支持部７１の上面と吸着部７２の底
面７２ｃとが若干離れた状態で支持されるように構成さ
れている。

【００２１】吸着部７２の吸着面には、基板を載置した
とき負圧室が形成されるように長孔７２ａが穿設されて
おり、その長孔７２ａには支持材７３、支持部７１内を
通って、図示しない吸引ポンプに連通するための吸引孔
７２ｂが穿設されている。また、吸着部７２はアルミニ
ウム等の金属で形成され、その表面はフッ化樹脂で覆わ
れている。なお、このように、表面をフッ化樹脂で覆う
ことにより、基板との密着性を高めて吸着力を増すこと
ができるとともに、パーティクルの発生を抑えることが
できる。

【００２２】支持材７３は、ゴム等の弾性体材料によっ
て形成する。また、支持材７３は、２本のバネ７４に挟
まれて吸着部７２の中央を支持し、バネ７４は、支持材
７３を補助的に支持する。この支持材７３とバネ７４に
よって、吸着部７２を変位自在に構成している。

【００２３】上述した基板搬送アーム６１ａ、６１ｂに
基板１を吸着したとき、図９に示すように、基板１の中
央部がたわむ。これは、中央部で支持されていない基板
１がその自重でたわむものであり、特に基板１のサイズ
が大きくなるに従って、たわみは大きくなる。このよう
な場合でも、上述の吸着パッドを使用していれば、吸着
部７２は支持材７３とバネ７４によって、基板１のたわ
みに応じて変位する。これにより、基板１を吸着保持す
る吸着部７２の吸着面は常に基板１に密着した状態を保
つことができ、空気が入る隙間をつくらないので、基板
搬送中、吸着部７２の吸引力を保つことができる。

【００２４】次に、上述の構成を有する基板搬送機構６
が、基板１をローダ位置ＬＰから露光位置ＲＰへ搬入
し、露光済基板１’を露光位置ＲＰからアンローダ位置
ＵＰへ搬出する動作を図１０に従って説明する。図１０
（ａ）に示すように、基板搬送機構６が待機位置にある
時、ローダ位置ＬＰでは、上述したローダロボット２
が、基板搬送機構６の搬入基板用吸着パッド６２ａ、６
２ｂの間を降下して、基板カセット２７からロードして
きた基板１を搬入基板用吸着パッド６２ａ、６２ｂ上に
載置する。このとき、基板搬送機構６の搬入基板用吸着
パッド６２ａ、６２ｂは、載置された基板１を吸着保持
する。一方、その動作に同期して、露光位置ＲＰでは、
上述した露光ステージ３が、基板搬送機構６の搬出基板
用吸着パッド６３ａ、６３ｂの間を降下して、露光の終
了した基板１’（前回搬入した基板１）を搬出基板用吸
着パッド６３ａ、６３ｂ上に載置する。このとき、基板
搬送機構６の搬出基板用吸着パッド６３ａ、６３ｂは、
載置された基板１’を吸着保持する。この２つの動作が
同時に終了する。そして、基板搬送機構６は、２枚の基
板を吸着した状態で、図１０（ｂ）に示すように、アン
ローダ位置ＵＰ方向に移動する。

【００２５】基板搬送機構６が、図１０（ｂ）の状態に
ある時、露光位置ＲＰでは、搬入された基板の位置ズレ
を検出した後、上述した露光ステージ３が、基板搬送機
機６の搬入基板用吸着パッド６２ａ、６２ｂの間を上昇
して、搬入された基板１を露光ステージ３上に受け取
る。このとき、基板搬送機構６の搬入基板用吸着パッド
６２ａ、６２ｂは、基板１の吸着を解除しており、基板
１を受け取った露光ステージ３は、基板１を吸着保持し
て、さらに、マスク１１に近接させるために上昇され
る。一方、その動作に同期して、アンローダ位置ＵＰで
は、上述したアンローダロボット５が、基板搬送機構６
の搬出基板用吸着パッド６３ａ、６３ｂの間を上昇し
て、搬出された露光済基板１’をアンローダロボット５
の吸着部５６上に受け取る。このとき、基板搬送機構６
の搬出基板用吸着パッド６３ａ、６３ｂは、搬出してき
た露光済基板１’の吸着を解除している。露光済基板
１’を受け取ったアンローダロボット５は、露光済基板
１’を吸着保持して露光済基板カセット５７に格納す
る。上述のように、基板搬送機構６が搬入、搬出してき
た基板１、１’をそれぞれ露光ステージ３、アンローダ
ロボット５に渡し終わると、基板搬送機構６は空の状態
で、図１０（ｃ）に示すように、ローダ位置ＬＰ方向に
移動する。そして、この状態で待機していると、再び、
図１０（ａ）に示したように、ローダロボット２が、ロ
ーダ位置ＬＰに基板１をロードしてきて、基板搬送機構
６の搬入基板用吸着パッド６２ａ、６２ｂに渡し、一
方、露光ステージ３が、露光位置ＲＰで露光済基板１’
を降下させてきて、基板搬送機構６の搬出基板用吸着パ
ッド６３ａ、６３ｂに渡す。以後同様に、搬入と搬出を
同時に行う。

【００２６】次に、上述した各部の動作を図１１に示す
タイムチャートを使って、ある基板（ｎ）のロードから
アンロードまでを説明する。図の記載表現は、例えば、
ローダロボット２のアーム２５は、ｔ₁ で左（基板カセ
ット２７方向）に移動を開始し、ｔ₂ で移動が完了する
（基板カセット２７内に挿入が完了）とともにアーム２
５が上昇を開始し、ｔ₃ で基板カセット２７内に挿入さ
れた状態でアーム２５が上昇を完了（基板に当接）した
ことを示している。

【００２７】ｔ₁ でローダロボット２は、基板（ｎ）の
ロード作業を開始し、ｔ₄ でローダ位置ＬＰにロードを
完了し、基板搬送機構６にロードしてきた基板（ｎ）を
渡す。基板（ｎ）を渡された基板搬送機構６は、そのタ
イミング（ｔ₄ ）で右（露光位置ＲＰ方向）に移動を開
始し、ｔ₅ で移動を完了する。また、前回搬入した基板
（ｎ−１）が、ｔ₄ で露光を完了しており、露光ステー
ジ３の降下も完了している。すなわち、ｔ₄ では前回搬
入した露光済の基板（ｎ−１）は、基板搬送機構６の搬
出側で吸着保持されているので、基板（ｎ）の搬入と、
露光済の基板（ｎ−１）の搬出をｔ₄ からｔ₅ で同時に
行う。

【００２８】ｔ₅ からｔ₆ までは、基板の位置ズレの検
出等が行われる。ｔ₆ からｔ₇ で露光ステージ３は、基
板（ｎ）を受け取り、マスク１１に近接させる。また、
ｔ₇では、基板搬送機構６が次の基板（ｎ＋１）を搬入
するために空のまま左に移動を開始する。ｔ₇ からｔ₈
までで基板とマスクとのギャップの微調整が行われ、基
板とマスクとの間が規定のギャップで水平に保持される
とｔ₈ からｔ₉ の間、露光光学部４は露光を行う。ま
た、このｔ₈ からｔ₉ までの間に搬出した基板（ｎ−
１）は、アンローダロボット５が、露光済基板カセット
５７にアンロードを完了している。

【００２９】基板（ｎ）の露光が完了すると、露光ステ
ージ３は降下し、ｔ₁₀から基板搬送機構６が右（アンロ
ーダ位置ＵＰ方向）に移動する。また、この移動過程に
おいて、次の基板（ｎ＋１）の搬入が同時に行われる。
ｔ₁₁からｔ₁₂までは、基板（ｎ＋１）の位置ズレの検出
等が行われる。ｔ₁₂からｔ₁₃までで基板（ｎ）は、アン
ローダロボット５によって、露光済基板カセット５７に
アンロードされる。また、このとき、次に搬入した基板
（ｎ＋１）の露光が行われている。

【００３０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、基板搬入用の基板支持機構と
基板搬出用の基板支持機構とを備えた一対の基板搬送ア
ームを、露光ステージの昇降を許容するように、基板搬
送経路に沿って対向して分離配置し、前記両基板搬送ア
ームが同期して駆動するように構成しているので、基板
搬送アームの動きが露光ステージによって邪魔された
り、逆に、露光ステージの動きが基板搬送アームによっ
て邪魔されるといった相互干渉がない。つまり、従来の
基板搬送機構のように基板の搬入・搬出のために、露光
ステージの支持ピンを昇降させたり、露光ステージを上
昇させるためにアームを退避させたりする行程が不要に
なるので、基板の搬入・搬出に要する時間が短縮され、
その結果として、近接露光装置のスループットを向上す
ることができる。また、本発明によれば、基板搬送アー
ムの一回の動きによって、基板の搬入と搬出を同時に行
うことができるので、近接露光装置のスループットを一
層向上することができる。

【００３１】また、請求項２に記載の発明によれば、基
板の搬入・搬出のために基板端部を吸着保持する吸着面
を有する吸着部を弾性体によって支持しているので、支
持された基板のたわみに応じて吸着部が変位する。した
がって、大サイズの基板であっても、吸着部で基板を確
実に吸着保持して、基板を搬送することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る近接露光装置の概略の
構成を示す正面図である。

【図２】実施例装置の概略の構成を示す平面図である。

【図３】ローダロボットの構成を示す外観斜視図であ
る。

【図４】ローダロボットの動作を示す図である。

【図５】アンローダロボットの動作を示す図である。

【図６】基板搬送機構の概略の構成を示す平面図であ
る。

【図７】基板搬送機構の概略の構成を示す側面図であ
る。

【図８】吸着パッドの構造を示す図である。

【図９】吸着パッドの作用を示す図である。

【図１０】基板搬送機構の動作を示す図である。

【図１１】各部の動作を示すタイムチャートである。

【図１２】従来の基板搬送機構の概略の構成を示す正面
図である。

【図１３】従来の基板搬送機構の動作を示す図である。

【符号の説明】

１ … 基板 １’ … 露光済基板 ２ … ローダロボット ３ … 露光ステージ ４ … 露光光学部 ５ … アンローダロボット ６ … 基板搬送機構 ２７ … 基板カセット ５７ … 露光済基板カセット ６１ａ、６１ｂ … 基板搬送アーム ６２ａ、６２ｂ … 搬入基板用吸着パッド（基板支持
機構） ６３ａ、６３ｂ … 搬出基板用吸着パッド（基板支持
機構）

フロントページの続き (72)発明者 和田 康之 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 深尾 直志 京都市伏見区羽束師古川町322番地 大日 本スクリーン製造株式会社洛西工場内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 感光剤が塗布された基板をローダ位置か
   ら昇降自在の露光ステージへ搬入するとともに、露光済
   みの基板を前記露光ステージからアンローダ位置へ搬出
   する近接露光装置の基板搬送機構であって、 少なくとも前記露光ステージの昇降を許容するように、
   前記基板の搬送経路に沿って対向して分離配置され、前
   記搬送経路に沿って各々移動可能で、かつ、前記ローダ
   位置側に基板搬入用の基板支持機構と、前記アンローダ
   位置側に基板搬出用の基板支持機構とを備えた一対の基
   板搬送アームと、 前記一対の基板搬送アームを同期して駆動する駆動手段
   と、 を備えたことを特徴とする近接露光装置の基板搬送機
   構。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の近接露光装置の基板搬
   送機構において、前記基板支持機構は、前記基板の端部
   を吸着保持する吸着面を有する吸着部を弾性体によって
   支持したものである近接露光装置の基板搬送機構。