KR100644668B1 - 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치 - Google Patents

미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치 Download PDF

Info

Publication number
KR100644668B1
KR100644668B1 KR1020040108400A KR20040108400A KR100644668B1 KR 100644668 B1 KR100644668 B1 KR 100644668B1 KR 1020040108400 A KR1020040108400 A KR 1020040108400A KR 20040108400 A KR20040108400 A KR 20040108400A KR 100644668 B1 KR100644668 B1 KR 100644668B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mirror
pressing
seating
elastic member
contact
Prior art date
Application number
KR1020040108400A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060069728A (ko
Inventor
김중권
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020040108400A priority Critical patent/KR100644668B1/ko
Priority to CNB2005101246207A priority patent/CN100430773C/zh
Priority to US11/304,758 priority patent/US7760410B2/en
Publication of KR20060069728A publication Critical patent/KR20060069728A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100644668B1 publication Critical patent/KR100644668B1/ko

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/043Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure
    • G03G15/0435Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with means for controlling illumination or exposure by introducing an optical element in the optical path, e.g. a filter
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/435Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
    • B41J2/44Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using single radiation source per colour, e.g. lighting beams or shutter arrangements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/125Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/127Adaptive control of the scanning light beam, e.g. using the feedback from one or more detectors
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)
  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치에 대해서 개시된다. 개시된 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치는 미러가 경사지게 장착되는 안착부를 구비하는 프레임과, 일측은 프레임의 상측에 고정되고 타측은 미러의 일면을 가압하여 미러를 안착부에 고정시키는 탄성부재를 구비하며, 탄성부재는 미러의 일면을 접촉 가압하여 미러를 안착부에 고정시키는 다수의 가압부를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의하면 종래의 발명과 달리 미러를 프레임에 고정시키는 고정력을 향상시킬 수 있다. 따라서, 충격시 미러의 들뜸이나 편심, 고정력 부족으로 인해 발생되는 미러의 틀어짐 등을 방지할 수 있고, 또한 이로 인한 광 정렬 불량이나 화상품질 불량을 개선할 수 있다.

Description

미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치 {Mirror support apparatus and optical scanning apparatus adopting the same}
도 1은 종래의 미러 지지 장치를 도시한 분리 사시도이다.
도 2는 도 1의 미러 지지 장치가 결합된 것을 도시한 측단면도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광주사장치의 광학계 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치를 개략적으로 도시한 도면이다.
도 5는 도 4의 미러 지지 장치를 도시한 측면도이다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치를 도시한 분리 사시도이다.
도 7은 도 6의 미러 지지 장치를 결합한 결합도이다.
도 8은 도 6의 미러 지지 장치 중 탄성부재를 도시한 사시도이다.
도 9는 도 8의 탄성부재를 도시한 저면도이다.
도 10은 미러 지지 장치를 도시한 측단면도이다.
도 11은 탄성부재의 다른 실시예를 도시한 사시도이다.
도 12는 도11의 탄성부재를 구비하는 미러 지지 장치를 도시한 측단면도이다.
도 13은 탄성부재의 다른 실시예를 도시한 사시도이다.
도 14는 도13의 탄성부재를 구비하는 미러 지지 장치를 도시한 측단면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
101...광원 102...콜리메이터 렌즈
103...슬릿(slit) 104...실린더 렌즈
105...빔편향기 106...구동원
107...fθ렌즈 108...결상용 미러
109...감광체 111...동기신호검출센서
112...집속렌즈 115...동기신호검출부
120...빔 스프리터 B.....주주사방향
200...미러 210...프레임
212...안착부 240...탄성부재
250...플레이트부 252...제1가압부
254...제2가압부 256...제3가압부
260...개방부
본 발명은 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치에 관한 것으로서, 특히 입사되는 광의 경로를 바꾸어주는 미러를 프레임에 안정적으로 고정시킬 수 있는 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치에 관한 것이다.
일반적으로, LSU(Laser Scanning Unit)와 같은 광주사장치(optical scanning apparatus)는 디지털 복사기, 전자사진방식 화상형성장치, 팩시밀리, 바코드 판독기 등과 같이 인쇄용지에 화상을 재현하는 화상형성장치에 적용된다. 이와 같은 광주사장치가 사용되는 광학계에는 광을 반사하고, 광경로를 변경시키는 미러가 배치된다. 미러 지지 장치는 광학계에서 미러를 지지하고, 광을 원하는 위치에 반사하도록 조절하는 기능을 한다.
도 1은 종래의 미러 지지 장치를 도시한 분리 사시도이고, 도 2는 도 1의 미러 지지 장치가 결합된 것을 도시한 측단면도이다.
도 1을 참조하면, 종래의 미러 지지 장치는 미러(5)와, 프레임(10)과, 탄성부재(40)를 구비한다. 미러(5)는 입사되는 광을 소정의 방향으로 반사시킨다.
프레임(10)은 안착부(12)와, 지지부(13)와, 가이드부(14)를 구비한다. 안착부(12)는 상기 프레임(10)에 경사지게 형성된다. 안착부(12)에는 미러(5)가 경사지게 장착된다. 안착부(12)의 하측에는 지지부(13)가 마련된다. 지지부(13)는 안착부(12)의 하측에 돌출되게 형성되어 미러(5)의 하면을 접촉 지지하는 것으로, 안착부 (12)에 장착된 미러(5)가 안착부(12)에서 미끄러지는 것을 방지한다. 가이드부(14)는 프레임(10)의 상측에 돌출되게 형성된다. 가이드부(14)에는 후술하는 탄성부재(40)의 가이드공(42)이 끼워져, 탄성부재(40)의 결합 위치를 결정한다. 또한, 프레임(10)의 상측에는 가이드부(14)와 소정 간격 이격되게 배치되는 것으로, 탄성부재(40)의 결합공(44)이 결합되는 결합공(18)이 형성된다. 결합공(18)에는 탄성부재(40)를 프레임(10)에 고정시키기 위해 도시되지 않은 스크류 등이 결합된다.
탄성부재(40)의 일측은 프레임(10)의 상측에 고정되고 타측은 미러(5)의 일면을 가압하여 미러(5)를 안착부(12)에 고정시킨다. 즉, 탄성부재(40)는 안착부(12)에 장착되는 미러(5)의 반대면을 가압하여 미러(5)를 안착부(12)에 탄력적으로 고정시킨다. 도시된 바와 같이, 탄성부재(40)는 미러(5)를 안착부(12)에 효율적으로 고정시키기 위해 프레임(10)의 형상에 따라 굴절되게 형성된다. 탄성부재(40)의 타측에는 미러(5)의 일면을 접촉 가압하여 미러(5)를 안착부(12)에 고정시키는 가압부(50)가 형성된다. 가압부(50)는 미러(5)와 선접촉된다.
종래의 미러 지지 장치에서 미러(5)는 탄성부재의 가압부(50)에 의해 안착부(12), 즉 프레임(10)에 고정된다. 도 2에 도시된 화살표는 탄성부재(40)가 미러(5)를 고정하기 위해 미러(5)에 작용되는 힘의 방향이다. 도시된 바와 같이 종래의 미러 지지 장치는 미러(5)의 일 부분만을 선접촉하여 프레임(10)에 고정시킨다.
상술한 바와 같이 종래 기술에 의하면, 미러(5)를 고정시키는 탄성부재(40)의 가압력이 미러(5)의 일부분에만 작용하게 되므로, 외력에 의한 충격이 발생시 그 충격으로 인해 미러(5)의 장착 위치가 변동될 수 있다. 또한, 미러(5)를 고정시 키는 탄성부재(40)의 가압력이 일지점에서 선접촉되는 가압부(50)를 통해 미러(5)에 전달되므로 미러(5)를 가압하는 가압력이 저하되며, 작은 충격에 의해서도 미러(5)가 움직이게 된다.
또한, 종래의 미러 지지 장치는 제작상의 실수 등으로 인해 안착부(12)에 기구적인 오차가 발생될 경우 미러(5)가 한 쪽 방향으로 들뜨거나, 또는 미러(5)에 작용되는 가압력이 저하될 수 있다. 외력에 의한 충격시 미러(5)의 들뜸 현상이나 고정력 저하로 인해 미러(5)가 진동하게 되거나, 장착된 위치에서 틀어지게 된다. 따라서, 미러의 들뜸이나 편심, 고정력 부족으로 인해 광 정렬 불량이 발생되며, 이로 인한 화상의 흐트러짐 등 화상품질 불량이 발생된다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 개선하기 위해 창출된 것으로서, 미러를 프레임에 고정시키는 고정력을 향상시킬 수 있는 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치를 제공하는데 그 목적이 있다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치는, 입사되는 광을 반사시키는 미러와, 상기 미러가 경사지게 장착되는 안착부를 구비하는 프레임과, 일측은 상기 프레임의 상측에 고정되고 타측은 상기 미러의 일면을 가압하여 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 탄성부재를 구비하는 미러 지지 장치에 있어서, 상기 탄성부재는, 상기 미러의 일면을 탄력적으로 눌러 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 것으로, 상기 미러의 폭 방향을 따라 서로 다른 위치에 마련되는 다수의 가압부; 를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 다수의 가압부는, 상기 미러를 상기 안착부의 일측부 쪽으로 가압하는 제1가압부와; 상기 미러를 상기 안착부의 타측부 쪽으로 가압하는 제2가압부를; 구비하고, 상기 제1가압부와 상기 제2가압부는 서로 다른 높이에서 상기 미러와 접촉되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 안착부의 일측부는 좌측부이며, 상기 안착부의 타측부는 우측부인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부와 상기 미러는 면접촉이나 선접촉, 점접촉 중 어느 하나 이상의 방법으로 접촉되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부는, 상기 탄성부재에 돌출되게 형성되어 상기 미러와 접촉되는 돌출부를; 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 크기가 서로 다른 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 반구형인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 반경 및 높이가 서로 다른 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 각각의 돌출부 중 상기 미러의 상측을 가압하는 돌출부의 높이는 상기 미러의 하측을 가압하는 돌출부의 높이보다 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 미러 지지 장치에 있어서, 상기 탄성부재에는 상기 제1가압부와 상기 제2가압부 사이에 형성되는 것으로, 상기 안착부의 경사면과 나란하게 아래 방향으로 개방되어 있는 개방부;가 형성되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광주사장치는, 광원과 피노광체 사이의 광경로 상에 배치되어 입사되는 광을 반사시키는 미러와, 상기 미러를 지지하는 미러 지지 장치를 갖는 광주사장치에 있어서, 상기 미러 지지 장치는,
상기 미러가 경사지게 장착되는 안착부를 구비하는 프레임과, 일측은 상기 프레임의 상측에 고정되고 타측은 상기 미러의 일면을 가압하여 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 탄성부재를 구비하고, 상기 탄성부재는 상기 미러의 일면을 탄력적으로 눌러 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 것으로 상기 미러의 폭 방향을 따라 서로 다른 위치에 마련되는 다수의 가압부;를 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광주사장치에 있어서, 상기 다수의 가압부는, 상기 미러를 상기 안착부의 일측부 쪽으로 가압하는 제1가압부와; 상기 미러를 상기 안착부의 타측부 쪽으로 가압하는 제2가압부를; 구비하고, 상기 제1가압부와 상기 제2가압부는 서로 다른 높이에서 상기 미러와 접촉되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광주사장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부는, 상기 탄성부재에 돌출되게 형성되어 상기 미러와 접촉되는 돌출부를; 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광주사장치에 있어서, 상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 반구형인 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광주사장치에 있어서, 상기 각각의 돌출부 중 상기 미러의 상측을 가압하는 돌출부의 높이는 상기 미러의 하측을 가압하는 돌출부의 높이보다 큰 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 광주사장치에 있어서, 상기 탄성부재에는 상기 제1가압부와 상기 제2가압부 사이에 형성되는 것으로, 상기 안착부의 경사면과 나란하게 아래 방향으로 개방되어 있는 개방부;가 형성되는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치를 상세히 설명한다. 이 과정에서 도면에 도시된 선들의 두께나 구성요소의 크기 등은 설명의 빠른 이해를 위해 과장되게 도시된 것이다. 또한, 설명의 빠른 이해를 위해 미러 지지 장치가 구비된 광주사장치를 먼저 설명한 후 미러 지지 장치를 설명한다.
본 발명의 미러 지지 장치는 디지털 복사기, 전자사진방식 화상형성장치, 팩시밀리, 바코드 판독기 등과 같은 장치의 광주사장치(optical scanning apparatus) 등에 사용된다. 이하에서는 전자사진방식 화상형성장치에 장착되는 광주사장치인 LSU(Laser Scanning Unit)에 사용되는 미러 지지 장치를 예로 들어 본 발명의 구성 및 동작을 설명한다. 본 실시예의 미러 지지 장치는 LSU에 사용되는 미러 지지 장 치를 예로 들었으나, 본 발명은 여기에 한정되지 않는다.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광주사장치의 광학계 구성을 개략적으로 보여주는 도면이다.
도 3을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광주사장치는 소정의 방향으로 회동하는 피노광체인 감광체(109)에 대해 광을 주사하는 것으로, 광원(101)과, 콜리메이터 렌즈(102)와, 슬릿(103)과, 실린더 렌즈(104)와, 빔 스프리터(120)와, 빔편향기(105)와, 구동원(106)과, fθ렌즈(107)와, 결상용 미러(108)와, 동기신호검출부(115) 등의 광학요소들을 구비한다.
광원(101)는 구동회로에 의해 온/오프 제어되면서 화상 신호에 대응되는 적어도 하나의 광빔을 생성 조사한다. 광원(101)은 반도체 레이저, LED(발광소자) 등의 소자로 구성되는 것이 바람직하다. 상기 광원(101)은 단일 빔 또는 멀티 빔을 조사한다. 여기서, 광원(101) 그 자체의 구성은 당해 분야에서 널리 알려져 있으므로, 그 자세한 설명은 생략한다.
콜리메이터 렌즈(102)는 광원(101)과 이격되게 설치되며, 광원(101)에서 조사된 광을 집속시켜 광축에 대해 평행광 또는 수렴광으로 만들어준다. 슬릿(103)은 콜리메이터 렌즈(102)의 끝면에 부착되어 슬릿(103)을 통과하는 광을 제한한다. 실린더 렌즈(104)는 슬릿(103)을 통과한 광을 빔편향기(105)에 선형으로 결상시킨다.
빔 스프리터(120)는 빔편향기(105) 및 fθ렌즈(107) 사이에서, 빔편향기(105) 및 fθ렌즈(107)와 동일 수평면 상에 배치되어, 실린더 렌즈(104)를 통과한 광 중 일부는 투과시키고, 일부는 반사시킨다. 상기 빔 스프리터(120)는 입사된 광 중 50%를 투과시키는 하프 미러를 사용하는 것이 바람직하다.
빔편향기(105)는 빔 스프리터(120)로부터 반사된 광을 수평방향으로 등선속으로 이동시켜 스캐닝(scanning)한다. 빔편향기(105)로 입사되는 광의 경로는 빔편향기(105)로부터의 광 반사경로와 대략 반대 방향이 된다. 상기 빔편향기(105)를 화살표 A 방향으로 회전시키면, 광은 화살표 B 방향(주주사방향)으로 광주사되어 감광체(109)의 표면에 화상정보를 기록한다. 이 빔편향기(105)의 예로 도시된 바와 같은 구조의 폴리곤미러장치를 들 수 있다. 이 폴리곤미러장치는 폴리곤미러(105a)를 소정의 속도로 회전시키는 구동원(106)과, 이 구동원(106)에 대해 회전 가능하게 설치된 폴리곤미러(105a)를 포함한다. 폴리곤미러(105a)는 그 측면에 형성된 복수의 반사면(105b)을 포함하는 것으로, 회전 구동되면서 입사광을 편향 주사시킨다. 여기서 빔편향기(105)는 상기한 구조의 폴리곤미러장치에 한정되는 것은 아니며, 입사광을 편향 주사시키는 홀로그램 디스크 타입 빔편향기, 갈바노미터 타입 주사장치 등을 채용하는 것도 가능하다.
fθ렌즈(107)는 빔편향기(105)와 결상용 미러(108) 사이의 광경로 상에 배치된다. fθ렌즈(107)는 적어도 일 매의 렌즈로 구성되는 것으로, 빔편향기(105)에서 편향된 광을 주주사방향(B방향)과 부주사방향에 대해 서로 다른 배율로 보정하여 감광체(109)에 결상되도록 한다. 여기서, 부주사방향은 감광체(109)의 회전 방향을 말하며, 주주사방향은 도시된 바와 같이 감광체(109)의 축방향(B방향) 즉, 빔편향기(105)를 통하여 광이 편향되는 방향을 가리킨다. 상기 fθ렌즈(107)는 생산성 향상 및 가격 절감을 위해 플라스틱으로 사출성형되는 것이 바람직하다.
결상용 미러(108)는 fθ렌즈(107)를 통과한 광을 반사시켜 결상면인 감광체(109)의 피노광면에 점상으로 결상시킨다. 결상용 미러(108)는 피노광면으로 향하는 주사선이 감광체(109)의 회전 방향인 부주사방향과 직각을 이루도록 경사지게 배치된다.
동기신호검출부(115)는 광원(101)에서 조사된 광의 일부를 수광하여, 주사광의 수평동기를 맞추어 준다. 이를 위하여, 동기신호검출부(115)는 빔편향기(105)에서 편향되고, fθ렌즈(107)를 투과한 광의 일부를 수광하는 동기신호검출센서(111)와, fθ렌즈(107)와 동기신호검출센서(111) 사이에 배치되어 입사광의 진행 경로를 바꾸어주는 반사 미러(114)와, 이 반사 미러(114)에서 반사된 광을 집속시키는 집속렌즈(112)를 포함한다.
상기 반사 미러(114)는 본 발명인 미러 지지 장치에 장착되어 광학계 상에 배치될 수 있다.
이하에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 광주사장치의 동작을 설명한다.
빔 스프리터(120)는 fθ렌즈(107)와 폴리곤 미러(105) 사이에 배치된다. 화상신호에 따라 광원(101)은 구동회로에 의해 온/오프 제어되면서 화상 신호에 대응되는 적어도 하나의 광을 생성 조사한다. 광원(101)으로부터 콜리메이터 렌즈(102), 슬릿부(103) 및 실린더 렌즈(104)를 통과한 광은 빔 스프리터(120)에서 반사되어 fθ렌즈(107)의 중앙부로 입사되며, fθ렌즈(107)를 통과한 광은 빔편향기(105)의 반사면에 입사된다. 빔편향기(105)의 반사면에서 반사된 광은 다시 fθ렌 즈(107)의 중앙부를 통과하여 결상용 미러(108)에서 광경로가 꺾여서 감광체(109)의 표면에 결상된다. 동기신호검출센서(111)는 fθ렌즈(107)를 통과한 광을 수광하여 수평 동기를 맞추어 주고, 미러 지지 장치에 결합된 반사 미러(114)는 동기신호검출센서(111) 측으로 광을 반사시켜 준다.
도시된 결상용 미러(108)와 같이 광경로상에 배치되는 미러 중에는 프레임에 경사지게 배치되어 입사되는 광의 경로를 바꾸어주는 미러가 있다.
이하에서는 상기와 같이 프레임에 경사지게 장착되는 미러를 지지하는 미러 지지 장치를 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 5는 도 4의 미러 지지 장치를 도시한 측면도이다.
도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치는 주주사 방향을 따라 길게 형성된 미러(200)의 길이 방향 양단부를 가압하여 미러(200)를 프레임(210)에 고정시키는 장치이다. 이하에서는 설명의 편의를 위해 도면에 도시된 미러 지지 장치 중 상기 미러(200)의 길이 방향 일단부를 고정 지지하는 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.
도 6은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치를 도시한 분리 사시도이고, 도 7은 도 6의 미러 지지 장치를 결합한 결합도이다.
도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미러 지지 장치는 미러(200)와, 프레임(210)과, 탄성부재(240)를 구비한다. 미러(200)는 입사되는 광(L)을 소정의 방향으로 반사시키는 반사면(202)을 구비한다.
프레임(210)은 안착부(212)와, 지지부(213)와, 가이드부(214)를 구비한다. 안착부(212)는 상기 프레임(210)에 경사지게 형성된다. 안착부(212)에는 미러(200)가 경사지게 장착된다. 안착부(212)의 하측에는 지지부(213)가 마련된다. 지지부(213)는 안착부(212)의 하측에 돌출되게 형성되어 미러(200)의 하면을 접촉 지지하는 것으로, 안착부(212)에 장착된 미러(200)가 안착부(212)에서 미끄러지는 것을 방지한다. 가이드부(214)는 프레임(210)의 상측에 돌출되게 형성된다. 가이드부(214)에는 후술하는 탄성부재(240)의 가이드공(242)이 끼워져, 탄성부재(240)의 결합 위치를 결정한다. 또한, 프레임(210)의 상측에는 가이드부(214)와 소정 간격 이격되게 배치되는 것으로, 탄성부재(240)의 결합공(244)이 결합되는 결합공(218)이 형성된다. 결합공(218)에는 탄성부재(240)를 프레임(210)에 고정시키기 위해 도시되지 않은 스크류 등이 결합된다.
도 8은 도 6의 미러 지지 장치 중 탄성부재를 도시한 사시도이고, 도 9는 도 8의 탄성부재를 도시한 저면도이며, 도 10은 미러 지지 장치를 도시한 측단면도이다. 또한, 도 11은 탄성부재의 다른 실시예를 도시한 사시도이고, 도 12는 도11의 탄성부재를 구비하는 미러 지지 장치를 도시한 측단면도이며, 도 13은 탄성부재의 다른 실시예를 도시한 사시도이고, 도 14는 도13의 탄성부재를 구비하는 미러 지지 장치를 도시한 측단면도이다.
도 8 내지 도 10을 참조하면, 탄성부재(240)의 일측은 프레임(210)의 상측(211)에 고정되고 타측은 미러(200)의 일면을 가압하여 미러(200)를 안착부(212)에 고정시킨다. 즉, 탄성부재(240)는 안착부(212)에 장착되는 미러(200)의 반대면을 가압하여 미러(200)를 안착부(212)에 탄력적으로 고정시킨다. 도시된 바와 같이, 탄성부재(240)는 미러(200)를 안착부(212)에 효율적으로 고정시키기 위해 프레임(210)의 형상에 따라 굴절되게 형성된다. 또한, 미러(200)의 일면을 가압하는 탄성부재(240)의 타측에는 미러(200)의 면과 나란하게 평판 형상의 플레이트부(250)가 형성된다. 상기 플레이트부(250)는 미러(200)의 일면(204)을 접촉 가압하여 미러(200)를 안착부(212)에 고정시키는 다수의 가압부를 구비한다.
다수의 가압부는 미러(200)를 안착부(212)의 일측부 쪽으로 가압하는 제1가압부(252)와, 미러(200)를 안착부(212)의 타측부 쪽으로 가압하는 제2가압부(254)를 구비하고, 제1가압부(252)와 제2가압부(254)는 서로 다른 높이에서 미러(200)와 접촉되는 것이 바람직하다. 여기에서 안착부(212)의 일측부 및 타측부는 미러(200)의 폭 방향을 따라 위치되며, 미러(200)의 좌측부 및 우측부도 미러의 폭 방향을 따라 위치되고, 미러(200)의 양단부는 미러(200)의 길이 방향(상기 폭 방향과 수직한 방향이다.)을 따라 위치된다고 정의한다. 상기 안착부의 일측부는 좌측부이며 상기 안착부의 타측부는 우측부인 것이 바람직하다. 도 4 및 도 7을 참조하면, 미러(200)는 길이 방향을 따라 길게 연장되며, 상기 길이 방향을 따라 길게 연장되는 미러(200)의 중심부(미도시)를 따라 광(L)이 입사된다. 제1가압부(252)와 제2가압부(254)는 미러(200)의 폭 방향 일측부 및 타측부에 각각 마련되며 서로 이격된다. 즉, 제1가압부(252)와 제2가압부(254)는 중심부를 기준으로 서로 다른 위치에서 미러(200)를 가압한다. 뿐만 아니라, 제1가압부(252)와 제2가압부(254)는 미러(200)의 길이 방향을 따라 서로 이격된 위치에서 미러(200)를 지지한다. 또한, 미러(200)의 길이 방향 양단부에 각각 마련되는 한 쌍의 제1가압부(252)는 미러(200)의 길이 방향을 따라 일직선상에 위치하고, 한 쌍의 제2가압부(254)도 미러(200)의 길이 방향을 따라 일직선상에 위치하는 것이 바람직하다. 제1가압부(252)와 제2가압부(254)가 이와 같이 대칭적으로 배치되면, 보다 안정적으로 미러(200)를 안착부(212)에 고정시킬 수 있다.
제1, 제2가압부(252, 254)와 미러(200)는 면접촉이나 선접촉, 점접촉 중 어느 하나 이상의 방법으로 접촉되는 것이 바람직하다. 즉, 제1, 제2가압부(252, 254) 중 미러(200)와 접촉되는 부분의 형상에 따라 제1, 제2가압부(252, 254)와 미러(200)의 접촉 방식이 결정된다. 도 11 내지 도 14에 도시된 바와 같이 제1, 제2가압부(252, 254)와 미러(200)는 선접촉되거나, 면접촉되도록 구성될 수 있다. 또한, 제1가압부(252)는 선접촉되고, 제2가압부(254)는 면접촉되도록 구성될 수도 있다.
이하에서는 제1, 제2가압부(252, 254)와 미러(200)가 점접촉되는 경우를 예로 들어 설명한다.
도 10을 참조하면, 제1, 제2가압부(252, 254)는 돌출되게 형성되어 미러(200)와 접촉되는 돌출부(253, 255)를 구비한다. 따라서, 탄성부재(240)에 의해 미러(200)에 가해지는 가압력은 각각의 돌출부(253, 255)를 통해 미러(200)에 전달된다. 상기와 같이 탄성부재(240)의 일측에 돌출되게 형성된 돌출부(253, 255)를 통해 탄성부재(240)는 보다 강한 힘으로 미러(200)를 안착부(212)에 고정시킬 수 있다. 돌출부(253, 255)의 돌출 높이가 클수록 미러(200)를 안착부(212)에 강하게 고정시킬 수 있다.
외력에 의한 충격이 광주사장치에 가해지면 그 충격으로 인해 미러(200)의 장착 위치가 변동될 수 있다. 이와 같은 미러(200)의 위치 변동을 방지하기 위해 돌출부(253, 255)는 크기가 서로 다르게 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 제1, 제2가압부(252, 254)에 형성된 돌출부(253, 255)는 서로 다른 높이에서 미러(200)의 좌측부와 우측부를 가압하므로, 미러(200)의 상측을 가압하는 돌출부(253)의 높이를 크게 하면 미러(200)의 움직임을 보다 효과적으로 구속할 수 있다.
제1, 제2가압부(252, 254)에 형성된 돌출부(253, 255)는 반경 및 높이가 각각 다른 반구형인 것이 바람직하다. 미러(200)를 안착부(212)에 안정되게 고정시키기 위해 각각의 돌출부(253, 255) 중 미러(200)의 상측을 가압하는 돌출부(253)는 미러(200)의 하측을 가압하는 돌출부(255)보다 돌출되게 형성되는 것이 바람직하다.
제1, 제2가압부(252, 254)가 미러(200)를 독립적으로 가압하도록 제1가압부(252)와 제2가압부(254) 사이에는 안착부(212)의 경사면과 나란하게 아래 방향으로 개방된 개방부(260)가 형성된다. 따라서, 제1가압부(252)와 제2가압부(254)는 다른 가압부의 크기나 형상 등에 관계없이 미러(200)를 소정의 힘으로 가압할 수 있다.
도 10을 참조하면, 플레이트부(250)에는 안착부(212)에 장착된 미러(200)의 상면을 탄력적으로 가압하는 제3가압부(256)가 더 구비될 수 있다. 제3가압부(256)는 플레이트부(250)와 수직되게 형성된 평판 형상을 가지며, 미러(200)가 안착부(212)에 고정되도록 미러(200)를 지지부(213) 쪽으로 가압한다. 제3가압부(256)에는 미러(200)를 더 강한 힘으로 고정시키기 위해 미러(200)의 상면과 접촉되는 돌출부(257)가 형성된다. 또한, 탄성부재(240)의 상측에는 전술한 가이드공(242)과 결합공(244)이 각각 형성된다. 상기 탄성부재(240)는 스테인리스강(stainless steel)으로 제조되는 판스프링인 것이 바람직하다.
상술한 바와 같이 본 실시예에서는 탄성부재(240)가 미러(200)의 반사면의 반대면(204)을 가압하여 미러(200)를 안착부(212)에 고정시키는 경우를 예로 들어 설명하였다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 아니하며 다양한 변형 실시가 가능하다. 예를 들어, 탄성부재(240)가 미러(200)의 반사면(202)을 가압하여 미러를 고정시킬 수도 있다. 이러한 변형례는 본 발명의 일 실시예로서, 본 발명의 기술적 범위를 제한하지 않는다.
또한, 본 실시예에서는 미러(200)를 고정시키기 위해 제1가압부(252)가 미러(200)의 좌측을, 제2가압부(254)가 미러(200)의 우측을 가압하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 제1가압부(252)가 미러(200)의 우측을, 제2가압부(254)가 미러의 좌측을 가압하여 미러(200)를 고정시킬 수도 있다. 즉, 제1가압부(252)는 미러(200)의 일측을 가압하고, 제2가압부(254)는 미러(200)의 타측을 가압하여 미러(200)를 고정시킨다.
종래의 미러 지지 장치는 제작상의 실수 등으로 인해 안착부에 기구적인 오차가 발생될 경우 미러가 한 쪽 방향으로 들뜨거나, 또는 미러에 작용되는 가압력이 저하될 수 있다. 그러나, 본 발명의 미러 지지 장치에 있어서 안착부(212)에 장착된 미러(200)는 도 7에 도시된 바와 같이 제1, 제2가압부(252, 254)에 의해 화살표 방향으로 F1, F2의 힘을 받는다. 즉, 본 발명에 있어서 제1, 제2가압부(252, 254)는 높이를 달리하여 미러(200)의 좌측과 우측을 고정시키므로 상기와 같은 기구적인 오차가 발생되더라도 미러(200)를 보다 안정적으로 프레임(210)에 고정시키게 된다. 따라서, 외력에 의한 충격시 미러(200)의 들뜸 현상이나 고정력 저하로 인해 발생되던 미러(200)의 진동이나, 미러(200)의 틀어짐을 방지할 수 있다.
그리고, 제1, 제2가압부(252, 254)를 돌출되게 형성함으로써 미러(200)를 안착부(212)에 보다 강하게 고정시킬 수 있다. 또한, 제1가압부(252)와 제2가압부(254) 사이에 개방부(260)를 형성하여 제1가압부(252)와 제2가압부(254)가 각각 독립적으로 미러(200)를 가압할 수 있다. 따라서, 미러(200)를 안착부(212)에 보다 안정적으로 고정시킬 수 있다. 또한, 상기와 같이 배치된 돌출부(253, 255)의 길이 및 반경을 각각 다르게 구성하여 미러(200)의 회전 방향으로의 움직임을 보다 강하게 구속할 수 있다.
상술한 바와 같은 구성에 의하면, 본 발명은 종래 발명과 달리 미러(200)를 프레임(210)에 고정시 기구적인 오차로 인한 미러(200)의 편심이나 들뜸 등을 방지할 수 있으며, 또한 미러(200)를 프레임(210)에 보다 강하게 고정시킬 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치는 종래 발명과 달리 미러를 프레임에 고정시키는 고정력을 향상시킬 수 있다. 따라서, 충격시 미러의 들뜸이나 편심, 고정력 부족으로 인해 발생되는 미러의 틀어짐 등을 방지할 수 있고, 또한 이로 인한 광 정렬 불량이나 화상품질 불량을 개선할 수 있다.
본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 하여 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 아래의 특허청구범위에 의해서 정하여져야 할 것이다.

Claims (16)

  1. 삭제
  2. 입사되는 광을 반사시키는 미러와, 상기 미러가 경사지게 장착되는 안착부를 구비하는 프레임과, 일측은 상기 프레임의 상측에 고정되고 타측은 상기 미러의 일면을 가압하여 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 탄성부재를 구비하는 미러 지지 장치에 있어서,
    상기 탄성부재는,
    폭 방향에 수직한 방향으로 길게 형성된 상기 미러의 일면을 탄력적으로 눌러 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 것으로, 상기 폭 방향을 따라 상기 미러를 상기 안착부의 일측부 쪽으로 가압하는 제1가압부와, 상기 미러를 상기 안착부의 타측부 쪽으로 가압하는 제2가압부를; 구비하고,
    상기 제1가압부와 상기 제2가압부는 상기 폭 방향에 수직한 방향을 따라 서로 이격된 위치 및 상기 광이 입사되는 상기 미러의 중심부를 기준으로 서로 다른 위치에서 상기 미러와 접촉되는 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 안착부의 일측부는 좌측부이며, 상기 안착부의 타측부는 우측부인 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  4. 제2항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부와 상기 미러는 면접촉이나 선접촉, 점접촉 중 어느 하나 이상의 방법으로 접촉되는 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  5. 제2항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부는,
    상기 탄성부재에 돌출되게 형성되어 상기 미러와 접촉되는 돌출부를; 구비하는 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 크기가 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 반구형인 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 반경 및 높이가 서로 다른 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 각각의 돌출부 중 상기 미러의 상측을 가압하는 돌출부의 높이는 상기 미러의 하측을 가압하는 돌출부의 높이보다 큰 것을 특징으로 하는 미러 지지 장 치.
  10. 제2항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 탄성부재에는 상기 제1가압부와 상기 제2가압부 사이에 형성되는 것으로, 상기 안착부의 경사면과 나란하게 아래 방향으로 개방되어 있는 개방부;가 형성되는 것을 특징으로 하는 미러 지지 장치.
  11. 삭제
  12. 광원과 피노광체 사이의 광경로 상에 배치되어 입사되는 광을 반사시키는 미러와, 상기 미러를 지지하는 미러 지지 장치를 갖는 광주사장치에 있어서,
    상기 미러 지지 장치는,
    상기 미러가 경사지게 장착되는 안착부를 구비하는 프레임과, 일측은 상기 프레임의 상측에 고정되고 타측은 상기 미러의 일면을 가압하여 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 탄성부재를; 구비하고,
    상기 탄성부재는,
    폭 방향에 수직한 방향으로 길게 형성된 상기 미러의 일면을 탄력적으로 눌러 상기 미러를 상기 안착부에 고정시키는 것으로, 상기 폭 방향을 따라 상기 미러를 상기 안착부의 일측부 쪽으로 가압하는 제1가압부와, 상기 미러를 상기 안착부의 타측부 쪽으로 가압하는 제2가압부를; 구비하며,
    상기 제1가압부와 상기 제2가압부는 상기 폭 방향에 수직한 방향을 따라 서로 이격된 위치 및 상기 광이 입사되는 상기 미러의 중심부를 기준으로 서로 다른 위치에서 상기 미러와 접촉되는 것을 특징으로 하는 광주사장치.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부는,
    상기 탄성부재에 돌출되게 형성되어 상기 미러와 접촉되는 돌출부를; 구비하는 것을 특징으로 하는 광주사장치.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 제1, 제2가압부에 형성된 상기 돌출부는 반구형인 것을 특징으로 하는 광주사장치.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 각각의 돌출부 중 상기 미러의 상측을 가압하는 돌출부의 높이는 상기 미러의 하측을 가압하는 돌출부의 높이보다 큰 것을 특징으로 하는 광주사장치.
  16. 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 탄성부재에는 상기 제1가압부와 상기 제2가압부 사이에 형성되는 것으로, 상기 안착부의 경사면과 나란하게 아래 방향으로 개방되어 있는 개방부;가 형성되는 것을 특징으로 하는 광주사장치.
KR1020040108400A 2004-12-18 2004-12-18 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치 KR100644668B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040108400A KR100644668B1 (ko) 2004-12-18 2004-12-18 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치
CNB2005101246207A CN100430773C (zh) 2004-12-18 2005-11-14 反光镜支承装置和使用该装置的光学扫描装置
US11/304,758 US7760410B2 (en) 2004-12-18 2005-12-16 Mirror support device and optical scanning apparatus adopting the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040108400A KR100644668B1 (ko) 2004-12-18 2004-12-18 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060069728A KR20060069728A (ko) 2006-06-22
KR100644668B1 true KR100644668B1 (ko) 2006-11-10

Family

ID=36595341

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040108400A KR100644668B1 (ko) 2004-12-18 2004-12-18 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7760410B2 (ko)
KR (1) KR100644668B1 (ko)
CN (1) CN100430773C (ko)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4106369B2 (ja) * 2005-03-31 2008-06-25 日本特殊陶業株式会社 ガスセンサ制御装置
KR20080002159A (ko) * 2006-06-30 2008-01-04 삼성전자주식회사 광학부품 지지장치, 이를 포함하는 광주사장치 및화상형성장치
US20090310200A1 (en) * 2008-06-16 2009-12-17 Hoya Corporation Electrostatic actuator
US8319813B2 (en) * 2009-08-03 2012-11-27 Lexmark International Inc. Mounting assembly for reflection mirror in laser scanning unit
TWI403757B (zh) * 2009-09-25 2013-08-01 Asia Optical Co Inc Optical path control device
CN101767553B (zh) * 2010-03-16 2012-06-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 万向转动的车载仪器及其仪器底座
JP5427831B2 (ja) * 2010-11-25 2014-02-26 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 光学部品取付構造及びそれを備えた画像読取装置及びそれを備えた画像形成装置
DE102011107594A1 (de) * 2011-07-16 2013-01-17 Valeo Schalter Und Sensoren Gmbh Optische Messvorrichtung für ein Fahrzeug, Fahrerassistenzeinrichtung mit einer derartigen Messvorrichtung sowie Fahrzeug mit einer entsprechenden Messvorrichtung
KR101873035B1 (ko) * 2012-01-11 2018-07-02 에이치피프린팅코리아 주식회사 광주사장치 및 이를 채용한 화상형성장치
JP6157128B2 (ja) * 2013-01-29 2017-07-05 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP6108850B2 (ja) 2013-01-30 2017-04-05 キヤノン株式会社 走査光学装置及びそれを備えた画像形成装置
JP6128988B2 (ja) * 2013-06-26 2017-05-17 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP2015099178A (ja) * 2013-11-18 2015-05-28 株式会社リコー 光学装置、光走査装置及び画像形成装置
JP6366299B2 (ja) * 2014-02-28 2018-08-01 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP2016009103A (ja) * 2014-06-25 2016-01-18 船井電機株式会社 光学機器
JP6618257B2 (ja) * 2015-01-08 2019-12-11 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP6333430B2 (ja) * 2017-03-08 2018-05-30 キヤノン株式会社 走査光学装置及びそれを備えた画像形成装置
JP6849493B2 (ja) * 2017-03-10 2021-03-24 キヤノン株式会社 光走査装置及び画像形成装置
JP2021131483A (ja) * 2020-02-20 2021-09-09 株式会社日立エルジーデータストレージ 光源モジュール
JP2021162699A (ja) * 2020-03-31 2021-10-11 キヤノン株式会社 光学走査装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10221627A (ja) 1997-02-12 1998-08-21 Ricoh Co Ltd 光走査装置
JPH11153770A (ja) * 1997-11-20 1999-06-08 Canon Inc 光偏向走査装置
JP2002267984A (ja) * 2001-03-08 2002-09-18 Canon Inc 走査光学装置
JP2002277785A (ja) 2001-03-21 2002-09-25 Ricoh Co Ltd 光走査装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US636117A (en) * 1899-06-12 1899-10-31 Augustus Steiger Cooper Apparatus for raising bituminous sand from wells and separating bitumen from its impurities.
JPS59111614A (ja) 1982-12-18 1984-06-27 Akai Electric Co Ltd 90゜偏向ミラ−角度調整装置
JPS61278811A (ja) 1985-06-05 1986-12-09 Toshiba Corp ミラ−支持装置
KR910000652B1 (ko) 1987-12-10 1991-01-31 재단법인 한국전자통신연구소 전자교환기의 dtmf 신호 수신방식
JPH02118121A (ja) 1988-10-25 1990-05-02 Osaka Gas Co Ltd ピッチ系活性炭素繊維およびその製造方法
US5301060A (en) * 1989-11-30 1994-04-05 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Optical element
JP2579163Y2 (ja) * 1991-04-24 1998-08-20 旭光学工業株式会社 光学系の反射ミラー角度調整構造
JPH06324253A (ja) * 1993-05-17 1994-11-25 Fuji Xerox Co Ltd ミラー支持装置
JP3288873B2 (ja) * 1994-10-27 2002-06-04 旭光学工業株式会社 走査光学装置のミラー固定構造
US5669681A (en) * 1996-08-22 1997-09-23 Sony Corporation Mirror securing device
JPH11149053A (ja) * 1997-11-18 1999-06-02 Ricoh Co Ltd 画像形成装置
JP3472139B2 (ja) * 1998-06-11 2003-12-02 キヤノン株式会社 画像形成装置
JP2001083633A (ja) * 1999-09-13 2001-03-30 Ricoh Co Ltd 画像読取装置
US6361177B2 (en) * 1999-11-02 2002-03-26 Fujitsu Denso Ltd. Optical device fixing device
JP2002148547A (ja) 2000-11-13 2002-05-22 Brother Ind Ltd スキャナユニット及び画像形成装置
JP3913979B2 (ja) * 2000-12-15 2007-05-09 株式会社リコー 光走査装置及びそれを搭載した画像形成装置
US6490072B2 (en) * 2001-01-12 2002-12-03 Lexmark International, Inc. Mirror angle adjustment and mounting system for a laser scanner device
JP3528176B2 (ja) * 2001-01-30 2004-05-17 船井電機株式会社 光ピックアップのハーフミラー固定装置
JP2003090951A (ja) * 2001-09-17 2003-03-28 Fuji Photo Optical Co Ltd 帯板状部材の取付機構
JP4080208B2 (ja) * 2002-01-22 2008-04-23 フジノン株式会社 反射鏡の保持構造
JP4565261B2 (ja) * 2002-06-24 2010-10-20 株式会社ニコン 光学素子保持機構、光学系鏡筒及び露光装置
JP2004301971A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Fuji Photo Optical Co Ltd 光走査装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10221627A (ja) 1997-02-12 1998-08-21 Ricoh Co Ltd 光走査装置
JPH11153770A (ja) * 1997-11-20 1999-06-08 Canon Inc 光偏向走査装置
JP2002267984A (ja) * 2001-03-08 2002-09-18 Canon Inc 走査光学装置
JP2002277785A (ja) 2001-03-21 2002-09-25 Ricoh Co Ltd 光走査装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20060132881A1 (en) 2006-06-22
US7760410B2 (en) 2010-07-20
CN100430773C (zh) 2008-11-05
KR20060069728A (ko) 2006-06-22
CN1790090A (zh) 2006-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100644668B1 (ko) 미러 지지 장치 및 이를 구비하는 광주사장치
KR100456021B1 (ko) 동기신호 검출장치
KR100264030B1 (ko) 광 주사장치
KR100452854B1 (ko) 멀티빔 레이저 스캐닝유닛의 부주사 간격 조절장치
KR100657298B1 (ko) 미러 지지 장치, 이를 구비하는 광주사장치 및 전자사진방식 화상형성장치
US20070170262A1 (en) Laser scanning device
JP5153586B2 (ja) 光学走査装置
US6278108B1 (en) Synchronous light detector for optical scanning apparatus
JP3789770B2 (ja) 光走査装置及び画像形成装置
KR20050047169A (ko) 레이저 스캐닝 유닛의 반사미러 고정장치
KR100529339B1 (ko) 광주사장치
KR100601720B1 (ko) 광주사장치용 주사광학렌즈
JP4979081B2 (ja) 光走査装置
KR20060011325A (ko) 미러 지지 장치
KR20060039690A (ko) 미러 지지 장치
KR101236386B1 (ko) 광주사유니트 및 이를 채용한 화상형성장치
US20210302721A1 (en) Optical scanning apparatus
EP1055950A1 (en) Optical scanner and image forming apparatus
JP3126978B2 (ja) 走査光学装置
KR100395531B1 (ko) 광주사장치
KR20070008325A (ko) 광주사 유닛
JP2001296493A (ja) 光走査装置
KR20050100167A (ko) 주사 광학장치
KR20060019814A (ko) 미러 지지 장치
JPH11218715A (ja) 光走査装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121030

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131030

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141030

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151029

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161028

Year of fee payment: 11

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171025

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181018

Year of fee payment: 13