JP5556155B2 - 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 - Google Patents
光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5556155B2 JP5556155B2 JP2009276988A JP2009276988A JP5556155B2 JP 5556155 B2 JP5556155 B2 JP 5556155B2 JP 2009276988 A JP2009276988 A JP 2009276988A JP 2009276988 A JP2009276988 A JP 2009276988A JP 5556155 B2 JP5556155 B2 JP 5556155B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- displacement
- optical
- optical system
- concave mirror
- optical member
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 174
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 181
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 80
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 50
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 20
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 20
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 9
- 230000009466 transformation Effects 0.000 claims description 8
- 230000009467 reduction Effects 0.000 claims description 7
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 39
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 23
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 9
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 7
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 7
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 7
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 4
- 238000013461 design Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N erbium Chemical compound [Er] UYAHIZSMUZPPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000013016 damping Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012858 packaging process Methods 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
本発明の光学部材変形装置は、光学部材(41)の形状を変形させる光学部材変形装置(53)において、前記光学部材(41)に対して当接する当接部材(70)と、前記当接部材(70)に連結され、前記当接部材(70)を介して前記光学部材(41)の形状を変形させる変位部材(65)と、駆動源(61)からの駆動力に基づき変位する連結部材(57,63)を有し、該連結部材(57,63)の変位量を拡大して前記変位部材(65)に伝達する変位拡大機構(73)と、拡大した前記変位部材(65)の変位量を計測する計測部材(67)と、前記当接部材(70)と前記変位部材(65)との間に設けられ、前記変位部材(65)の変位量を縮小して前記当接部材(70)に伝達する縮小機構(69)と、前記計測部材(67)の計測結果に基づき、前記変位部材(65)の変位量を制御する制御機構(68)とを備えることを要旨とする。
以下、本発明を具体化した第1の実施形態について図1〜図4に基づき説明する。なお、本実施形態では、図1において、後述する投影光学系15を構成する反射屈折光学系の第1光軸AX1に平行にZ軸を、第1光軸AX1に垂直な面内において図1の紙面に平行にY軸を、紙面に垂直にX軸を、それぞれ設定している。
(1)凹面鏡41の変形量は微小であるため、凹面鏡41に対して当接する当接部材70の変位量を変位センサ67によって直接計測することが困難となっている。この点、本実施形態では、変位センサ67は、変位拡大機構73によって拡大された変位部材65の変位量を計測し、計測された変位部材65の変位量に基づいて当接部材70の変位量を推定するため、当接部材70の変位量を高精度に計測することが可能となっている。そして、この変位センサ67の計測結果に基づいて、アクチュエータ61の伸長度合いが制御されるため、当接部材70から凹面鏡41に作用する押圧力の大きさを高精度に調整することができる。したがって、凹面鏡41の形状を精密に調整でき、ひいては投影光学系15の光学特性を精密に調整できるため、ウエハWに形成される回路パターンの正確性を向上することができる。
次に、本発明の第2の実施形態を図5〜図9に従って説明する。なお、第2の実施形態は、凹面鏡41の被保持部41aに対して予圧を印加するための荷重印加機構74を更に備える点が第1の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第1の実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第1の実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
(9)荷重印加機構74は、凹面鏡41を挟んでミラー変形装置53と対向するように配置され、凹面鏡41の被保持部41aに対して予圧を印加するようになっている。そして、凹面鏡41の変形量は、荷重印加機構74から印加される予圧とミラー変形装置53から作用する押圧力との差分に従って変化する。そのため、ミラー変形装置53は、凹面鏡41に作用させる押圧力を調整することにより、凹面鏡41の収差を連続的に制御することができる。
・上記各実施形態において、アクチュエータ61として、直動型のMEMS(Micro Electro Mechanical System)や直動型のモータを採用してもよい。
・上記各実施形態において、変位拡大機構73は、投影光学系15を内部に収容する架台18に固定して設けられる構成としてもよい。
・上記各実施形態において、ミラー変形装置53によって形状が変形される対象は凹面鏡41に限定されず、投影光学系15を構成する他の光学部材を対象としてもよい。また、照明光学系13を構成する各種の光学部材、更には、レチクルR及びウエハWを対象としてもよい。
・上記各実施形態において、可変パターン生成器(例えば、DMD(Digital Mirror Device 又はDigital Micro-mirror Device ))を用いたマスクレス露光装置に具体化してもよい。
ステップS111(酸化ステップ)においては、基板の表面を酸化させる。ステップS112(CVDステップ)においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップS113(電極形成ステップ)においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップS114(イオン打込みステップ)においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップS111〜ステップS114のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
Claims (17)
- 光学部材の形状を変形させる光学部材変形装置において、
前記光学部材に対して当接する当接部材と、
前記当接部材に連結され、前記当接部材を介して前記光学部材の形状を変形させる変位部材と、
駆動源からの駆動力に基づき変位する連結部材を有し、該連結部材の変位量を拡大して前記変位部材に伝達する変位拡大機構と、
拡大した前記変位部材の変位量を計測する計測部材と、
前記当接部材と前記変位部材との間に設けられ、前記変位部材の変位量を縮小して前記当接部材に伝達する縮小機構と、
前記計測部材の計測結果に基づき、前記変位部材の変位量を制御する制御機構と
を備えることを特徴とする光学部材変形装置。 - 請求項1に記載の光学部材変形装置において、
前記変位拡大機構は、
前記連結部材を支持部を介して支持する支持部材を含んで構成され、
前記連結部材は、前記駆動源に連結部を介して連結されると共に、該駆動源からの駆動力に基づいて前記支持部を中心に揺動することを特徴とする光学部材変形装置。 - 請求項2に記載の光学部材変形装置において、
前記支持部材は、前記連結部材における前記変位部材に対する連結部と前記支持部との距離が、前記連結部材における前記駆動源に対する連結部と前記支持部との距離よりも大きくなるように前記連結部材を支持することを特徴とする光学部材変形装置。 - 請求項1〜請求項3のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
前記光学部材を挟んで前記当接部材と対向するように配置され、前記光学部材に対して荷重を印加する荷重印加機構を更に備え、
前記荷重印加機構により前記光学部材に対して荷重が印加された状態で、前記変位部材の変位量が前記当接部材に伝達されることを特徴とする光学部材変形装置。 - 請求項4に記載の光学部材変形装置において、
前記荷重印加機構は、前記光学部材に対して当接する当接位置と前記光学部材から離間する離間位置との間で変位可能に構成されていることを特徴とする光学部材変形装置。 - 請求項1〜請求項5のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
前記変位部材は、前記変位拡大機構を介して前記駆動源からの駆動力が伝達される場合に、前記当接部材を前記光学部材に対して当接させる当接位置と前記光学部材から離間させる離間位置との間で変位させるように構成されていることを特徴とする光学部材変形装置。 - 請求項1〜請求項6のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置において、
前記当接部材は、前記光学部材の周縁部に当接していることを特徴とする光学部材変形装置。 - 被照射体に光を導くための複数の光学部材を備える光学系において、
前記光学部材を保持する鏡筒と、
前記鏡筒に設けられ、前記光学部材の形状の少なくとも一部を変形させる請求項1〜請求項7のうち何れか一項に記載の光学部材変形装置と
を備えることを特徴とする光学系。 - 請求項8に記載の光学系において、
前記変位拡大機構に連結され、該変位拡大機構を介して伝達される前記駆動源からの反力を受容する反力受容部材を更に備えることを特徴とする光学系。 - 請求項9に記載の光学系において、
前記反力受容部材は、前記鏡筒の内外を仕切る壁面の少なくとも一部を構成しており、
前記反力受容部材には、前記光学部材変形装置を前記鏡筒の内側に挿入可能とする挿入部が設けられていることを特徴とする光学系。 - 請求項10に記載の光学系において、
前記駆動源は、前記鏡筒の外側に設けられていることを特徴とする光学系。 - 請求項11に記載の光学系において、
前記鏡筒の内側を気密化する封止部材を更に備えることを特徴とする光学系。 - 請求項12に記載の光学系において、
前記封止部材は、前記鏡筒に固定して設けられることを特徴とする光学系。 - 請求項12に記載の光学系において、
前記封止部材は、前記反力受容部材に固定して設けられることを特徴とする光学系。 - 請求項12〜請求項14のうち何れか一項に記載の光学系において、
前記封止部材は、前記挿入部の口縁と前記光学部材変形装置との間の空間域を閉塞するように設けられることを特徴とする光学系。 - 請求項8〜請求項15のうち何れか一項に記載の光学系を備え、
前記鏡筒に保持される光学部材を介して放射ビームを被照射体に照射し、該被照射体に所定のパターンを形成することを特徴とする露光装置。 - リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程は請求項16に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009276988A JP5556155B2 (ja) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009276988A JP5556155B2 (ja) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011119550A JP2011119550A (ja) | 2011-06-16 |
JP2011119550A5 JP2011119550A5 (ja) | 2013-01-24 |
JP5556155B2 true JP5556155B2 (ja) | 2014-07-23 |
Family
ID=44284512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009276988A Active JP5556155B2 (ja) | 2009-12-04 | 2009-12-04 | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5556155B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5456620B2 (ja) * | 2010-08-30 | 2014-04-02 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プロキシミティ露光装置、プロキシミティ露光装置の露光光照射方法、及び表示用パネル基板の製造方法 |
WO2013108359A1 (ja) * | 2012-01-17 | 2013-07-25 | Necディスプレイソリューションズ株式会社 | プロジェクターおよびその制御方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001077003A (ja) * | 1999-09-02 | 2001-03-23 | Nikon Corp | 露光装置 |
JP2003107311A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-09 | Nikon Corp | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
JP2003337272A (ja) * | 2002-03-12 | 2003-11-28 | Nikon Corp | 光学系の保持装置、光学素子の位置調整方法、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
US6803994B2 (en) * | 2002-06-21 | 2004-10-12 | Nikon Corporation | Wavefront aberration correction system |
US6989922B2 (en) * | 2002-06-21 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Deformable mirror actuation system |
JP4565261B2 (ja) * | 2002-06-24 | 2010-10-20 | 株式会社ニコン | 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 |
US6840638B2 (en) * | 2002-07-03 | 2005-01-11 | Nikon Corporation | Deformable mirror with passive and active actuators |
JP3787556B2 (ja) * | 2003-02-17 | 2006-06-21 | キヤノン株式会社 | 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
KR101332497B1 (ko) * | 2005-01-26 | 2013-11-26 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 광학 조립체를 포함하는 마이크로-리소그래피의 투사 노광기 |
JP2007281078A (ja) * | 2006-04-04 | 2007-10-25 | Canon Inc | 光学要素駆動装置及び基板露光装置 |
JP2008242448A (ja) * | 2007-02-28 | 2008-10-09 | Canon Inc | 光学要素保持装置 |
-
2009
- 2009-12-04 JP JP2009276988A patent/JP5556155B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011119550A (ja) | 2011-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4945845B2 (ja) | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにマイクロデバイスの製造方法。 | |
JP5382151B2 (ja) | 処理装置及び方法、パターン形成装置、並びにデバイス製造方法 | |
JP5115859B2 (ja) | パターン形成装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP5195417B2 (ja) | パターン形成装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 | |
US7253975B2 (en) | Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method | |
US20070076310A1 (en) | Optical element holding apparatus, exposure apparatus and device manufacturing method | |
JP2009026862A (ja) | 光学素子位置決めシステム、投影光学系及び露光装置 | |
JP2013516048A (ja) | 移動体駆動方法、移動体装置、露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 | |
JPWO2008146655A1 (ja) | 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置ならびにデバイスの製造方法 | |
TWI621924B (zh) | Euv成像裝置 | |
US7859643B2 (en) | Apparatus for moving curved-surface mirror, exposure apparatus and device manufacturing method | |
JP4883775B2 (ja) | 光学装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2011119551A (ja) | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 | |
JP5206132B2 (ja) | 光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 | |
JP2009223034A (ja) | 光学素子保持装置、光学系、露光装置、光学特性調整方法及びデバイスの製造方法 | |
JP2004062091A (ja) | 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
US7733462B2 (en) | Exposure apparatus and exposure method | |
JP2007206643A (ja) | 光学素子駆動装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
US20080259309A1 (en) | Stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method | |
JP2005051147A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP5556155B2 (ja) | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 | |
WO2009133704A1 (ja) | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 | |
JP2005085991A (ja) | 露光装置及び該装置を用いたデバイス製造方法 | |
JP2011165744A (ja) | 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法 | |
JP2011171386A (ja) | 変位センサ、駆動装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121130 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130926 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131001 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140507 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140520 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5556155 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |