JP2011165744A - 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる光学部材変形装置、光学系、露光装置、及び、デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】凹面鏡４１の形状を変形させるミラー変形装置５３において、凹面鏡４１に対して吸着する吸着部と、アクチュエータ６１から伝達される駆動力に基づいて、吸着部を変位させる変位機構と、変位機構から吸着部に伝達される変位量を縮小する弾性部とを備える。
【選択図】図２

Description

本発明は、光学部材の形状を変形させる光学部材変形装置、該光学部材変形装置を備える光学系、該光学系を備える露光装置、及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法に関するものである。

一般に、半導体素子、液晶表示素子等のデバイスを製造するためのリソグラフィ工程では、レチクル、フォトマスク等のマスクに形成された所定のパターンを、投影光学系を介してレジスト等が塗布されたウエハやガラスプレート等の基板上に転写する露光装置が用いられている。こうした露光装置では、投影光学系を構成する少なくとも一部の光学部材に対して不均一な熱膨張が加わった場合に光学部材が局所的に変形することがあり得る。そして、そのように光学部材が変形した場合には、投影光学系の光学特性が変化してしまい、基板に対するパターン像の投影不良が発生する虞があった。そこで、従来の露光装置には、投影光学系の光学特性を調整するために、光学部材の形状を積極的に変形させるための機構を設ける構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。

すなわち、上記露光装置には、マスクと投影光学系との間に配置される補正板の形状を変形させることにより、非対称性の像歪み等の結像特性を補正する補正機構が設けられている。補正機構は、補正板に対して真空吸着する真空吸着部を備え、真空吸着部は、真空配管につながる吸着溝が形成された複数の吸着面を有している。また、これらの吸着面にはピエゾ素子が個別に連結されている。そして、これらの吸着面は、補正板に対して真空吸着した状態でピエゾ素子の伸縮駆動に伴って移動することにより変位し、補正板の面形状を変形させるようになっている。

特開２０００−１９５７８４号公報

ところで、上記露光装置では、吸着面にピエゾ素子が直接接続されている。そのため、ピエゾ素子が大きく伸張又は収縮した場合には、吸着面の変位量も多くなり、結果として、吸着面から補正板に対して過大な力が作用してしまう虞があった。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる光学部材変形装置、光学系、露光装置、及び、デバイスの製造方法を提供することにある。

上記目的を達成するために、本発明は、実施形態に示す図１〜図８に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の光学部材変形装置は、光学部材（４１）の形状を変形させる光学部材変形装置（５３）において、前記光学部材（４１）に対して吸着する吸着部材（７１）と、駆動源（６１）から伝達される駆動力に基づいて、前記吸着部材（７１）を変位させる変位機構と、前記変位機構から前記吸着部材（７１）に伝達される変位量を縮小する縮小機構（７２）とを備えることを要旨とする。

上記構成によれば、変位機構からの変位量は縮小機構によって縮小された状態で吸着部材に伝達される。そのため、変位機構から吸着部材を介して光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる。

なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。

本発明によれば、光学部材に対して過大な力が作用することを抑制できる。

本実施形態の露光装置の概略断面図 （ａ）は図１の２ａ−２ａ線矢視断面図、（ｂ）は本実施形態のミラー変形装置の断面図。 （ａ）は本実施形態の吸着機構の側面図、（ｂ）は図３（ａ）の部分破断断面図。 （ａ）は初期状態のミラー変形装置の断面図、（ｂ）は図４（ａ）よりもアクチュエータが収縮した状態を示す断面図、（ｃ）は図４（ａ）よりもアクチュエータが伸長した状態を示す断面図。 （ａ）は初期状態のミラー変形装置の模式図、（ｂ）は図５（ａ）よりもアクチュエータが伸長した状態を示す模式図、（ｃ）は図５（ｂ）よりもアクチュエータが伸長した状態を示す模式図、（ｄ）は初期状態よりもアクチュエータが収縮した状態を示す模式図、（ｅ）は吸着部が凹面鏡の裏面から離間した状態を示す模式図。 （ａ）は別の実施形態の吸着機構の側面図、（ｂ）は別の実施形態の吸着機構の部分破断断面図。 デバイスの製造例のフローチャート。 半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。

以下、本発明を具体化した一実施形態について図１〜図５に基づき説明する。なお、本実施形態では、図１において、後述する投影光学系１５を構成する反射屈折光学系の第１光軸ＡＸ１に平行にＺ軸を、第１光軸ＡＸ１に垂直な面内において図１の紙面に平行にＹ軸を、紙面に垂直にＸ軸を、それぞれ設定している。

図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、所定の回路パターンが形成された透過型のレチクルＲを露光光ＥＬで照明することにより、露光面Ｗａ（＋Ｚ方向側の面であって、図１では上面）にレジストなどの感光性材料が塗布された感光性基板としてのウエハＷに回路パターンを形成するための装置である。そして、こうした露光装置１１は、光源装置１２から射出された露光光ＥＬをレチクルＲの被照射面Ｒａ（＋Ｚ方向側の面）に導く照明光学系１３と、レチクルＲを保持するレチクルステージ１４と、レチクルＲを透過した露光光ＥＬをウエハＷの露光面Ｗａに導く投影光学系１５と、ウエハＷを保持するウエハステージ１６とを備えている。なお、本実施形態の光源装置１２は、１９３ｎｍの波長の光を出力するＡｒＦエキシマレーザ光源を有し、該ＡｒＦエキシマレーザ光源から出力される光が露光光ＥＬとして露光装置１１内に導かれる。

光源装置１２と照明光学系１３との間には、ビームマッチングユニット１７が連結されている。ビームマッチングユニット１７は、光源装置１２と露光装置１１とを光学的に接続しており、光源装置１２から射出された露光光ＥＬを露光装置１１内に導くようになっている。なお、光源装置１２から照明光学系１３における最もレチクルＲ側の光学部材までの空間域は、露光光ＥＬの吸収率が低い気体であるヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されている。

照明光学系１３の下方には、架台１８が設けられている。架台１８は、定盤１９上に立設される下部架台２０と、該下部架台２０上に支持される上部架台２１とによって構成されている。また、上部架台２１の上面にはレチクルステージ１４が載置されている。レチクルステージ１４は、レチクルＲを保持する保持面１４ａをＸＹ平面に対して平行とするように配置されている。また、レチクルステージ１４は、レチクルステージ駆動部（図示略）の駆動によって、Ｙ軸方向に所定ストロークで移動可能である。また、レチクルステージ駆動部は、レチクルステージ１４をＸ軸方向、Ｚ軸方向及びＺ軸周りの回転方向にも微小量移動させるように構成されている。そして、照明光学系１３から射出される露光光ＥＬは、レチクルＲを透過した後、上部架台２１の上壁部の略中央に形成された透過口２２を介して架台１８内に収容される投影光学系１５に導かれるようになっている。なお、レチクルＲが露光光ＥＬで照明される場合、該レチクルＲの被照射面Ｒａの一部には、Ｘ軸方向に延びる略矩形状の照明領域が形成されるようになっている。

投影光学系１５は、該投影光学系１５の第１光軸ＡＸ１を中心とする略円筒状の上部鏡筒２３と、第１光軸ＡＸ１と直交する第２光軸ＡＸ２を中心とする略円筒状の横鏡筒２４と、上部鏡筒２３よりもウエハＷ側に配置され且つ第１光軸ＡＸ１を中心とする略円筒状の下部鏡筒２５とを備えている。下部鏡筒２５は、下部架台２０の上壁部の略中央に形成された開口部２６を上下方向に挿通している。そして、これらの各鏡筒２３，２４，２５は結合部材２７を介して互いに結合されている。なお、結合部材２７は、下部架台２０における開口部２６の口縁近傍に取り付けられている。

上部鏡筒２３の上端部（＋Ｚ方向側の端部）には、該上部鏡筒２３の開口を閉塞するカバーガラス３１が設けられている。そして、投影光学系１５に導かれる露光光ＥＬは、カバーガラス３１を透過して上部鏡筒２３の内部に入射するようになっている。また、上部鏡筒２３の下端部（−Ｚ方向側の端部）は結合部材２７に挿入されている。

なお、上部鏡筒２３によって保持される複数（図１では１つのみ図示）の光学部材３２は第１結像光学系３３を構成している。そして、第１結像光学系３３は、上部鏡筒２３の内部にレチクルＲの回路パターンの第１中間像を形成するようになっている。

横鏡筒２４は、有底筒状をなしており、その底部３５が結合部材２７の側面に形成された開口部３６を介して結合部材２７に挿入されている。また、横鏡筒２４の上側壁（即ち、上部鏡筒２３側の側壁）には、第１光軸ＡＸ１を略中心とする開口部４７が貫通形成されており、横鏡筒２４内には、上部鏡筒２３側から開口部４７を介して露光光ＥＬが入射するようになっている。また、横鏡筒２４の下側壁（即ち、下部鏡筒２５側の側壁）には、第１光軸ＡＸ１を略中心とする開口部４８が貫通形成されており、横鏡筒２４からは、開口部４８を介して下部鏡筒２５側に露光光ＥＬが射出されるようになっている。こうした横鏡筒２４は、結合部材２７に挿入される底部３５によって直角反射鏡３８を保持している。

また、横鏡筒２４は、横鏡筒２４の内壁に固定された保持部材４０を介して負レンズ３９及び凹面鏡４１を保持している。この凹面鏡４１の側面には略円環状をなす被保持部４１ａ（図２（ｂ）参照）が形成されており、横鏡筒２４の保持部材４０はこの被保持部４１ａを介して凹面鏡４１を保持している。一例として、横鏡筒２４の保持部材４０は、第２光軸ＡＸ２を中心とする周方向に沿って等間隔に複数（例えば３つ）配置されており、凹面鏡４１は、保持部材によって複数点（例えば３点）で保持されている。

また、横鏡筒２４内の右端側には、該横鏡筒２４の内径とほぼ同一の径を有する円板状のリアクションプレート４２が横鏡筒２４の開口を閉塞するように設けられている。また、横鏡筒２４の右側には、有底略円筒状をなす封止部材４３が横鏡筒２４の外側からリアクションプレート４２を覆うように設けられている。なお、リアクションプレート４２と封止部材４３の底壁（図１では右側の壁部）との間には、所定の空間Ｓが形成されている。

横鏡筒２４に保持される直角反射鏡３８には、第１光路折り曲げ鏡４４及び第２光路折り曲げ鏡４５が形成されている。第１光路折り曲げ鏡４４は、第１結像光学系３３が形成する第１中間像の近傍位置に配置され、第１結像光学系３３から開口部４７を介して横鏡筒２４内に入射する露光光ＥＬをほぼ直角に反射して負レンズ３９に導くようになっている。また、第２光路折り曲げ鏡４５は、負レンズ３９を通過して凹面鏡４１で反射された露光光ＥＬを、負レンズ３９を再度通過させた後にほぼ直角に反射して開口部４８を介してウエハＷ側に射出するようになっている。すなわち、本実施形態では、横鏡筒２４によって保持される直角反射鏡３８、負レンズ３９、及び凹面鏡４１によって第２結像光学系４６が構成されている。こうした第２結像光学系４６は、第１中間像の形成位置の近傍となる第２光路折り曲げ鏡４５の近傍にレチクルＲの回路パターンの第２中間像を形成するようになっている。なお、第２中間像は、第１中間像とほぼ等倍であり、レチクルＲの回路パターンの二次像となっている。

下部鏡筒２５の上端側は結合部材２７に挿入されている。また、下部鏡筒２５の下端側には、該下部鏡筒２５の開口を閉塞するカバーガラス５０が設けられている。そして、投影光学系１５の内部を通過した露光光ＥＬは、カバーガラス５０を透過して投影光学系１５から射出されるようになっている。

こうした下部鏡筒２５内には、複数（図１では３つのみ図示）の光学部材５１が第１光軸ＡＸ１に沿って保持されており、各光学部材５１によって第３結像光学系５２が構成されている。そして、第３結像光学系５２は、第２結像光学系４６によって形成される第２中間像からの光束に基づいて、レチクルＲの回路パターンの縮小像（第２中間像の像であって回路パターンの最終像）をウエハＷの露光面Ｗａに形成するようになっている。また、投影光学系１５の内部は、上記のカバーガラス３１、リアクションプレート４２、及びカバーガラス５０によって気密化された状態で、露光光ＥＬの吸収率が低い気体であるヘリウムガスや窒素などの不活性ガスで置換されている。

投影光学系１５の下方には、ウエハステージ１６が定盤１９上に設けられている。ウエハステージ１６は、ウエハＷを保持する保持面１６ａをＸＹ平面に対して平行とするように配置されている。また、ウエハステージ１６は、ウエハステージ駆動部（図示略）によって、Ｙ軸方向に移動可能である。また、ウエハステージ駆動部は、ウエハステージ１６をＸ軸方向、Ｚ軸方向及びＺ軸周りの回転方向にも微小量移動させるように構成されている。

そして、本実施形態の露光装置１１を用いてウエハＷの一つのショット領域にレチクルＲの回路パターンを形成する場合、照明光学系１３によって照明領域をレチクルＲに形成した状態で、レチクルステージ駆動部の駆動によって、レチクルステージ１４に保持されるレチクルＲをＹ軸方向（例えば、＋Ｙ方向側から−Ｙ方向側）に所定ストローク毎に移動させる。また同時に、ウエハステージ駆動部の駆動によって、ウエハステージ１６に保持されるウエハＷをレチクルＲのＹ軸方向に沿った移動に対して投影光学系１５の縮小倍率に応じた速度比でＹ軸方向（例えば、−Ｙ方向側から＋Ｙ方向側）に同期して移動させる。そして、一つのショット領域へのパターンの形成が終了した場合、ウエハＷの他のショット領域に対するパターンの形成が連続して行われる。

本実施形態の露光装置１１では、横鏡筒２４に保持される凹面鏡４１の形状を意図的に変形させて、投影光学系１５の光学特性が調整されるようになっている。そこで次に、凹面鏡４１の形状を変形させるためのミラー変形装置５３について説明する。

図２（ａ）（ｂ）に示すように、リアクションプレート４２には、複数（本実施形態では１７つ、図２（ｂ）において１つのみ図示）の挿入部５４がリアクションプレート４２の厚み方向（Ｙ軸方向）に貫通するように形成されている。こうした各挿入部５４は、リアクションプレート４２の全域に均等又は不均等に分散して形成されている。なお、各挿入部５４は、リアクションプレート４２の周縁部に均等又は不均等に分散して形成してもよい。そして、本実施形態では、複数（本実施形態では１７つ）のミラー変形装置５３がこれらの挿入部５４に個別に挿入されている。なお、各ミラー変形装置５３は、それぞれ同じ構成を有しているため、明細書の説明理解の便宜上、これらのミラー変形装置５３のうち最も−Ｚ方向側に配置されるミラー変形装置５３のみを以下説明し、他のミラー変形装置５３については説明を省略する。

図２（ｂ）に示すように、ミラー変形装置５３は、リアクションプレート４２から投影光学系１５の第２光軸ＡＸ２に沿って立設される支持部材５５を備えており、該支持部材５５は、所定の空間Ｓ内において挿入部５４よりも径方向内側に位置している。こうした支持部材５５の基端側（図２（ｂ）では上端側）は、回動レバー５６ａによってリアクションプレート４２に固定されている。また、リアクションプレート４２には、支持部材５５が固定される部位の近傍に、リアクションプレート４２の径方向に延びるようにガイドレール５６ｂが設けられている。そして、支持部材５５は、回動レバー５６ａの回動操作に伴って、回動レバー５６ａによる固定が解除された状態では、ガイドレール５６ｂによってガイドされつつ、リアクションプレート４２の径方向に移動可能に構成されている。また、支持部材５５は、先端側（図２（ｂ）では下端側）から直角に屈曲してリアクションプレート４２の径方向外側に向けて延設される第１延設部５５ａと、基端側と先端側の略中央位置からリアクションプレート４２の径方向外側に向けて延設される第２延設部５５ｂとを有している。

支持部材５５の第１延設部５５ａには第１連結部材５７が弾性材料からなる弾性ヒンジ５８を介して連結されている。第１連結部材５７は、断面略Ｌ字状をなしており、支持部材５５の第１延設部５５ａの延設方向と略平行に延びる底部５７ａと、該底部５７ａの一端側（図２（ｂ）では左端側）から略垂直に屈曲して支持部材５５の立設方向と略平行に延びる側部５７ｂとを備えている。第１連結部材５７の底部５７ａの他端側（図２（ｂ）では右端側）は、第１延設部５５ａの一方側（図２（ｂ）において上側）に位置していると共に、弾性ヒンジ５８を介して第１延設部５５ａの一端側（径方向外側であって、図２（ｂ）では左端側）に連結されている。そして、第１連結部材５７は、弾性ヒンジ５８の弾性変形に伴って支持部材５５の第１延設部５５ａに対して相対変位するようになっている。また、第１連結部材５７の底部５７ａの一方の面は、弾性ヒンジ５８との連結部よりも一端側（径方向内側であって、図２（ｂ）では右端側）において、コイルスプリング５９を介して支持部材５５の第１延設部５５ａに接続されている。このコイルスプリング５９は、第１連結部材５７の底部５７ａを−Ｙ方向側に押圧している。

また、第１連結部材５７の底部５７ａの他方の面は、一方の面において径方向において弾性ヒンジ５８とコイルスプリング５９との間となる位置で、アクチュエータ（例えば、圧電素子）６１を介して支持部材５５の第２延設部５５ｂに接続されている。このアクチュエータ６１は、第２光軸ＡＸ２とほぼ平行な方向（Ｙ軸方向）に沿って伸縮可能に構成されている。また、このアクチュエータ６１は、その基端が第２延設部５５ｂに連結されると共に、その先端が第１連結部材５７の底部５７ａに連結されている。そして、第１連結部材５７の底部５７ａには、アクチュエータ６１の伸長駆動に伴ってアクチュエータ６１から力が作用し、結果として、第１連結部材５７は、弾性ヒンジ５８の弾性変形に伴って該弾性ヒンジ５８を支点としてＸ軸周りに揺動するようになっている。また、第１連結部材５７の側部５７ｂの一方端側（図２（ｂ）では上端側）には、弾性材料からなる弾性ヒンジ６２を介して第２連結部材６３に連結されている。すなわち、第１連結部材５７において第２連結部材６３に連結される側部５７ｂの連結部が、アクチュエータ６１に連結される底部５７ａの連結部よりも、揺動支点となる弾性ヒンジ５８からＺ軸方向に相対的に大きく離間している。

第２連結部材６３は、第１連結部材５７よりもＹ軸方向においてリアクションプレート４２に近接する位置に配置されると共に、径方向における長さがＹ軸方向における長さよりも長くなるように形成されている。そして、弾性ヒンジ６２は、第２連結部材６３において径方向における中心よりも径方向外側の部位であって、且つＹ軸方向における中心よりも＋Ｙ方向側の部位に接続されている。こうした第２連結部材６３は、弾性ヒンジ６２の弾性変形に伴って第１連結部材５７に対して相対変位するようになっている。また、第２連結部材６３には、弾性材料からなる弾性ヒンジ６４を介して変位部材６５が連結されている。なお、弾性ヒンジ６４は、第２連結部材６３において径方向における中心よりも径方向内側の部位であって、且つＹ軸方向における中心よりも−Ｙ方向側の部位に接続されている。

また、変位部材６５と支持部材５５との間には、変位部材６５とＹ軸方向で略同一位置に、第２光軸ＡＸ２を中心とする径方向（図２（ｂ）では左右方向）に延びる可撓性部材６６が介設されている。可撓性部材６６は、第２光軸ＡＸ２に沿ったＹ軸方向とは異なるＺ軸方向及びＺ軸方向と直交するＸ軸方向には高い剛性を有する一方で、支持部材５５の立設方向でもあるＹ軸方向には低い剛性を有している。そのため、変位部材６５は、可撓性部材６６がＹ軸方向に容易に撓み変形するため、投影光学系１５の第２光軸ＡＸ２に沿うＹ軸方向への変位が可撓性部材６６によって自在に許容されるようになっている。一方、変位部材６５は、可撓性部材６６がＸ軸方向及びＺ軸方向にはほとんど変形（伸長）しないため、Ｙ軸方向と直交するＸＺ平面内での変位が可撓性部材６６によって規制されるようになっている。

また、変位部材６５に対して該変位部材６５の変位方向（Ｙ軸方向）と直交するＸ軸方向で対向する位置には、変位部材６５の変位量（より具体的には、変位部材６５のＹ軸方向の変位量）を計測する変位センサ６７が設けられている。変位センサ６７は、変位部材６５に固着されたスケール６８（図３（ａ）参照）の位置情報を検出することにより変位部材６５の変位量を計測し、その計測結果を制御機構６９に送信する。そして、制御機構６９は、変位センサ６７から受信した計測結果に基づき、アクチュエータ６１の伸長量を駆動制御するようになっている。また、変位部材６５には、リアクションプレート４２の径方向において挿入部５４と略同一の位置に、凹面鏡４１の裏面４１ｂに吸着する吸着機構７０が連結されている。

次に、吸着機構７０の構成について図３（ａ）（ｂ）に基づき説明する。
図３（ａ）（ｂ）に示すように、本実施形態の吸着機構７０は、凹面鏡４１の裏面４１ｂに対向して配置される吸着部７１と、該吸着部７１を変位部材６５に対して連結させる弾性部７２とを備えている。吸着部７１及び弾性部７２は、それぞれ金属材料から構成されており、弾性部７２の先端に吸着部７１が支持されている。

吸着部７１は、内部に所定の空間域Ｓ１が形成された短円筒形状をしている。そして、吸着部７１における凹面鏡４１の裏面４１ｂに対向する壁面には、吸着部７１内の空間域Ｓ１を外部に連通させる連通孔７３が形成されている。また、吸着部７１における弾性部７２に接続される側の接続面の略中央位置には、吸着部７１内の空間域Ｓ１に連通する連通口７４が形成されている。

弾性部７２は、内部が中空状をなす軸部７２ａと、この軸部７２ａの軸方向に所定間隔をおいて離間配置された複数（本実施形態では４つ）の短円筒部７２ｂとが一体化された構成をなし、全体形状が内部に空間域Ｓ２が形成された蛇腹構造となっている。そして、軸部７２ａの長手方向の一端側が吸着部７１に接続されると共に、長手方向の他端側が変位部材６５に接続されている。なお、弾性部７２の空間域Ｓ２は、吸着部７１の接続面に形成された連通口７４を介して吸着部７１の空間域Ｓ１に連通している。

また、弾性部７２は、軸部７２ａ及び短円筒部７２ｂにおける肉厚が薄くなるように成形されており、全体として剛性の低い構造となっている。具体的には、弾性部７２のＹ軸方向の剛性は、外部からＹ軸方向に荷重が印加された場合に、荷重が印加されるＹ軸方向に伸縮し得る程度に設定されている。また、弾性部７２のＸ軸方向及びＺ軸方向の剛性は、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに接触する際、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに傾いた状態で接触しても、凹面鏡４１の反射面を変形させないように、吸着部７１の接触面と凹面鏡４１の裏面４１ｂが平行になり得る程度に設定されている。なお、吸着部７１の各々の軸方向における剛性は、互いに同一となるように設定してもよいし、互いに異なるように設定してもよい。

また、弾性部７２には、変位部材６５に接続される長手方向の他端側（図３（ａ）（ｂ）では下端側）の側面に、弾性部７２の空間域Ｓ２を外部に連通させる通気口（図示略）が形成されている。また、弾性部７２の通気口は排気チューブ７５を介して吸引ポンプ７６に接続されている。なお、排気チューブ７５は、変位センサ６７に対して弾性部７２を挟んだ反対側に配置されている。

次に、上記のように構成されたミラー変形装置５３のうち最も−Ｚ方向側に配置されたミラー変形装置５３を一例として、ミラー変形装置５３がアクチュエータ６１の伸長駆動に伴って変位部材６５を変位させる際の作用について以下説明する。なお、図３（ａ）は、アクチュエータ６１がＹ軸方向に所定量だけ伸長した初期状態を示している。

さて、こうした初期状態では、図４（ａ）に示すように、第１連結部材５７の底部５７ａが支持部材５５の第１延設部５５ａの延設方向と略平行に延びると共に、第１連結部材５７の側部５７ｂが支持部材５５の立設方向と略平行に延びるように配置される。なお、支持部材５５の第１延設部５５ａと第１連結部材５７の底部５７ａとを連結する弾性ヒンジ５８、第１連結部材５７の側部５７ｂと第２連結部材６３とを連結する弾性ヒンジ６２、及び第２連結部材６３と変位部材６５とを連結する弾性ヒンジ６４は各々の変形量がほぼゼロとなっている。また、変位部材６５と支持部材５５との間に介設される可撓性部材６６は、Ｚ軸方向に略平行に延びるように配置されており、その変形量がほぼゼロとなっている。

ここで、図４（ｂ）に示すように、アクチュエータ６１が制御機構６９からの制御指令に基づいてＹ軸方向の伸長量が減少したとする。この場合、アクチュエータ６１は、その基端が支持部材５５の第２延設部５５ｂに固定されているため、その先端が−Ｙ方向側に変位する。また、第１連結部材５７の底部５７ａの一端側は、支持部材５５の第１延設部５５ａとの間に介設されたコイルスプリング５９の付勢力に従って−Ｙ方向側に押圧される。

すると、第１連結部材５７は、支持部材５５の第１延設部５５ａとの間に介在する弾性ヒンジ５８によって固定されているため、第１連結部材５７には、弾性ヒンジ５８を支点として第１連結部材５７を＋Ｘ方向側から見て反時計周り方向に回動させるようにコイルスプリング５９から押圧力が作用する。そのため、この弾性ヒンジ５８は、該弾性ヒンジ５８から見てコイルスプリング５９とは反対側となる−Ｚ方向側にしなるように弾性変形する。

この場合、第１連結部材５７は、その第２連結部材６３に対する連結部が弾性ヒンジ５８を軸中心とする円弧状の軌道を描きながら＋Ｙ方向側に向けて回動する。その結果、第１連結部材５７は、第１連結部材５７と第２連結部材６３との間に介在する弾性ヒンジ６２を介して−Ｚ方向側であって且つ＋Ｙ方向側となる方向（図４（ｂ）では左斜め下方）に向けて第２連結部材６３を引っ張るようになる。また、第２連結部材６３は、第２連結部材６３と変位部材６５との間に介在する弾性ヒンジ６４を介して変位部材６５を−Ｚ方向側であって且つ＋Ｙ方向側となる方向に引っ張るようになる。すなわち、変位部材６５は、支持部材５５から離間する方向であって且つリアクションプレート４２から離間する方向、即ち図４（ｂ）における左斜め下方に第２連結部材６３によって引っ張られることとなる。

なお、可撓性部材６６は、変位部材６５と支持部材５５とが互いに対向するＺ軸方向にはほとんど変形しない構造となっている。そのため、変位部材６５が第２連結部材６３によって−Ｚ方向側に引っ張られたとしても、可撓性部材６６が−Ｚ方向側に変形（伸長）することはほとんどなく、変位部材６５の−Ｚ方向側への変位が規制され、変位部材６５はＹ方向側へ変位する。その結果、第１連結部材５７が支持部材５５に対して−Ｚ方向側に相対変位する一方で、変位部材６５が支持部材５５に対してＺ軸方向に変位することはほとんどない。すなわち、第１連結部材５７は、変位部材６５に対してＺ軸方向に離間するように相対変位する。

すると、第１連結部材５７と第２連結部材６３との間に介設される弾性ヒンジ６２が＋Ｚ方向側にしなるように弾性変形する。その結果、第２連結部材６３は、第１連結部材５７に対して＋Ｚ方向側に相対変位する。また同時に、第２連結部材６３と変位部材６５との間に介設される弾性ヒンジ６４も同様に＋Ｚ方向側にしなるように弾性変形する。さらに、第２連結部材６３は、両弾性ヒンジ６２，６４の弾性復帰力に従って、第１連結部材５７に連動するように＋Ｘ方向側から見て反時計周り方向に回動する。このように変位部材６５と各連結部材５７，６３とのＺ軸方向における位置関係が変化したとしても、各連結部材５７，６３及び変位部材６５の連結状態は、両弾性ヒンジ６２，６４の弾性変形及び第２連結部材６３の回動によって維持される。

一方、変位部材６５と支持部材５５との間に介設される可撓性部材６６は、変位部材６５とリアクションプレート４２とが互いに対向するＹ軸方向には容易に撓み変形する構造となっている。そのため、変位部材６５が第２連結部材６３によって＋Ｙ方向側に引っ張られると、可撓性部材６６が＋Ｙ方向側にしなるように撓み変形することにより、変位部材６５の＋Ｙ方向側への変位が許容される。

また、図４（ｃ）に示すように、アクチュエータ６１が制御機構６９からの制御指令に基づいてＹ軸方向の伸長量が初期状態から増大したとする。この場合、アクチュエータ６１は、その基端が支持部材５５の第２延設部５５ｂに固定されているため、その先端が＋Ｙ方向側に変位する。そして、アクチュエータ６１は、第１連結部材５７の底部５７ａの一端側をコイルスプリング５９の付勢力に抗して＋Ｙ方向側に押圧するようになる。

すると、第１連結部材５７は、支持部材５５の第１延設部５５ａとの間に介在する弾性ヒンジ５８によって固定されているため、第１連結部材５７には、弾性ヒンジ５８を支点として第１連結部材５７を＋Ｘ方向側から見て時計周り方向に回動させるようにアクチュエータ６１から押圧力が作用する。そのため、この弾性ヒンジ５８は、該弾性ヒンジ５８から見てアクチュエータ６１側となる＋Ｚ方向側にしなるように弾性変形する。

この場合、第１連結部材５７は、その第２連結部材６３に対する連結部が弾性ヒンジ５８を軸中心とする円弧状の軌道を描きながら−Ｙ方向側に向けて回動する。その結果、第１連結部材５７は、第１連結部材５７と第２連結部材６３との間に介在する弾性ヒンジ５８を介して＋Ｚ方向側であって且つ−Ｙ方向側となる方向（右斜め上方）に向けて第２連結部材６３を押圧するようになる。また、第２連結部材６３は、第２連結部材６３と変位部材６５との間に介在する弾性ヒンジ６４を介して変位部材６５を＋Ｚ方向側であって且つ−Ｙ方向側となる方向に押圧するようになる。すなわち、変位部材６５は、支持部材５５に接近する方向であって且つリアクションプレート４２に接近する方向に第２連結部材６３によって押圧されることとなる。

このとき、第１連結部材５７は、アクチュエータ６１の伸長量の増大に伴って支持部材５５に対して＋Ｚ方向側に相対変位すると共に、第１連結部材５７に弾性ヒンジ６２を介して連結される第２連結部材６３もまた支持部材５５に対して＋Ｚ方向側に相対変位する。一方、変位部材６５は、可撓性部材６６によって、＋Ｚ方向側への変位が規制される。すなわち、変位部材６５に対する各連結部材５７，６３のＺ軸方向における相対的な位置関係は変化する。こうした状況であっても、各弾性ヒンジ６２，６４が−Ｚ方向側にしなるようにそれぞれ弾性変形すると共に、第２連結部材６３が第１連結部材５７に連動して回動するため、各連結部材５７，６３及び変位部材６５の連結状態は維持される。

その一方で、変位部材６５は、第２連結部材６３から−Ｙ方向側に押圧されると、可撓性部材６６が−Ｙ方向側にしなるように撓み変形することにより、変位部材６５の−Ｙ方向側への変位が許容される。

なお、第１連結部材５７において、第２連結部材６３に対する連結部は、アクチュエータ６１に対する連結部よりも支点となる弾性ヒンジ５８に対して大きく離間している。そのため、第１連結部材５７に連結される第２連結部材６３及び該第２連結部材６３に連結される変位部材６５には、弾性ヒンジ５８を支点とする梃子の原理に基づき、アクチュエータ６１からの駆動力が増大されてそれぞれ伝達される。すなわち、第２連結部材６３及び変位部材６５のＹ軸方向における各変位量は、アクチュエータ６１の伸長量よりも拡大される。したがって、本実施形態では、支持部材５５、弾性ヒンジ５８，６２，６４、第１連結部材５７、及び、第２連結部材６３によって、アクチュエータ６１の伸長量を拡大して変位部材６５に伝達する変位拡大機構８１が構成されている。また、本実施形態では、変位拡大機構８１、変位部材６５、及び弾性部７２によって、アクチュエータ６１の伸長駆動に基づき吸着部７１を凹面鏡４１に対して相対変位させる変位機構が構成されている。

次に、アクチュエータ６１の伸長駆動に伴って凹面鏡４１の形状を変形させる際の作用について以下説明する。なお、図５（ａ）は、ミラー変形装置５３においてアクチュエータ６１がＹ軸方向に所定量だけ伸長した初期状態を示している。また、各ミラー変形装置５３が初期状態である場合、凹面鏡４１の光軸（中心軸）と投影光学系１５の第２光軸ＡＸ２とがほぼ一致しているものとする。この場合、各吸着部７１は凹面鏡４１の裏面４１ｂに対してＹ軸方向に若干の隙間を介在させて離間するようにそれぞれ配置されている。

さて、図５（ｂ）に示すように、アクチュエータ６１が制御機構６９からの制御指令に基づいてＹ軸方向の伸長量が初期状態から増大したとする。すると、アクチュエータ６１の伸長量の増大量は変位拡大機構８１によって拡大されて変位部材６５に伝達されるため、変位部材６５の−Ｙ方向側への変位量は、アクチュエータ６１の先端の＋Ｙ方向側への変位量よりも多くなる。また、吸着部７１は、弾性部７２を介して変位部材６５に接続されているため、変位部材６５と連動して−Ｙ方向側に変位する。すると、吸着部７１は、変位部材６５側から弾性部７２を介して伝達される力に基づいて凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して当接する。なお、凹面鏡４１の裏面４１ｂには研磨加工が施されているため、吸着部７１は凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して気密状に密着する。

続いて、制御機構６９が吸引ポンプ７６を駆動させると、吸引ポンプ７６は排気チューブ７５及び弾性部７２の通気口を介して弾性部７２の空間域Ｓ２から空気を吸引する。この場合、弾性部７２の空間域Ｓ２は、吸着部７１の接続面に形成された連通口７４を介して吸着部７１の空間域Ｓ１に連通している。そのため、吸着部７１の空間域Ｓ１からは連通口７４を介して弾性部７２の空間域Ｓ２に空気が吸引される。その結果、吸着部７１の空間域Ｓ１には負圧が蓄圧されることとなり、この負圧が吸着部７１の連通孔７３を介して凹面鏡４１の裏面４１ｂに吸着力として作用する。すなわち、本実施形態では、制御機構６９が吸引ポンプ７６を駆動させると、吸引ポンプ７６の吸引圧が排気チューブ７５及び弾性部７２の空間域Ｓ２を介して吸着部７１の空間域Ｓ１に及ぶため、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して真空吸着することとなる。

また、図５（ｃ）に示すように、アクチュエータ６１が制御機構６９からの制御指令に基づいてＹ軸方向の伸長量が更に増大したとする。すると、アクチュエータ６１の伸長量の増大量は変位拡大機構８１によって拡大されて変位部材６５に伝達される。また、吸着部７１は、変位部材６５側から弾性部７２を介して伝達される力に基づいて、凹面鏡４１の裏面４１ｂを−Ｙ方向側に押圧する。その結果、凹面鏡４１は、吸着部７１によって−Ｙ方向側に押圧される部位の近傍が局所的に歪み変形する。このとき、吸着部７１は、変位部材６５側から伝達される力を弾性部７２によって減衰させた状態で凹面鏡４１の裏面４１ｂに作用させる。すなわち、吸着部７１の−Ｙ方向側への変位量は、弾性部７２によって変位部材６５の−Ｙ方向側への変位量よりも縮小される。

また、図５（ｄ）に示すように、アクチュエータ６１が制御機構６９からの制御指令に基づいてＹ軸方向の伸長量が初期状態から減少したとする。すると、アクチュエータ６１の伸長量の減少量は変位拡大機構８１によって拡大されて変位部材６５に伝達されるため、変位部材６５の＋Ｙ方向側への変位量は、アクチュエータ６１の先端の−Ｙ方向側への変位量よりも多くなる。また、吸着部７１は、弾性部７２を介して変位部材６５に接続されているため、変位部材６５と連動して＋Ｙ方向側に変位する。その結果、吸着部７１から凹面鏡４１に対して＋Ｙ方向側に引力が作用するため、凹面鏡４１は、吸着部７１によって吸着される部位の近傍が局所的に歪み変形する。

なお、吸着部７１が凹面鏡４１に対して＋Ｙ方向側に引力を作用させると、吸着部７１は凹面鏡４１から−Ｙ方向側に反力を受ける。このとき、吸着部７１と変位部材６５との間に介設される弾性部７２は、吸着部７１によって−Ｙ方向側に引っ張られて伸長する。その結果、凹面鏡４１に対する吸着部７１の相対変位量が、吸着部７１と変位部材６５とが直接連結された場合と比較して減衰される。

すなわち、本実施形態では、吸着部７１と変位部材６５とが直結される場合と比較して、吸着部７１と変位部材６５との間に弾性部７２を介設させる分、吸着部７１から凹面鏡４１に作用する引力が減衰される。そのため、凹面鏡４１の形状は、アクチュエータ６１の伸長量の減少に伴って少しずつ歪み変形することになる。したがって、凹面鏡４１の光学特性（投影光学系１５の光学特性）は、アクチュエータ６１の伸長量の減少に伴って少しずつ変更される。

ところで、凹面鏡４１の保守交換の際には、ミラー変形装置５３から凹面鏡４１に作用させる歪み応力を解消する必要がある。この点、本実施形態では、制御機構６９が吸引ポンプ７６の駆動を停止させるように吸引ポンプ７６に対して制御指令を送信すると、吸着部７１の空間域Ｓ１に蓄圧された負圧が解消され、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに作用させる吸着力が直ちに解除される。また同時に、吸着部７１は、弾性部７２の弾性復帰力に従って凹面鏡４１の裏面４１ｂから離間する方向に付勢される。そのため、図５（ｅ）に示すように、吸着部７１は、凹面鏡４１の裏面４１ｂから大きく離間することとなり、吸着部７１が凹面鏡４１の交換動作を阻害することがなくなる。すなわち、本実施形態では、制御機構６９が吸引ポンプ７６の駆動を停止させることにより、凹面鏡４１の保守交換を迅速且つ簡便に実行することが可能となる。また、この場合、吸着部７１による凹面鏡４１の裏面４１ｂに対する吸着状態は解除されている。そのため、アクチュエータ６１の着脱交換に際して、アクチュエータ６１に対する電圧の印加を停止させてアクチュエータ６１の伸長量をゼロとなるように変化させたとしても、ミラー変形装置５３から凹面鏡４１に対して不要な歪み応力を作用させることはない。

また、露光装置１１においては、ミラー変形装置５３を長期間に亘って継続して使用することに伴って、吸着部７１が部分的に破損して吸着部７１の空間域Ｓ１の気密性が低下することがあり得る。この場合、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して十分な吸着力を作用させることができなくなる虞があった。この点、本実施形態では、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して十分な吸着力を作用させることができなくなると、吸着部７１は、弾性部７２の弾性復帰力に従って凹面鏡４１の裏面４１ｂから大きく離間するように付勢される。したがって、ミラー変形装置５３においては、吸着部７１の異常が簡易に判別されるため、ミラー変形装置５３から凹面鏡４１に対して所望の駆動力を確実に作用させることが可能となる。

なお、本実施形態のミラー変形装置５３は、以下に示す操作によって凹面鏡４１の裏面４１ｂに沿う方向に移動可能となっている。すなわち、まず、回動レバー５６ａを回動操作して、回動レバー５６ａによる支持部材５５の固定を解除する。続いて、支持部材５５をガイドレール５６ｂに摺動させつつ、支持部材５５をリアクションプレート４２の径方向に移動させる。そして次に、ガイドレール５６ｂ上における所望の位置まで支持部材５５を移動させた後、回動レバー５６ａを回動操作して支持部材５５をリアクションプレート４２に再度固定する。その後、制御機構６９がアクチュエータ６１を伸長駆動することにより、吸着部７１を凹面鏡４１の裏面４１ｂに接触する位置まで変位させる。上記のように、本実施形態のミラー変形装置５３は、吸着部７１が吸着する凹面鏡４１の裏面４１ｂの位置を容易に変更することができるため、凹面鏡４１の光学特性をより細密に調整することが可能となる。

したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）変位部材６５と吸着部７１との間には弾性部７２が介設されている。そして、変位部材６５の変位に基づく力は、弾性部７２によって減衰された状態で吸着部７１に伝達される。そのため、変位拡大機構８１によって変位部材６５の変位量を拡大させる場合であっても、吸着部７１から凹面鏡４１に対して過大な力が作用することを回避できる。

（２）凹面鏡４１の変形量は微小であるため、凹面鏡４１に対して当接する吸着部７１の変位量を変位センサ６７によって直接計測することが困難となっている。この点、本実施形態では、変位センサ６７は、変位拡大機構８１によって拡大された変位部材６５の変位量を計測し、計測された変位部材６５の変位量に基づいて吸着部７１の変位量を推定するため、吸着部７１の変位量を高精度に計測することが可能となっている。そして、この変位センサ６７の計測結果に基づいて、アクチュエータ６１の伸長量が制御される。したがって、吸着部７１から凹面鏡４１に作用する力の大きさを高精度に調整することができ、ひいては、投影光学系１５の光学特性を精密に調整することができるため、ウエハＷに形成される回路パターンの正確性を向上することができる。

（３）支持部材５５は、第１連結部材５７を弾性ヒンジ５８と中心として揺動可能に支持している。ここで、第１連結部材５７は、第２連結部材６３に対する連結部の方がアクチュエータ６１に対する連結部よりも弾性ヒンジ５８に対して大きく離間した構成となっている。そして、第１連結部材５７が弾性ヒンジ５８を中心として揺動すると、アクチュエータ６１の伸長量の変化量は、梃子の原理に基づいて変位量が拡大された状態で第１連結部材５７及び第２連結部材６３を介して変位部材６５に伝達される。したがって、アクチュエータ６１の伸長量の変化量を第１連結部材５７及び第２連結部材６３を介して拡大させた状態で変位部材６５に伝達する構成を簡便に実現することができる。

（４）可撓性部材６６は、変位部材６５の変位方向を凹面鏡４１の光軸に沿う一方向（Ｙ軸方向）に規定している。そのため、吸着部７１から凹面鏡４１に対して作用する歪み応力の方向が一方向に規定される。したがって、吸着部７１から凹面鏡４１の作用する歪み応力に基づく凹面鏡４１の変形量がより細密に調整されるため、凹面鏡４１の光学特性を高精度に調整することができる。

（５）変位拡大機構８１がアクチュエータ６１から受ける反力はリアクションプレート４２によって受容される。そのため、変位拡大機構８１は、リアクションプレート４２によって安定に支持されつつ、アクチュエータ６１の伸長量の変化量を拡大して変位部材６５に伝達することができる。

（６）リアクションプレート４２には、ミラー変形装置５３の一部を横鏡筒２４の内部に挿入可能とする挿入部５４が設けられており、アクチュエータ６１は横鏡筒２４の外部に設けられている。そのため、アクチュエータ６１と凹面鏡４１とがリアクションプレート４２を介在させて互いに隔離された配置構成となり、アクチュエータ６１の伸長駆動に伴ってアクチュエータ６１から生じる振動が凹面鏡４１に伝播することを抑制できる。

（７）吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して十分な吸着力を作用させることができなくなった場合には、吸着部７１は弾性部７２の弾性復帰力に従って凹面鏡４１の裏面４１ｂから大きく離間する。そのため、ミラー変形装置５３においては、吸着部７１の異常が簡易に判別されるため、ミラー変形装置５３から凹面鏡４１に対して所望の駆動力を確実に作用させることができる。

（８）凹面鏡４１の保守交換の際には、吸着部７１による凹面鏡４１の裏面４１ｂに対する吸着が解除される。この際、吸着部７１は弾性部７２の弾性復帰力に従って凹面鏡４１の裏面４１ｂから大きく離間する。そのため、吸着部７１が凹面鏡４１の交換動作を阻害することがなく、凹面鏡４１の保守交換を迅速且つ簡便に実行することができる。また、この場合、吸着部７１による凹面鏡４１の裏面４１ｂに対する吸着状態は解除されている。そのため、アクチュエータ６１の着脱交換に際して、アクチュエータ６１に対する電圧の印加を停止させてアクチュエータ６１の伸長量をゼロとなるように変化させたとしても、ミラー変形装置５３から凹面鏡４１に対して不要な歪み応力が作用することを回避できる。

（９）ミラー変形装置５３は、凹面鏡４１の裏面４１ｂに沿う方向に移動可能に構成されている。そのため、吸着部７１が吸着する凹面鏡４１の裏面４１ｂの位置を容易に変更することができるため、凹面鏡４１の光学特性をより細密に調整することができる。

（１０）ミラー変形装置５３を移動させる際には、制御機構６９は吸引ポンプ７６の駆動を停止させ、吸着部７１を凹面鏡４１の裏面４１ｂから大きく離間させる。そのため、ミラー変形装置５３を移動させる際に、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに接触してミラー変形装置５３の移動が阻害されることを回避できる。

（１１）ミラー変形装置５３は、吸着部７１が凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して真空吸着するため、ミラー変形装置５３を凹面鏡４１の裏面４１ｂに連結されるための部材を凹面鏡４１の裏面４１ｂに接着させることが不要となる。そのため、こうした部材を凹面鏡４１の裏面４１ｂに接着剤を介して接着させる場合とは異なり、接着剤の硬化収縮等の要因によって凹面鏡４１の形状が変形することを確実に回避することができる。したがって、凹面鏡４１の光学特性をより細密に調整することができる。

（１２）凹面鏡４１の裏面４１ｂには研磨加工が施されているため、吸着部７１は、凹面鏡４１の裏面４１ｂに吸着した状態での吸着部７１の空間域Ｓ１の気密性を向上することができる。したがって、吸着部７１による凹面鏡４１の裏面４１ｂに対する吸着力を高めることができ、ミラー変形装置５３から凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して確実に駆動力を作用させることができる。

（１３）変位センサ６７は、排気チューブ７５に対して弾性部７２を挟んだ反対側に配置されている。そのため、弾性部７２が変位部材６５と連動して変位したとしても、変位センサ６７は、弾性部７２に接続された排気チューブ７５に接触することはなく、吸着部７１の変位が阻害されることを回避できる。

（１４）横鏡筒２４には、封止部材４３がリアクションプレート４２を横鏡筒２４の外側から覆うように設けられている。そのため、露光装置１１外の気体（即ち、大気）がリアクションプレート４２の挿入部５４を介して横鏡筒２４の内部に進入することをより確実に回避できる。

なお、上記実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・上記実施形態において、図６（ａ）に示すように、吸着機構７０は、吸着部７１を短円柱状の誘電体によって構成すると共に、吸着部７１の内部に二つの電極７７，７８を埋設する構成としてもよい。この構成によれば、吸着部７１に埋設された電極７７，７８のうち、一方の電極７７に正電圧を印加すると共に、他方の電極７８に負電圧を印加することにより、吸着部７１を凹面鏡４１の裏面４１ｂに対して静電吸着させることができる。なお、この場合も、弾性部７２は中空状の軸部７２ａと複数の短円筒部７２ｂが一体化された蛇腹形状をなす構成である。

・上記実施形態において、図６（ｂ）に示すように、吸着機構７０は、可撓性を有する筒状の封止部材７９の一端を短円筒状の吸着部７１の接続面に接続させると共に、封止部材７９によって封止された空間域Ｓ２に、コイルスプリング８０を吸着部７１の接続面に当接させるように配置する構成としてもよい。この場合、封止部材７９とコイルスプリング８０により弾性部７２が構成される。

・上記実施形態において、ミラー変形装置５３は、ガイドレール５６ｂをリアクションプレート４２の外面に沿う任意の方向に延びるように配置してもよい。
・上記実施形態において、ミラー変形装置５３は、吸着部７１を凹面鏡４１の裏面４１ｂに沿う任意の方向に駆動させる駆動機構を更に備え、この駆動機構を制御機構６９によって駆動制御する構成としてもよい。

・上記実施形態において、変位拡大機構８１を省略し、アクチュエータ６１を変位部材６５に直結させる構成としてもよい。
・上記実施形態において、アクチュエータ６１として、直動型のＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System）や直動型のモータを採用してもよい。

・上記実施形態において、ミラー変形装置５３は、リアクションプレート４２に対する任意の配置態様を採用することができる。
・上記実施形態において、ミラー変形装置５３は、横鏡筒２４の内部に収容される構成としてもよい。

・上記実施形態において、変位拡大機構８１は、投影光学系１５の内部に収容する架台１８に固定して設けられる構成としてもよい。
・上記実施形態において、凹面鏡４１を保持するための保持機構としてパラレルリンク機構を採用し、このパラレルリンク機構を横鏡筒２４又はリアクションプレート４２に固定して配置する構成としてもよい。

・上記実施形態において、凹面鏡４１を保持するための保持部材４０を省略し、複数のミラー変形装置５３によって凹面鏡４１を保持する構成としてもよい。
・上記実施形態において、ミラー変形装置５３によって形状が変形される対象は凹面鏡４１に限定されず、投影光学系１５を構成する他の光学部材を対象としてもよい。また、照明光学系１３を構成する各種の光学部材、更には、レチクルＲ及びウエハＷを対象としてもよい。

・上記各実施形態において、光源装置１２は、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１２６ｎｍ）等を供給可能な光源であってもよい。また、光源装置１２は、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を供給可能な光源であってもよい。また、光源装置１２は、波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域である極端紫外光、即ちＥＵＶ（Extreme Ultraviolet）光を供給可能な光源であってもよい。

・上記各実施形態において、露光装置１１は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置１１は、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。

・上記各実施形態において、露光装置１１を、カバーガラス５０とウエハＷとの間の所定空間に１．１よりも大きな屈折率を有する任意の液体（例えば純水）を供給した状態で露光を行なう所謂液浸型の露光装置であってもよい。

・上記各実施形態において、露光装置１１を、ステップ・アンド・リピート方式の装置に具体化してもよい。
・上記各実施形態において、可変パターン生成器（例えば、ＤＭＤ（Digital Mirror Device 又はDigital Micro-mirror Device ））を用いたマスクレス露光装置に具体化してもよい。

次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図７は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。

まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。

次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。

図８は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）においては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。

基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。

１１…露光装置、２４…横鏡筒、４１…光学部材としての凹面鏡、４１ｂ…被吸着面としての裏面、４２…反力受容部材としてのリアクションプレート、５３…光学部材変形装置としてのミラー変形装置、５４…挿入部、５５…支持部材、５６ｂ…移動機構としてのガイドレール、５７…第１連結部材、５８…支持部としての弾性ヒンジ、６１…駆動源としてのアクチュエータ、６３…第２連結部材、６５…変位機構を構成する変位部材、６７…計測部材としての変位センサ、７１…吸着部材としての吸着部、７２…縮小機構としての弾性部、８１…変位機構を構成する変位拡大機構、ＥＬ…放射ビームとしての露光光、Ｗ…被照射体としてのウエハ。

Claims (17)

1. 光学部材の形状を変形させる光学部材変形装置において、
   前記光学部材に対して吸着する吸着部材と、
   駆動源から伝達される駆動力に基づいて、前記吸着部を変位させる変位機構と、
   前記変位機構から前記吸着部材に伝達される変位量を縮小する縮小機構と
   を備えることを特徴とする光学部材変形装置。
2. 請求項１に記載の光学部材変形装置において、
   前記縮小機構は、弾性機能を有することを特徴とする光学部材変形装置。
3. 請求項１又は請求項２に記載の光学部材変形装置において、
   前記吸着部材は、前記光学部材に対して真空吸着することを特徴とする光学部材変形装置。
4. 請求項１又は請求項２に記載の光学部材変形装置において、
   前記吸着部材は、前記光学部材に対して静電吸着することを特徴とする光学部材変形装置。
5. 請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
   前記変位機構は、
   前記吸着部材側に連結され、前記駆動源から伝達される駆動力に基づいて変位する変位部材と、
   前記駆動源からの駆動力に基づき変位する連結部材を有し、該連結部材の変位量を拡大して前記変位部材に伝達する変位拡大機構と
   を備えることを特徴とする光学部材変形装置。
6. 請求項５に記載の光学部材変形装置において、
   前記縮小機構は、前記吸着部材と前記変位部材との間に介設されることを特徴とする光学部材変形装置。
7. 請求項５又は請求項６に記載の光学部材変形装置において、
   前記変位拡大機構は、前記連結部材を支持部を介して支持する支持部材を含んで構成され、
   前記連結部材は、前記駆動源に連結されると共に、該駆動源からの駆動力に基づいて前記支持部を中心として揺動することを特徴とする光学部材変形装置。
8. 請求項７に記載の光学部材変形装置において、
   前記支持部材は、前記連結部材における前記変位部材に対する連結部と前記支持部との距離が、前記連結部材における前記駆動源に対する連結部と前記支持部との距離よりも大きくなるように前記連結部材を支持することを特徴とする光学部材変形装置。
9. 請求項５〜請求項８のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
   前記変位部材の変位量を計測する計測部材を更に備えることを特徴とする光学部材変形装置。
10. 請求項１〜請求項９のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
    前記光学部材の被吸着面に沿うように前記吸着部材を移動させる移動機構を更に備えることを特徴とする光学部材変形装置。
11. 請求項１〜請求項１０のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
    前記吸着部材は、前記光学部材に対する吸着面が研磨加工されていることを特徴とする光学部材変形装置。
12. 被照射体に光を導くための複数の光学部材を備える光学系において、
    前記光学部材を保持する鏡筒と、
    前記鏡筒に設けられ、前記光学部材の形状の少なくとも一部を変形させる請求項１〜請求項１１のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置とを備えることを特徴とする光学系。
13. 請求項１２に記載の光学系において、
    前記吸着部材に連結される変位部材の変位量を拡大する変位拡大機構に連結され、該変位拡大機構を介して伝達される前記駆動源からの反力を受容する反力受容部材を更に備えることを特徴とする光学系。
14. 請求項１３に記載の光学系において、
    前記反力受容部材は、前記鏡筒の内外を仕切る壁面の少なくとも一部を構成しており、
    前記反力受容部材には、前記光学部材変形装置を前記鏡筒の内側に挿入可能とする挿入部が設けられていることを特徴とする光学系。
15. 請求項１４に記載の光学系において、
    前記駆動源は、前記鏡筒の外側に設けられていることを特徴とする光学系。
16. 請求項１２〜請求項１５のうち何れか一項に記載の光学系を備え、
    前記鏡筒に保持される光学部材を介して放射ビームを被照射体に照射し、該被照射体に所定のパターンを形成することを特徴とする露光装置。
17. リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
    前記リソグラフィ工程は請求項１６に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。

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