JP4565261B2 - 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 - Google Patents

光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 Download PDF

Info

Publication number
JP4565261B2
JP4565261B2 JP2002182867A JP2002182867A JP4565261B2 JP 4565261 B2 JP4565261 B2 JP 4565261B2 JP 2002182867 A JP2002182867 A JP 2002182867A JP 2002182867 A JP2002182867 A JP 2002182867A JP 4565261 B2 JP4565261 B2 JP 4565261B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
optical element
optical system
mirror
holding
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2002182867A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004031491A (ja
Inventor
哲也 押野
猛 奥山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP2002182867A priority Critical patent/JP4565261B2/ja
Priority to US10/603,732 priority patent/US6859337B2/en
Priority to EP03014196A priority patent/EP1376183A3/en
Publication of JP2004031491A publication Critical patent/JP2004031491A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4565261B2 publication Critical patent/JP4565261B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レンズやミラー等の光学素子を光学系鏡筒に保持する機構等に関する。特には、半導体デバイス露光装置等の精密光学機械において、光学素子の変形を抑制することのできる光学素子保持機構等に関する。また、そのような光学素子保持機構を有する露光装置に関する。
【0002】
【背景技術】
EUV光(極端紫外光)露光装置を例に採って、背景技術を説明する。
図13は、EUV光露光装置の概略構成例を示す図である。
図13に示す露光装置は、EUV源101と、このEUV源101から射出したEUV光(波長13.4nm)100を反射型マスク102に照射させる照明光学系103と、反射型マスク102上の回路パターンをウエハ104上に投影するEUV投影光学系105と、マスクステージ106及びウエハステージ107から構成されている。
【0003】
この露光装置においては、EUV源101から発したEUV光100が照明光学系103を経て反射型マスク102に照射される。反射型マスク102で反射したEUV光100は、投影光学系105に入射する。投影光学系105を通ったEUV光100は、ウエハ104上に到達し、反射型マスク102上のパターンがウエハ104上に縮小転写される。
【0004】
投影光学系105は、一例で6枚の多層膜反射鏡(図示されず)で構成されており、その縮小倍率は1/5である。投影光学系105は、ウエハ104上において、幅2mm・長さ30mmの輪帯状の露光視野を有する。各反射鏡は反射面形状が非球面であり、その表面にはEUV光の反射率を向上するためのMo/Si多層膜がコートされている。露光時において、反射型マスク102、ウエハ104は、それぞれステージ106、107上で走査される。ウエハ104の走査速度は、常に反射型マスク102の走査速度の1/5となるように同期している。その結果、光学系の視野よりも大きい領域に広がるパターンを転写することができる。
【0005】
次いで、図14を参照して、光学系鏡筒についてより詳細に説明する。
図14は、EUV光露光装置の光学系鏡筒の一例を示す構成図である。
図14には、2枚の反射鏡(光学素子)111、112を保持する光学系鏡筒110が示されている。この鏡筒110は、鏡筒本体部110aとフランジ部110bを有する。なお、この鏡筒110はインバー製であり、熱変性が生じにくい。
【0006】
反射鏡111は、鏡筒110のフランジ部110b上において、位置調整機構(ピエゾモータ等)115を介して保持機構116で保持されている。位置調整機構115は、組み立て時あるいはその後において反射鏡の位置を調整するための機構である。一方、反射鏡112は、鏡筒110のフランジ部110b下において、保持機構117で保持されている。2枚の反射鏡111、112には、それぞれ穴111a、112aが開けられている。図の上部のマスク(物体、図示されず)から発した光100は、上の反射鏡111の穴111aを通って下の反射鏡112の上面に達し、ここで反射した光100が反射鏡111の下面に向かう。この光100は、さらに反射鏡111の下面で反射して下方に向かい、反射鏡112の穴112aを通ってウエハ(像面、図示されず)に到達する。
【0007】
EUV光学系においては、前述の通り反射鏡(光学素子)表面にMo/Si多層膜がコートされている。EUV光学系の開口数は0.3であり、波面収差は1nmRMS以下が求められる。このような小さな波面収差を実現するためには、反射鏡として高精度な形状を有する非球面ミラーを用い、高精度なミラー組み立て・調整を行う必要がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
図14を用いて説明したように、光学素子は保持機構116、117で鏡筒110に保持される。この種の保持機構は、高精度なミラーを変形させないで保持する機能と、光学素子の位置が変わらないようにする機能を兼ね備えていることが好ましい。
ここで、光学素子を変形させないようにする機能としては、光学素子が熱膨張した際に保持機構も変形して、光学素子の歪み(不均一変形)を抑制するような機能が考えられる。一方、光学素子の位置が変わらないようにする機能としては、光学素子を全方向で拘束することが考えられる。さらに、鏡筒が加振された場合に、すべり等で位置ずれが生じないようにすることも必要である。
【0009】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、光学素子の変形や位置変化を抑制することのできる、あるいは、光学素子を積極的に変形させてより良い光学性能を得ることのできる光学素子保持機構等を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項1に記載の光学素子保持機構は、光学素子を光学系鏡筒に保持する機構であって、前記光学素子の側面と対向し、かつ溝によって複数に分割された面を有する接着部材と、該接着部材の両側に設けられ、前記光学素子の周方向にそれぞれ延びる2枚の板バネと、前記光学素子の側面と前記接着部材の前記面とを接着する接着剤と、前記光学系鏡筒に連結され、前記2枚の板ばねを介して前記接着部材を支持する連結部材とを備えることを特徴とする。
この保持機構によれば、光学素子側面と光学系鏡筒との接触部において、板バネが光学素子側面の内外方向(光学素子の径方向)に容易に変形する。そのため、光学素子が熱膨張した場合にも、板バネが逃げて光学素子自体を押えるような力は働かないため、光学素子の局部的な変形を抑えることができる。なお、光学素子が均一な熱膨張をした場合よりも、不均一な局部的変形が起きた場合のほうが、波面収差への悪影響は著しい。
【0011】
請求項2に記載の光学素子保持機構においては、前記板バネが、前記光学素子の側面に対して垂直方向に変形する。
【0012】
請求項1に記載の光学素子保持機構においては、面を複数に分割することで接着剤の固化時の収縮が抑制され、光学素子の変形も抑制される。なお、例えば面に格子状等の溝を形成すると、面を容易に分割することができる。
接着剤としては、光学素子・光学系の光学性能や、光学系の周辺機器等に悪影響を及ぼさない材料(例えばエポキシ系接着剤等)を用いることが好ましい。 特に、アウトガスの少ない接着剤を使用すると、ガスが光学素子に付着する等の悪影響を回避できる。
【0013】
請求項3に記載の光学素子保持機構においては、接着部材、板バネ及び連結部材を含む保持部材のセットが光学素子側周面に3組以上分散配置されており、該保持部材のセットを固定するリングと、該リングと光学系鏡筒フランジとを繋ぐ、該リングの厚さの1/10以下の薄い鍔部を有する部材と、をさらに備えることができる。
この場合、加工誤差や組み立て誤差に伴う変形が厚さの薄い低剛性の鍔部に偏って生じる。そのため、リング全体の変形が小さくなり、よって光学素子の変形も小さく抑えることができる。なお、変形をより鍔部に偏らせたい場合は、鍔部にスリットを形成することもできる。
【0014】
請求項4に記載の光学素子保持機構においては、前記光学系鏡筒フランジと前記鍔部との間に介在するスペーサをさらに備えることができる。
この場合、スペーサ分のスペース(間隔)を確保することができるので、光学系鏡筒フランジと鍔状部材とが保持部分以外で接触するのを防止できる。なお、スペーサとして平坦なワッシャーを用いる場合は、取り付け時の鍔状部材の変形を抑制することができる。
【0024】
請求項5に記載の光学系鏡筒は、光学素子の保持機構と、該光学素子の位置調整機構及び/又は光学素子の形状調整機構と、を具備する光学系鏡筒であって、前記光学素子の保持機構が前述の光学素子保持機構であることを特徴とする。
【0025】
請求項6に記載の光学系鏡筒は、前記形状調整機構が、前記保持機構を介して光学素子にモーメントをかけて前記光学素子の形状誤差を補正することを特徴とする。
形状調整機構により光学素子の形状誤差を補正することで、所望の波面収差及び解像力が得やすくなる。
【0026】
請求項7に記載の光学系鏡筒においては、前記形状調整機構が、前記保持機構に水平方向の変位を加えるアクチュエータを有することができる。
この場合、アクチュエータで保持機構に変位を加えて光学素子を変形させることができる。光学素子が変形すると、波面収差が変化するので、この変化を参照しながら光学素子の形状を調整することで、所望の波面収差を得ることができる。
【0028】
請求項8に記載の光学系鏡筒は、前記位置調整機構が、アクチュエータと、 該アクチュエータの動きを縮小して前記光学素子保持機構に伝える駆動量縮小機構と、を有することを特徴とする。
このような光学系鏡筒は、駆動量縮小機構で光学素子の微調整を行うことができるので、例えば要求位置精度が1μm程度の小さい場合に好適である。
【0029】
請求項9に記載の光学系鏡筒においては、前記駆動機構が、支点が板バネからなるテコを有するものとすることができる。
この場合、板バネの支点でバックラッシュをゼロとすることができるとともに、板バネの縮小により微調整を容易に行うことができる。しかも、調整後の安定性にも優れている。さらに、テコは、力点付近を固定することで基本的には固定状態を確保できるので、固定時に位置ずれが生じたとしても、そのずれ自体が縮小される。あるいは、テコの固定力は縮小に反比例するので、適当な力で充分な固定力を確保できる。
【0030】
請求項10に記載の光学系鏡筒は、前記位置調整機構が、X、Y、θzの調整機構と、Z、θx、θyの調整機構とが並列的に配置されていることを特徴とする。
このような光学系鏡筒は、両調整機構を縦に直列に並べたものに比べて、重量が軽いという利点がある。
【0031】
請求項11に記載の光学系鏡筒においては、前記Z、θx、θyの調整機構が3つのZ調整機構からなり、該Z調整機構の上に、重力方向には高剛性で支え、水平方向には柔軟に支える弾性支持部材を備えるものとすることができる。
この場合、弾性支持部材により、光学素子をX、Yに移動させた場合にも、Z調整機構が光学素子の水平方向の動きを拘束しないようにできる。
【0034】
本発明の露光装置は、エネルギ線を感応基板に選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、 該エネルギ線の光学系を搭載する前述の光学系鏡筒を具備することを特徴とする。
なお、前記エネルギ線の種類は、EUV光に限られるものではなく、紫外光、電子線、イオンビーム等であってもよい。また、露光の方式も特に限定されず、縮小投影露光や等倍近接転写であってよい。
【0035】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。なお、以下の説明における上下左右とは、特に断らない限り、各図における上下左右方向を指すものとする。
[第1実施例]
図1(A)は本発明の第1実施例に係る光学系鏡筒内のミラー保持機構を示す平面図であり、図1(B)は同保持機構の接着部材の拡大図である。
図2(A)は同ミラー保持機構を示す側面断面図であり、図2(B)は同機構の鍔状部材の平面図である。
【0036】
これらの図に示す板状のミラー1(光学素子)は、光学系鏡筒内に配置されている。このミラー1は、図1に示すように、3組の保持部材セット10で保持されている。これら保持部材セット10は、ミラー1の側周面に120°振り分けられて分散配置されている。同ミラー1は、図2(A)に示すように、これら3組の保持部材セット10、リング3及び鍔状部材5によって、光学系鏡筒内に保持されている。
【0037】
まず、保持部材セット10について説明する。
図1に示すように、保持部材セット10は、連結部材18を備えている。この連結部材18は、前述のリング3(図2(A)参照)への連結用の部材である。連結部材18の内側(ミラー1側周面を向いた側)には、中央の接着部材16と、この接着部材16からミラー1の周方向の双方向にぞれぞれ延びる2枚の板バネ11とが設けられている。
【0038】
接着部材16のミラー1側周面と対向する面(表面)には、縦及び横に延びる格子状の溝14が形成されている(図1(B)参照)。この格子状の溝14により、接着部材16表面は複数に分割されている。この接着部材16表面は、接着剤17でミラー1側周面に接着されている(図1及び図2(A)では、接着剤17は誇張して分厚く図示されている)。接着部材16表面を複数に分割することで、接着剤17の固化時の収縮が抑制され、ミラー1の変形が抑制される。接着剤17としては、ミラー1の光学性能や光学系鏡筒の周辺機器等に悪影響を及ぼさない材料(例えばエポキシ系接着剤等)を用いる。特に、アウトガスの少ない接着剤を使用すると、ガスがミラー1に付着する等の悪影響を回避できる。
【0039】
接着部材16の両側の各板バネ11は、2枚のバネ片12が剛体片13を挟んで直列に接続されてなる。剛体片13の長さは、2枚のバネ片12の長さの合計の2倍以上となっている。バネ片12は、長くて薄いほど剛性が小さくなるが、過度に薄い場合は加工時や組立時に塑性変形を起こす可能性があるため、最小限の剛性が確保されるような性状とする。また、板バネの座屈を防止するためにも、バネ片12の長さを短くする意味がある。
【0040】
実際には、ミラー1の剛性(これは概ねミラー1のサイズで決まる)や要求形状精度に応じて決めるものとする。一例で数値を述べると、バネ片の厚さは0.1〜1mmの範囲、長さは1mm〜10mmの範囲で選択することができる。さらに、剛体片13の長さは、2枚のバネ片12の長さの合計の2倍以上とするのが好ましい。例えば、ミラー1の直径が200mm、厚さが30mmの場合は、バネ片12の厚さを0.5mm、長さを3mm程度とし、剛体片13の長さを15mmとする。所見によれば、このような板バネを用いた場合にミラーの変形を1nm以下に抑えることができた。
【0041】
次に、リング3及び鍔状部材5について説明する。
図2(A)に示すように、リング3は、ミラー1と光学系鏡筒フランジ2との間に介在している。このリング3の下端面に、各保持部材セット10の連結部材18が固定されている。リング3と光学系鏡筒フランジ2とは、鍔状部材5で繋がれている。この鍔状部材5は、リング3に外嵌する外嵌部5aと、この外嵌部5a端部から外側に張り出した鍔部5bとが一体形成されてなる。外嵌部5aとリング3、及び、鍔部5bと光学系鏡筒フランジ2は、それぞれネジ(図示されず)で結合されている。
【0042】
鍔状部材5の厚さは、リング3の厚さの1/10以下となっている。図2(B)に示すように、鍔部5bにはスリット5cが切り込まれている。このような鍔状部材5を介在させることにより、リング3の変形は、厚さの薄い低剛性の鍔状部材5に偏って生じる。そのため、リング3全体の変形が小さくなり、ミラー1の変形も小さく抑えることができる。必ずしもスリット5cを設ける必要はないが、本実施例では鍔状部材5にスリット5cを形成したことで剛性がより小さくなっており、リング3の変形はより鍔状部材5に偏って生じる。
【0043】
なお、図2(A)に示すように、鍔状部材5と光学系鏡筒フランジ2間には、ワッシャー等のスペーサ7を介装することもできる。この場合は、スペーサ7分のスペース(隙間)を確保することができるので、光学系鏡筒フランジ2と鍔状部材5とが保持部分以外で接触するのを防止できる。あるいは、スペーサとして平坦なワッシャーを用いる場合は、取り付け時の鍔状部材5の鍔部5bの変形を抑制することもできる。
【0044】
このような保持機構によれば、ミラー1側面と光学系鏡筒フランジ2との接触部において、板バネ11がミラー1側面の垂直方向(ミラー1の径方向)に容易に変形する。そのため、ミラー1自身は上下・左右・前後に関して拘束されている一方で、ミラー1が熱膨張等により変形した場合にも、板バネ11が逃げてミラー1の不均一な局所変形を小さく抑えることができる。
【0045】
[第2実施例]
図3は、本発明の第2実施例に係る露光装置の光学系鏡筒を示す側面断面図である。
図4は、同鏡筒内のミラー及びその保持機構を示す平面断面図である。
図5は、同保持機構の保持部材の詳細な構成を示す正面図である。
図6(A)は図5のX−X線に沿う断面図であり、図6(B)は外挟持部材の自由状態を示す説明図であり、図6(C)は外挟持部材の調整後の状態を示す説明図である。
図7は、図5のY−Y線に沿う断面図である。
図8は、図7のZ−Z線に沿う断面図である。
図9は、図3及び図4に示す保持機構の弾性支持部材(2次元板バネ)の詳細な構造を示す図である。(A)は正面図であり、(B)は側面図であり、(C)は上面図であり、(D)は下面図である。
【0046】
図3、図4等には、板状のミラー201(光学素子)の端部(保持突起)201Aが示されている。ミラー201の保持突起201Aは、ミラー側周面に互いに離れて3ヶ所に一体に形成されている。各保持突起201Aは、本実施例では保持部材20に挟まれた状態で保持されている。
【0047】
以下、主に図5〜図8を参照して、保持部材20の詳細な構成について説明する。
図6にわかり易く示すように、保持部材20は、ミラー201の保持突起201Aを上下に挟み込む上下挟持部材21を備えている。この上下挟持部材21は、ミラー保持突起201Aの上面に当接する上押え部材22と、ミラー保持突起201Aの外周端及び下面に当接する下押え部材23とを有する。上押え部材22と下押え部材23は、図5に示すネジS1で結合されている。なお、これら上下押え部材22、23は、一体に形成することもできる。
【0048】
上押え部材22は、図8に最も良く示すように、ミラー保持突起201Aの上面に当接する中央部25と、この中央部25を挟んで両側の端部27とを備えている。中央部25と両端部27とは、ワイヤーカット加工で形成された板バネ28で一体に繋がっている。この板バネ28により、中央部25は端部27に対して上下に変位できる。
【0049】
下押え部材23は、図6、図7に最も良く示すように、ミラー保持突起201Aの外周端側に位置する側板部31と、ミラー保持突起201Aの下面側に位置する下端部33とを有する略断面L字状(図6参照)の部材である。下押え部材23の側板部31は略平板状であり、内面に凹部31aが形成されている。この凹部31aには、ミラー保持突起201Aの外周端部が係合する。下押え部材23の下端部33は、中央上側に凸部33a(図8参照)が形成されている。この凸部33aは、ミラー保持突起201Aの下面側に当接する。
【0050】
図6、図8にわかり易く示すように、上押え部材22の中央部25、及び、下押え部材23の下端部33には、それぞれ上ネジ軸36、下ネジ軸37が挿通されている。これら上下ネジ軸36、37は、ミラー保持突起201Aを介して互いに平行に位置している。これらのネジ軸36、37については後述する。
【0051】
図8に示すように、ミラー保持突起201Aの左端側において、上押え部材22の端部27と下押え部材23の下端部33間には、バネ付きブロック(左挟持部材)41が配置されている。バネ付きブロック41と下押え部材23の側板部31は、図5に示すネジS2で結合されている。このバネ付きブロック41は、ブロック本体42と当接部43を有する。当接部43には、ミラー保持突起201Aの側面に当たる当接面43aが形成されている。当接部43を挟んで上下において、ブロック本体42には、上下ネジ軸36、37の左端部が捩じ込まれている。
【0052】
ブロック本体42には、水平方向(光学素子1の径方向)変形用の板バネ(水平板バネ)45が形成されている。この水平板バネ45は、図7にわかり易く示すように、ブロック本体42の厚みが薄くなるよう、両側面から幅中心に向けて上下方向に沿う溝が彫り込まれることで、ブロック本体42の一部(薄肉部)として形成されている。この水平板バネ45は、同一面内で互いに平行に2ヶ所に形成されている。この水平板バネ45により、ブロック本体42は図7の矢印α方向に傾斜(回転)可能である。
【0053】
図8に示すように、バネ付きブロック41の当接部43は、ブロック本体42の右側に上下方向傾斜用の板バネ(上下板バネ)47で繋がれている。この上下板バネ47は、ワイヤーカット加工によりブロック本体42に切り込み形成されている。当接部43の当接面43aは、ブロック本体42の端面よりも右側(ミラー保持突起201A側)突出している。この上下板バネ47により、当接部43がブロック本体42に対して上下に傾く方向(図8の矢印β方向)に傾斜可能である。すなわち、上下板バネ47全体で、当接部43の当接面43aが傾斜可能になっている。
【0054】
図8に示すように、ミラー保持突起201Aの右端側において、上押え部材22の端部27と下押え部材23の下端部33間には、右挟持部材51及び撓み板53が配置されている。右挟持部材51の上下端部には、上下ネジ軸36、37が挿通されている。右挟持部材51の左端側(ミラー保持突起201A側)には、ミラー保持突起201Aの側面に当たるミラー当接突起51aが形成されている。右挟持部材51の右端側(ミラー保持突起201Aと逆側)には、撓み板53の中心に当たる撓み板当接突起51bが形成されている。右挟持部材51と下押え部材23の側板部31は、図5に示すネジS3で結合されている。
【0055】
撓み板53は、右挟持部材51の右隣りに配置されている。撓み板53にも上下ネジ軸36、37が挿通している。この撓み板53よりも外側(図8の右側)において、上下ネジ軸36、37の右端部には、それぞれナット56、57が螺合している。撓み板53は、これらネジ軸36、37に支持された状態で、右挟持部材51の撓み板当接突起51bを力点としてナット56、57の締め付け量に伴い撓むことができる。なお、ネジ軸36、37を通している上押え部材22の中央部25や下押え部材23の下端部33、右挟持部材51の貫通孔はネジ軸36、37よりも大きく、ネジ軸36、37の外側には隙間がある。
【0056】
図5に示すように、上下挟持部材21の側板部31の右寄り部分には、窓39が2つ形成されている。各窓39からは、右挟持部材51及び撓み板53と、これらの間のネジ軸36、37が見えている。これら窓39から顕微鏡等で右挟持部材51と撓み板53との間の寸法を測定することで、ナット56、57の締め付け量に伴う撓み板53の撓み量を測定できる。そして、撓み板53の撓み量(前述の寸法)に基づき、ミラー保持突起201Aの左右側部の挟持力(バネ付きブロック41と右挟持部材51とで挟み込む力)を調整できる。
なお、図5の符号Tは、側板部31と図4の部材202とを結合するためのタップ穴である。
【0057】
図6にわかり易く示すように、保持部材20の上下挟持部材21には、コ字状の外挟持部材61が外嵌している。外挟持部材61の上端部62の内側には、突起62aが形成されている。この突起62aは、上下挟持部材21の上押え部材22の中央部25上面に当たっている。外挟持部材61の下端部63は、上下挟持部材21の下押え部材23の下端部33に形成された凹部34内に配置されている。外挟持部材61の上端部62と下端部63間は、短冊板状の中間部64となっている。
【0058】
図8に示すように、外挟持部材61の下端部63には、3つの貫通孔63a(中央部)、63b(両側部)が開けられている。中央の貫通孔63aと同心上において、下押え部材23の下端部33には位置決めピン35が固定されている。この位置決めピン35の下端部は、下端部63中央の貫通孔63aを通って、下側に突出している。さらに、外挟持部材61の下端部63の2つの貫通孔63bと略同心上において、下押え部材23の下端部33には2つのネジ孔33bが形成されている。両ネジ孔33b内には、それぞれ穴付きネジ32が螺入している。
【0059】
穴付きネジ32は、外挟持部材61の下端部63の貫通孔63b内からレンチ等を入れて回すことで、ネジ孔33b内を上下に移動できる。穴付きネジ32を回して下げると、ネジ下端が外挟持部材61の下端部63上面に当たり、同下端部63を押し下げる。この押し下げ力は、外挟持部材61の上端部62に伝わり、同上端部62も下がろうとする。この押し下げ力は、上端部62の突起62aから上押え部材22の中央部25を介してミラー保持突起201Aに伝わる。すなわち、穴付きネジ32を下げた場合は、上下挟持部材21の上押え部材22と下押え部材23間で、ミラー保持突起201Aを挟む力が大きくなる。逆に、穴付きネジ32を回して上げ、ネジ下端が外挟持部材61の下端部63上面から離れると、上下挟持部材21の上押え部材22と下押え部材23間のミラー保持突起201Aの挟み力が小さくなる。
【0060】
ここで、図6(B)、(C)を参照して、穴付きネジ32の上下に伴う外挟持部材61の変形(挟む力の調節)について説明する。図6(B)に示すように、ネジ下端が外挟持部材61の下端部63上面に当たるまでは、外挟持部材61は平常のコ字状を保っている。この状態から穴付きネジ32が下がって、ネジ下端が外挟持部材61の下端部63を押し下げると、図6(C)に示すように、主に中間部64が撓んで外挟持部材61が変形する。このときの外挟持部材61の変形量δは、穴付きネジ32の下がり位置に応じて調節できる。
【0061】
従来は、このような挟持部材がなく、ミラー保持突起をネジで直接的に押えており、ミラー保持突起を押える力をネジの締め付けトルクでもって管理していた。しかしながら、このような管理では、トルクが一定であっても押える力は一定にはなりにくいため、ミラー保持突起を押える力が安定しにくく、そのためミラー変形が一定ではなかった。一方、前述した保持部材20は、ミラー保持突起を押える力を目に見える形で管理できるので、保持に必要な挟持力を確実に得ることができる。つまり、保持部材20により、極力ミラーを変形させないようにするとともに、ミラーの不可避的な変形については常に安定的に管理することができる。
【0062】
このように、本実施例の保持部材20を用いると、ミラー保持突起201Aを上下左右四方向から挟み込むことができる。そして、バネ付きブロック41の板バネ45、47、並びに、上押え部材22の板バネ28の作用により、ミラー保持突起201Aを柔軟に且つピッタリと左右・上下で挟むことができる。これにより、ミラー保持突起201Aの局所的な変形が抑制されるとともに、当接部の摩擦力が増大してミラー保持突起201Aの位置ずれも抑制される。あるいは、ミラー保持突起201Aの高い保持力を実現することもできる。さらに、上押え部材22の板バネ28と、バネ付きブロック41の板バネ45、47とが変形して逃げることで、ミラー保持突起201Aに無理な力がかからず、その変形を小さく抑えることができる。
【0063】
再び図3及び図4に戻って説明する。
図3に示すように、保持部材20の下側には弾性支持部材(弾性支持部材1)70が配置されている。一方、図4に示すように、保持部材20の左右にも弾性支持部材(弾性支持部材2)70が配置されている。これら弾性支持部材70は、図9に詳細に示す2次元板バネである。各弾性支持部材(2次元板バネ)70の構造は実質的に同一であるため、以下、図9を参照してこの2次元板バネ70の構成を説明する。
【0064】
図9に示すように、この2次元板バネ70は、2組の板バネが1個のブロックの中に直交するように作り込まれている。より詳しくは、この2次元板バネ70は、中央のブロック部71を備えている。このブロック部71は、略直方体状の中実のものである。同部71の上端及び下端には、左右両側(ブロック長手方向)に羽根状に張り出した取付片部72、73がそれぞれ形成されている。そして、ブロック部71には、一筆書きのワイヤーカット加工によって、2組の板バネを形成する切り込み溝75・75′、76・76′が直交するように切り込まれている。切り込み溝75と75′、並びに、切り込み溝76と76′は、ぞれぞれブロック部71の中心線C1(図9(A)参照)、C2(図9(B)参照)に対して対称に切り込まれている。各溝の幅は、一例で0.3mm程度である。
【0065】
切り込み溝75(及びそれと対称な切り込み溝75′)は、以下の第1〜第4切込部75a〜75dが連なるように形成されたものである;図9(A)に示すように、第1切込部75aは、ブロック部71側部と上端取付片部72の境界部近傍から中心線C1近傍に延びる。第2切込部75bは、第1切込部75a終端から90°曲がって中心線C1と平行に延びる。第3切込部75cは、第2切込部75b終端から中心線C1とは離れる側に膨らむようにコ字状に切り込まれてなる。第4切込部75dは、第3切込部75c終端から90°曲がって中心線C1と平行に延びる(第2切込部75bと同一直線上に延びる)。前記第2切込部75bと75b´の間、並びに、第4切込部75dと75d´の間に、薄い板バネ77X、77Yが形成されている。
【0066】
切り込み溝76(及びそれと対称な切り込み溝76′)は、以下の第1〜第4切込部76a〜76dが連なるように形成されたものである;図9(B)に示すように、第1切込部76aは、ブロック部71側部と下端取付片部73の境界部近傍から中心線C2近傍に延びる。第2切込部76bは、第1切込部76a終端から90°曲がって中心線C2と平行に延びる。第3切込部76cは、第2切込部76b終端から中心線C2とは離れる側に膨らむようにコ字状に切り込まれてなる。第4切込部76dは、第3切込部76c終端から90°曲がって中心線C2と平行に延びる(第2切込部76bと同一直線上に延びる)。前記第2切込部76bと76b´の間、並びに、第4切込部76dと76d´の間に、薄い板バネ78X、78Yが形成されている。
【0067】
切り込み溝75・75′及び76・76′が切り込まれることで、ブロック部71は、図9(A)及び図9(B)の矢印方向(水平及び傾き(回転)の両方向)に変位可能である。このような各溝の形成に用いたワイヤーカット加工は、ブロック部71に過度な力を加えることなく精密な加工を行うことができる。このような2次元板バネ70により、1個のブロック中の小さいスペース内で2組の板バネ機能を実現することができる。
【0068】
2次元板バネ70のブロック部71の上下端面中心には、それぞれピン孔71a、71bが形成されている。上側のピン孔71aには、位置決めピン35(図3等参照)が係合する。上取付片部72の孔72a、及び、下取付片部73の孔73aは、それぞれ2次元板バネ70固定用ネジが挿通される挿通用孔である。
【0069】
再び図3及び図4に戻って説明する。
図3に示すように、ミラー保持突起201Aの保持部材20と2次元板バネ70は、保持部材20の位置決めピン35が2次元板バネ70のピン孔71aに係合した状態でネジ結合される。このとき、2次元板バネ70のセンターと、保持機構の位置決めピン35のセンターとは一致している。このようにセンターを一致させて位置決めピン35のほぼ中央と2次元板バネ70の面とを一致させることで、ミラー201に重力や衝撃が加わっても、ミラー保持突起201Aを掴んでいる箇所に無理な力がかからない。そのため、ミラー201の変形を小さく抑えることができる。なお、保持部材20は、ミラー保持突起201Aと一体にすることが目的であり、保持部材20自体は歪まない。
【0070】
図3に示すような、保持部材20の下側に取り付けられた2次元板バネ(弾性支持部材1)70は、保持部材20を、重力方向には高剛性で支え、ミラー周方向、径方向及び傾き方向には柔軟に支える。一方、図4に示すような、保持部材20の左右に取り付けられた2次元板バネ(弾性支持部材2)70は、保持部材20を、ミラー周方向には高剛性で支え、重力方向及びミラー径方向には柔軟に支える。このようなミラーの保持機構によれば、保持部材20とミラー201と結合する際に生じる歪(双方の当接面の平坦性に起因する歪)を、各2次元板バネ70の変形で吸収することができる。そのため、結合時のミラー201の変形を抑制できる。
【0071】
図3に示すように、2次元板バネ70の下端取付片部73は、リング3に固定される。さらに、リング3と光学系鏡筒フランジ2の間に挟まれた状態で、ミラー201の位置調整機構80、81、82が配置されている。一方、リング3と光学系鏡筒フランジ2を繋ぐように、固定機構90が配置されている。
【0072】
位置調整機構80は、ミラー201のZ、θx、θyの位置調整(X、Y、Zは図3の矢印方向参照)を行う。一方、位置調整機構81、82は、ミラー201のX、Y、θzの位置調整(X、Y、Zは図3の矢印方向参照)を行う。位置調整機構80は、例えばDCモータやピコモータ(PZTモータ)等のアクチュエータで作用する。
【0073】
ミラー201として高精度な非球面ミラーを用いる場合には、要求される位置精度が1μm程度と小さい場合がある。ミラー201が球面ミラーである場合は、横ずれは傾きと同じ収差を発生させることが多い。一方、ミラー201が非球面ミラーである場合は、収差の発生量や種類が同じであるとは限らない。本実施例の位置調整機構80、81、82は、横ずらしと傾きの両方の機能、及び、間隔調整機能(つまりX、Y、Z、θx、θy、θz調整)を有しているので、これらの機能を適宜調整してミラー201の位置誤差を補正することにより、所望の波面収差及び解像力が得やすくなる。
【0074】
さらに、位置調整機構80、81、82は、図10に示すような駆動量縮小機構(てこ機構)で構成することができる。
図10(A)は本実施の形態における位置調整機構(81、82)の駆動量縮小機構の一例を主に示す平面図であり、図10(B)は位置調整機構(80)の一例を主に示す構成図である。
図10(A)の左のてこ機構(Y方向位置調整機構)81と、右のてこ機構(YX方向位置調整機構)82は、前述の通りミラー201のX、Y、θzの位置の微調整を行う機構である。図10(B)には、図10(A)の中央のリング3(仮想的に示す)周囲に120°間隔で配置された調整機構80(計3つ)の詳細が示されている。これら3つの調整機構80は、前述の通りミラー201のZ、θx、θyの位置調整を行う機構である。各機構80、81、82は、図3に示すように、保持機構の直下に配置されている(図3と図10(A)の支持点F参照)。調整機構80がリング3の直下に配置されていることで、リング3の剛性を低くできるようになっている。ただし、調整機構80は、必ずしも保持機構の直下に配置される必要はない。
【0075】
駆動量縮小機構は、アクチュエータAの動きを縮小してリング3に伝える。リング3の位置を調整することによって、ミラー201の位置が調整される。駆動量縮小機構は、てこレバー85を備えている。このてこレバー85は、図10(B)に示すように、光学系鏡筒フランジ2に固定される固定部85aと、2次元板バネ70を介してリング3に接続される移動部85bと、これら両部間を繋ぐ板バネ86を有する。固定部85aと移動部85bは、板バネ86を挟んで平行に配置されている。
【0076】
駆動量縮小機構(位置調整機構80)は、アクチュエータAを作動すると、てこレバー85の移動部85bが図10(B)の矢印Z1方向に動く。この移動部85bの動きは、板バネ86を支点として、2次元板バネ87を図10(B)の矢印Z2方向に動かす。このとき、てこレバー85のてこ作用により、移動部85bの動き(アクチュエータAの駆動量)が縮小されて2次元板バネ70に伝わる。
駆動量縮小機構(位置調整機構81、82)は、前述と同様にして、各アクチュエータAを作動すると、各板バネ86を支点として、各2次元板バネに縮小された駆動量が伝わる。この駆動量は、各2次元板バネから支持点(力点)Fにおいてリング3に作用する。位置調整機構81においては、2次元板バネ88が図10(A)の矢印Y方向に動く。一方、位置調整機構82においては、2つの2次元板バネ88がそれぞれ図10(A)の矢印Y、Xに動く。
このような駆動量微小機構(位置調整機構80、81、82)により、ミラー201の位置微調整を行うことができる。
【0077】
ところで、前述の位置調整機構80、81、82によりミラー201の位置を調整した後、その位置を維持しなければならないが、位置調整機構80、81、82では位置の維持能力が充分でない場合がある。このような場合、前述の図3の固定機構90を用いる。
図12(A)は本発明に係る光学系鏡筒の固定機構の例を示す平面図であり、図12(B)は同固定機構の側面図である。
【0078】
図12(及び前述の図3)に示すように、固定機構90は、光学系鏡筒フランジ2とリング3を繋ぐクランプ部材91と板バネ92とからなる。板バネ92は、クランプ部材91に光学系鏡筒フランジ2・リング3をネジ等で結合する際、リング3の位置がずれないようにする役割を果たす。この板バネ92は、2枚のバネ片95が剛体片96を挟んで直列に接続されてなる。2枚のバネ片95は、同一平面内に位置する。各板バネ92は、リング3の周方向に沿って3組以上分散配置する。このとき、分散配置された各板バネ92の自由度が互いに異なる向きとなるように配置する。
【0079】
このように板バネ92を配置すると、保持部材20の位置調整を行った後に、各板バネ92の動きが拘束し合って自由度がなくなり、ミラーの位置を維持できる。特に、図のように3組の固定機構90を120°間隔で分散配置し、板バネ92の向きも120°間隔で変えると、固定機構90が略完全に拘束できる。なお、3組が最もバランスがよく理想的ではあるが、さらに強固に固定したい場合は4組以上とすることもできる。4組以上とした場合は、不静定で過剰拘束となるが、リング3をより強く固定できる。この際、リング3が多少歪んだとしても、2次元板バネ70がバネ変形するため、リング3の歪はミラー201の変形には影響が少ない。また、リング3の歪の許容量は、ミラー201の許容歪量に比べれば各段に大きいので、大きな問題はないといえる。
【0080】
なお、図11に示すアクチュエータでミラーの形状誤差を補正することも可能である。ここで述べるミラーの形状誤差の補正は、前述のミラーの位置微調整とは別の調整である。
図11(A)及び(B)は、2次元板バネとリング間に2次元アクチュエータ(形状調整機構)が設けられた例を示す図である。
図11においては、図3に示す2次元板バネ70とリング3間に、2次元アクチュエータBが設けられている。2次元アクチュエータBを作動すると、2次元板バネ70に周方向又は径方向の変位を加えることができる。図11(A)は、2次元アクチュエータBで2次元板バネ70を径方向に変位させ、ミラー201の保持突起201Aに矢印M1のモーメント力を与えた状態を模式的に示す。一方、図11(B)は、2次元アクチュエータBで2次元板バネ70を周方向に変位させ、ミラー201の保持突起201Aに矢印M2のモーメント力を与えた状態を模式的に示す。ミラー201が変形すると波面収差が変化するので、これに基づき所望の波面収差となるようなモーメント力を加え、ミラーの形状誤差を補正する。
【0081】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、光学素子の変形を抑制することのできる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1(A)は本発明の第1実施例に係る光学系鏡筒内のミラー保持機構を示す平面図であり、図1(B)は同保持機構の接着部材の拡大図である。
【図2】図2(A)は同ミラー保持機構を示す側面断面図であり、図2(B)は同機構の鍔状部材の平面図である。
【図3】本発明の第2実施例に係る露光装置の光学系鏡筒を示す側面断面図である。
【図4】同鏡筒内のミラー及びその保持機構を示す平面断面図である。
【図5】同保持機構の保持部材の詳細な構成を示す正面図である。
【図6】図6(A)は図5のX−X線に沿う断面図であり、図6(B)は外挟持部材の自由状態を示す説明図であり、図6(C)は外挟持部材の調整後の状態を示す説明図である。
【図7】図5のY−Y線に沿う断面図である。
【図8】図7のZ−Z線に沿う断面図である。
【図9】図3及び図4に示す保持機構の弾性支持部材(2次元板バネ)の詳細な構造を示す図である。(A)は正面図であり、(B)は側面図であり、(C)は上面図であり、(D)は下面図である。
【図10】図10(A)は本実施の形態における位置調整機構(81、82)の駆動量縮小機構の一例を主に示す平面図であり、図10(B)は位置調整機構(80)の一例を主に示す構成図である。
【図11】2次元板バネとリング間に2次元アクチュエータ(形状調整機構)が設けられた例を示す図である。
【図12】図12(A)は本発明に係る光学系鏡筒の固定機構の例を示す平面図であり、図12(B)は同固定機構の側面図である。
【図13】EUV光露光装置の概略構成例を示す図である。
【図14】EUV光露光装置の光学系鏡筒の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
1、201 ミラー(光学素子)
1A、201A ミラー保持突起
2 光学系鏡筒フランジ 3 リング
5 鍔状部材 5a 外嵌部
5b 鍔部 5c スリット
7 スペーサ
10 保持部材セット 11 板バネ
12 バネ片 13 剛体片
14 溝 16 接着部材
17 接着剤 18 連結部材
20 保持部材 21 上下挟持部材
22 上押え部材 23 下押え部材
25 中央部 27 端部
28 板バネ 31 側板部
32 穴付きネジ 33 下端部
35 位置決めピン 36 上ネジ軸
37 下ネジ軸 39 窓
41 バネ付きブロック(左挟持部材) 42 ブロック本体
43 当接部 43a 当接面
45 板バネ(水平板バネ) 47 板バネ(上下板バネ)
51 右挟持部材
51a ミラー当接突起 51b 撓み板当接突起
53 撓み板 56、57 ナット
61 外挟持部材
62 上端部 62a 突起
63 下端部 63a、63b 貫通孔
64 変形部
70 2次元板バネ 71 ブロック部
71a、71b ピン孔 72、73 取付片部
75、75′、76、76′ 切り込み溝
77X、77Y、78X、78Y 板バネ
80 調整機構
81 Y方向位置調整機構 82 YX方向位置調整機構
85 てこレバー
85a 固定部 85b 移動部
86 板バネ
90 固定機構 91 クランプ部材
92 板バネ 95 バネ片
96 剛体片 A、B アクチュエータ

Claims (12)

  1. 光学素子を光学系鏡筒に保持する機構であって、
    前記光学素子の側面と対向し、かつ溝によって複数に分割された面を有する接着部材と、
    該接着部材の両側に設けられ、前記光学素子の周方向にそれぞれ延びる2枚の板バネと、
    前記光学素子の側面と前記接着部材の前記面とを接着する接着剤と、
    前記光学系鏡筒に連結され、前記2枚の板ばねを介して前記接着部材を支持する連結部材とを備えることを特徴とする光学素子保持機構。
  2. 前記板バネは、前記光学素子の側面に対して垂直方向に変形することを特徴とする請求項1記載の光学素子保持機構。
  3. 前記接着部材前記板バネ及び前記連結部材を含む保持部材のセットが前記光学素子の側面に3組以上分散配置されており、
    該保持部材のセットを固定するリングと、
    該リングと、前記光学系鏡筒のフランジとを繋ぐ、該リングの厚さの1/10以下の薄い鍔部を有する部材と、
    をさらに備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光学素子保持機構。
  4. 前記光学系鏡筒のフランジと前記鍔部との間に介在するスペーサをさらに備えることを特徴とする請求項3記載の光学素子保持機構。
  5. 光学素子の保持機構と、
    該光学素子の位置調整機構及び/又は光学素子の形状調整機構と、
    を具備する光学系鏡筒であって、
    前記光学素子の保持機構が請求項1〜4のうちいずれか一項に記載の光学素子保持機構であることを特徴とする光学系鏡筒。
  6. 前記形状調整機構が、前記保持機構を介して前記光学素子にモーメントをかけて前記光学素子の形状誤差を補正することを特徴とする請求項5に記載の光学系鏡筒。
  7. 前記形状調整機構が、前記保持機構に水平方向の変位を加えるアクチュエータを有することを特徴とする請求項6に記載の光学系鏡筒。
  8. 前記位置調整機構が、
    アクチュエータと、
    該アクチュエータの動きを縮小して前記光学素子保持機構に伝える駆動量縮小機構とを有することを特徴とする請求項5に記載の光学系鏡筒。
  9. 前記駆動量縮小機構が、支点が板バネからなるテコを有することを特徴とする請求項8記載の光学系鏡筒。
  10. 前記位置調整機構が、
    X、Y、θzの調整機構と、Z、θx、θyの調整機構とが並列的に配置されていることを特徴とする請求項5に記載の光学系鏡筒。
  11. 前記Z、θx、θyの調整機構が3つのZ調整機構からなり、
    該Z調整機構の上に、重力方向には高剛性で支え、水平方向には柔軟に支える弾性支持部を備えることを特徴とする請求項10記載の光学系鏡筒。
  12. エネルギ線を感応基板に選択的に照射してパターン形成する露光装置であって、
    該エネルギ線の光学系を搭載する請求項5〜11のうちいずれか一項に記載の光学系鏡筒を具備することを特徴とする露光装置。
JP2002182867A 2002-06-24 2002-06-24 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置 Expired - Fee Related JP4565261B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002182867A JP4565261B2 (ja) 2002-06-24 2002-06-24 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
US10/603,732 US6859337B2 (en) 2002-06-24 2003-06-24 Optical-element mountings exhibiting reduced deformation of optical elements held thereby
EP03014196A EP1376183A3 (en) 2002-06-24 2003-06-24 Optical-element mountings exhibiting reduced deformation of optical elements held thereby

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002182867A JP4565261B2 (ja) 2002-06-24 2002-06-24 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009121751A Division JP5168507B2 (ja) 2009-05-20 2009-05-20 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004031491A JP2004031491A (ja) 2004-01-29
JP4565261B2 true JP4565261B2 (ja) 2010-10-20

Family

ID=29717558

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002182867A Expired - Fee Related JP4565261B2 (ja) 2002-06-24 2002-06-24 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6859337B2 (ja)
EP (1) EP1376183A3 (ja)
JP (1) JP4565261B2 (ja)

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7417708B2 (en) * 2002-10-25 2008-08-26 Nikon Corporation Extreme ultraviolet exposure apparatus and vacuum chamber
US7760452B2 (en) * 2003-04-25 2010-07-20 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus, optical system, exposure apparatus and device fabrication method
DE10339362A1 (de) * 2003-08-27 2005-03-24 Carl Zeiss Smt Ag Vorrichtung zur Verhinderung des Kriechens eines optischen Elementes
AU2003296244A1 (en) * 2003-10-02 2005-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Optical subassembly and projection objective for semiconductor lithography
US7183674B2 (en) * 2003-11-06 2007-02-27 Carl Zeiss Smt Ag Hermetically sealed elements of an actuator
US7085080B2 (en) * 2003-12-06 2006-08-01 Carl Zeiss Smt Ag Low-deformation support device of an optical element
US7369332B2 (en) * 2004-04-13 2008-05-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Closing module for an optical arrangement
DE102004018659A1 (de) * 2004-04-13 2005-11-03 Carl Zeiss Smt Ag Abschlussmodul für eine optische Anordnung
DE102004018656A1 (de) * 2004-04-13 2005-11-03 Carl Zeiss Smt Ag Optisches Element
US7515359B2 (en) * 2004-04-14 2009-04-07 Carl Zeiss Smt Ag Support device for positioning an optical element
US7604359B2 (en) 2004-05-04 2009-10-20 Carl Zeiss Smt Ag High positioning reproducible low torque mirror-actuator interface
DE102004024755B4 (de) * 2004-05-12 2006-02-23 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Halterung für optische Elemente
US7738193B2 (en) 2004-06-29 2010-06-15 Carl Zeiss Smt Ag Positioning unit and alignment device for an optical element
US7336408B2 (en) 2004-08-20 2008-02-26 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Reflecting mirror supporting mechanism
KR100644668B1 (ko) * 2004-12-18 2006-11-10 삼성전자주식회사 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치
JP4539335B2 (ja) * 2005-01-12 2010-09-08 株式会社ニコン 多層膜反射鏡、euv露光装置、及び多層膜反射鏡におけるコンタミネーションの除去方法
JP4817702B2 (ja) * 2005-04-14 2011-11-16 キヤノン株式会社 光学装置及びそれを備えた露光装置
JP4710427B2 (ja) * 2005-06-15 2011-06-29 株式会社ニコン 光学素子保持装置、鏡筒及び露光装置並びにデバイスの製造方法
EP1899756A2 (de) 2005-07-01 2008-03-19 Carl Zeiss SMT AG Anordnung zur lagerung eines optischen bauelements
JP5243957B2 (ja) * 2005-08-16 2013-07-24 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 液浸リソグラフィー用オブジェクティブ
JPWO2007086557A1 (ja) * 2006-01-30 2009-06-25 株式会社ニコン 光学部材保持装置、光学部材の位置調整方法、及び露光装置
JP2007322709A (ja) * 2006-05-31 2007-12-13 Tamron Co Ltd 光学部材支持機構、光学装置、および間隔調整部材
DE102006043185B4 (de) * 2006-09-14 2010-05-20 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum justierten Verbinden von Platten und nach diesem Verfahren hergestellte optische Baugruppe
EP2444829A1 (en) * 2006-09-14 2012-04-25 Carl Zeiss SMT GmbH Optical element unit and method of supporting an optical element
DE102006047666A1 (de) * 2006-09-28 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv für eine Mikrolithographieanlage mit verbesserten Abbildungseigenschaften und Verfahren zum Verbessern der Abbildungseigenschaften des Projektionsobjektives
US8416386B2 (en) * 2007-03-13 2013-04-09 Nikon Corporation Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same
WO2008122313A1 (en) * 2007-04-05 2008-10-16 Carl Zeiss Smt Ag Optical element module with imaging error and position correction
WO2009024192A1 (en) 2007-08-23 2009-02-26 Carl Zeiss Smt Ag Optical element module with minimized parasitic loads
JP5206132B2 (ja) * 2008-06-05 2013-06-12 株式会社ニコン 光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法
DE102008032853A1 (de) 2008-07-14 2010-01-21 Carl Zeiss Smt Ag Optische Einrichtung mit einem deformierbaren optischen Element
DE102009044957A1 (de) * 2008-09-30 2010-04-08 Carl Zeiss Smt Ag Stützelemente für ein optisches Element
JP2010219080A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Canon Inc 光学装置、ステージ装置、光学系及び露光装置
DE102009045163B4 (de) * 2009-09-30 2017-04-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Anordnung in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US8482132B2 (en) * 2009-10-08 2013-07-09 International Business Machines Corporation Pad bonding employing a self-aligned plated liner for adhesion enhancement
JP5556155B2 (ja) * 2009-12-04 2014-07-23 株式会社ニコン 光学部材変形装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法
DE102010022934A1 (de) * 2010-06-04 2011-12-08 Carl Zeiss Ag Optische Baugruppe
DE102010041576B4 (de) * 2010-09-29 2015-02-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Verbinden von Körpern, Verbundkörper sowie dessen Verwendung
CN102681126A (zh) * 2011-03-15 2012-09-19 上海微电子装备有限公司 镜片固定装置及固定镜片的方法
JP5695011B2 (ja) * 2012-10-31 2015-04-01 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
CN103982587B (zh) * 2013-02-07 2016-06-01 上海微电子装备有限公司 光刻机的柔性支撑装置及柔性支撑件
US9314980B2 (en) * 2013-03-19 2016-04-19 Goodrich Corporation High correctability deformable mirror
DE102013211310A1 (de) 2013-06-17 2014-12-18 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Abbildungsvorrichtung
KR20150107991A (ko) * 2014-03-14 2015-09-24 삼성전자주식회사 광학계 고정유닛 및 이를 구비하는 광학 설비
US9549107B2 (en) * 2014-06-20 2017-01-17 Qualcomm Incorporated Autofocus for folded optic array cameras
CN104360451A (zh) * 2014-09-26 2015-02-18 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种高精度可调光学元件的支撑装置
JP5848470B2 (ja) * 2015-02-05 2016-01-27 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
DE102015116590B3 (de) * 2015-09-30 2016-08-11 Jenoptik Optical Systems Gmbh Optische Fassungsbaugruppe mit montagefreundlicher Klebeverbindung
DE102015219671A1 (de) * 2015-10-12 2017-04-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Optische Baugruppe, Projektionssystem, Metrologiesystem und EUV-Lithographieanlage
CN105242373B (zh) * 2015-11-13 2017-07-21 长光卫星技术有限公司 空间相机反射镜中心支撑装置
JP6240142B2 (ja) * 2015-11-26 2017-11-29 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 寄生負荷最小化光学素子モジュール
CN105445887B (zh) * 2015-12-21 2017-12-26 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 用于光学元件支撑的调整机构
WO2017207016A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical imaging arrangement with a piezoelectric device
CN106405787B (zh) * 2016-12-10 2020-08-21 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种用于反射镜光学元件的角度调整装置
CN106990496B (zh) * 2017-05-23 2023-10-13 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种大口径光学元件的多力与力矩耦合面型精调系统
CN107765388B (zh) * 2017-11-28 2022-12-09 中国科学院西安光学精密机械研究所 一种光机用反重力微调作动装置
CN108398761A (zh) * 2018-03-28 2018-08-14 中国科学院光电技术研究所 一种三维动态调节及锁紧机构
CN110398880B (zh) * 2018-04-24 2021-09-28 台湾积体电路制造股份有限公司 曝光设备及曝光方法
CN110146277B (zh) * 2019-06-27 2023-12-19 合肥工业大学 一种实验室用的汽车零部件及总成加载试验台
JP2021099424A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 株式会社ディスコ 光学素子ユニット
US20220187567A1 (en) * 2020-12-15 2022-06-16 Plx, Inc. Mount for an optical structure and method of mounting the optical structure to the mount
CN113857973B (zh) * 2021-09-14 2022-10-14 北京空间机电研究所 一种用于光学元件加工的工艺装置及装调方法
WO2023228181A1 (en) * 2022-05-23 2023-11-30 Elbit Systems Electro-Optics Elop Ltd. A kinematic mount having three points of contact

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07307270A (ja) * 1994-05-13 1995-11-21 Canon Inc 投影倍率調整装置及びそれを有する投影露光装置
JPH0868899A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 Nikon Corp 光学素子の保持具
JP2000056114A (ja) * 1998-08-06 2000-02-25 Canon Inc 回折光学素子の製造方法及び製造装置

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4733945A (en) * 1986-01-15 1988-03-29 The Perkin-Elmer Corporation Precision lens mounting
US4681408A (en) 1986-04-28 1987-07-21 The Perkin-Elmer Corporation Adjustable mount for large mirrors
US4726671A (en) 1986-06-19 1988-02-23 The Perkin-Elmer Corporation High resonance adjustable mirror mount
US5249082A (en) 1991-05-08 1993-09-28 Eastman Kodak Company Exact constraint arrangement for and methods of mounting an element such as a lens
DE19825716A1 (de) * 1998-06-09 1999-12-16 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus optischem Element und Fassung
US5986827A (en) 1998-06-17 1999-11-16 The Regents Of The University Of California Precision tip-tilt-piston actuator that provides exact constraint
DE19904152A1 (de) * 1999-02-03 2000-08-10 Zeiss Carl Fa Baugruppe aus einem optischen Element und einer Fassung
US6400516B1 (en) * 2000-08-10 2002-06-04 Nikon Corporation Kinematic optical mounting
EP1312965B1 (en) 2000-08-18 2007-01-17 Nikon Corporation Optical element holding device
JP2003234269A (ja) * 2002-02-07 2003-08-22 Nikon Corp 反射ミラーの保持方法、反射ミラーの保持部材及び露光装置
JP2003241049A (ja) * 2002-02-22 2003-08-27 Nikon Corp 光学素子保持方法、光学素子研磨加工方法及び光学素子成膜方法
US20030234916A1 (en) * 2002-06-21 2003-12-25 Nikon Corporation Soft supports to reduce deformation of vertically mounted lens or mirror

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07307270A (ja) * 1994-05-13 1995-11-21 Canon Inc 投影倍率調整装置及びそれを有する投影露光装置
JPH0868899A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 Nikon Corp 光学素子の保持具
JP2000056114A (ja) * 1998-08-06 2000-02-25 Canon Inc 回折光学素子の製造方法及び製造装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2004031491A (ja) 2004-01-29
US20030234989A1 (en) 2003-12-25
EP1376183A2 (en) 2004-01-02
US6859337B2 (en) 2005-02-22
EP1376183A3 (en) 2005-06-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4565261B2 (ja) 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
US7154684B2 (en) Optical element holding apparatus
TW517279B (en) Optical element holding device for exposure apparatus
US7113263B2 (en) Supporting structure of optical element, exposure apparatus having the same, and manufacturing method of semiconductor device
US7253975B2 (en) Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method
US7515359B2 (en) Support device for positioning an optical element
JP5168507B2 (ja) 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
US8416386B2 (en) Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same
US20060072219A1 (en) Mirror holding mechanism in exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2005513767A (ja) 投影露光機における撮像装置
JP2006113414A (ja) 光学素子保持装置、鏡筒、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
KR20140124325A (ko) 미러 유닛 및 노광 장치
JP2004062091A (ja) 保持装置、露光装置及びデバイス製造方法
US8508870B2 (en) Supporting device, optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR102193387B1 (ko) 보유 지지 장치, 투영 광학계, 노광 장치 및 물품 제조 방법
US8279398B2 (en) Deforming mechanism, exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2013106017A (ja) 光学素子保持装置、光学装置、及び露光装置
US8355218B2 (en) Optical element position adjusting mechanism and optical element position adjusting method, exposure apparatus using same, and device manufacturing method
JPH11251409A (ja) 位置決め装置、及び露光装置
JP4273813B2 (ja) 光学素子保持冷却装置及び露光装置
JPH0735963A (ja) 光学素子の位置調整装置
JP2007266511A (ja) 光学系、露光装置、及び光学特性の調整方法
JP2007201342A (ja) 光学部材保持装置、光学ユニット、及び露光装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040315

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20040316

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050519

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070207

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080401

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080602

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080602

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090324

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090520

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100420

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100610

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100706

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100719

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130813

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees